JP2009500796A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. ５μｍより長い波長を有するレーザビームを出力するレーザ装置と、
   照射サイトにおいて前記レーザビームと相互作用してＥＵＶ光放射プラズマを生成するための材料であって、当該プラズマによって生成されるデブリが錫を含むように、錫が含まれた材料と、
   前記錫が含まれるデブリにさらされる光学部品であって、前記レーザビームを前記照射サイトに向けて反射する光学部品と、
   を有するＥＵＶ光源。
2. 容器をさらに含み、前記照射サイトは前記容器の中にあり、前記反射光学器械は前記容器の内部に配置されている、請求項１に記載のＥＵＶ光源。
3. 前記容器はレーザ入力窓を有し、当該レーザ入力窓は軸から離されている、請求項２に記載のＥＵＶ光源。
4. さらに、前レーザ入力窓を保護する円錐形状の筐体を有する、請求項３に記載のＥＵＶ光源。
5. 前記レーザ装置は、ＣＯ₂を含む利得媒質を有している請求項１に記載のＥＵＶ光源。
6. レーザビームを出力するレーザ装置と、
   軸に沿って伝播する前記レーザビームを受光し、前記レーザビームを前記軸上の焦点位置に集束するよう配置された反射光学器械と、
   前記焦点位置において前記レーザビームと相互作用してＥＵＶ光放射プラズマを生成する材料と、
   を有するＥＵＶ光源。
7. 前記レーザ装置は、ＣＯ₂を含む利得媒質を有している請求項６に記載のＥＵＶ光源。
8. 容器をさらに含み、照射サイトは前記容器の中にあり、前記反射光学器械は前記容器の内部に配置されている、請求項６に記載のＥＵＶ光源。
9. 前記容器はレーザ入力窓を有し、当該レーザ入力窓は軸から離されている、請求項８に記載のＥＵＶ光源。
10. 前記材料は、錫を含むものである請求項８に記載のＥＵＶ光源。