KR102197066B1 - 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 - Google Patents

플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 기술적 사상은 플라즈마 점화가 용이하고, 플라즈마 세기를 극대화할 수 있으며, 발생한 플라즈마 광을 효과적으로 집광하여 출력함으로써, 고 휘도의 광원을 구현할 수 있는 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법을 제공한다. 그 플라즈마 광원은 플라즈마 점화(ignition)용 매체 물질을 수용하고, 점화원(ignition source)에 의해 플라즈마가 점화되며, 레이저(laser)가 입사되어 상기 플라즈마가 유지되는 챔버; 및 내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 제1 복합곡면거울(hybrid curved mirror)과 내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 복합거울이 서로 마주보는 구조로 배치되어, 상기 레이저 및 상기 챔버로부터의 방출된 플라즈마 광을 반사시키는 이중 복합거울;를 포함한다.

Description

플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법{Plasma light source, detecting apparatus comprising the same light source, and method for generating plasma light}
본 발명의 기술적 사상은 광원에 관한 것으로, 특히 노광 공정이나 검사 공정 등에서 이용되는 레이저 유도 플라즈마 광원에 관한 것이다.
노광 장치나 광 분석 장치 등에 사용되는 광원은 원하는 파장 대역의 발광 강도를 얻을 수 있고 또한 장시간의 수명이 요구된다. 이러한 광원의 하나로 레이저 구동 또는 유도 플라즈마 광원이 알려져 있다. 레이저 유도 플라즈마 광원은 석영 밸브 내에 봉입된 가스에 외부로부터 레이저 광선을 집광하여, 석영 밸브 내에 봉입된 가스를 레이저 광선으로 여기시켜 플라즈마를 발생시킴으로써, 봉입 가스의 성분 조성에 따른 스펙트럼 분포가 안정되고 발광 강도를 갖는 광을 제공한다. 최근 들어, 보다 고 휘도 광원이 요구되고 있으며, 이러한 고 휘도 광원을 구현하기 위하여 플라즈마 광원의 광량을 증가시키는 것이 필요하다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 과제는 플라즈마 점화가 용이하고, 플라즈마 세기를 극대화할 수 있으며, 발생한 플라즈마 광을 효과적으로 집광하여 출력함으로써, 고 휘도의 광원을 구현할 수 있는 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법을 제공하는 데에 있다.
상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 플라즈마 점화(ignition)용 매체 물질을 수용하고, 점화원(ignition source)에 의해 플라즈마가 점화되며, 레이저(laser)가 입사되어 상기 플라즈마가 유지되는 챔버; 및 내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 제1 복합곡면거울(hybrid curved mirror)과 내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 복합거울이 서로 마주보는 구조로 배치되어, 상기 레이저 및 상기 챔버로부터의 방출된 플라즈마 광을 반사시키는 이중 복합거울;를 포함하는 플라즈마 광원을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 점화원은 상기 이중 복합거울의 외부에서 입사된 마이크로파이고, 상기 복합거울은 제2 복합곡면거울이고, 상기 제1 복합곡면거울은 상기 챔버를 둘러싸되 제1 방향으로 오픈 되고, 내부 면은 광학 코팅되고 제1-1 곡률을 가지며, 외부 면은 금속 코팅되고 제1-2 곡률을 가지며, 상기 제2 복합곡면거울은 상기 제1 방향의 반대 방향으로 오픈 되고 상기 제1 방향으로 볼록하며, 내부 면은 광학 코팅되고 제2-1 곡률을 가지며, 외부 면은 금속 코팅되고 제2-2 곡률을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 상기 마이크로파를 반사시키며, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 마이크로파를 투과시키며, 상기 제1 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 레이저 및 상기 플라즈마 광을 반사시키고, 상기 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 플라즈마 광을 반사시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 상기 마이크로파에 대하여 공진기(resonator)를 구성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 타원 거울을 구성하고, 제2 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 구면 거울을 구성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 구면 거울의 초점은 상기 제1 복합곡면거울의 중앙 부분이고, 상기 중앙 부분에는 평면 거울이 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 구면 거울의 초점과 상기 타원 거울의 초점이 동일하며, 상기 초점 부분에 상기 챔버가 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 챔버 부분을 초점으로 하는 타원 거울을 구성하고, 상기 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 플라즈마 광의 출력 효율을 최적화하는 지점을 초점으로 하는 구면 거울을 구성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울과 상기 제2 복합곡면거울 사이에 파장에 따라 광을 반사하거나 투과하는 제1 이색 거울(dichroic mirror)을 더 포함하고, 상기 제1 이색 거울을 통해 상기 레이저가 상기 챔버에 입사되고, 상기 플라즈마 광이 상기 이중 복합거울의 외부로 출력될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 반사를 통해 상기 레이저를 상기 제1 이색 거울에 입사시키고 상기 제1 이색 거울로부터의 상기 플라즈마 광을 투과시켜 외부로 출력하는 제2 이색 거울을 상기 이중 복합거울의 외부에 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 복합곡면거울에는 상기 레이저를 입사시키기 위한 핀-홀이 형성되어 있고, 상기 핀-홀은 상기 마이크로파의 반파장 미만의 지름을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울과 상기 제2 복합곡면거울 사이에 이색 거울을 더 포함하고, 상기 이색 거울을 투과하여 상기 레이저가 상기 챔버에 입사되고, 상기 이색 거울에 의한 반사에 의해 상기 플라즈마 광이 외부로 출력될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 핀-홀에 인접하여 상기 이중 복합거울의 외부에 이색 거울을 더 포함하고, 상기 이색 거울에 의한 투과 또는 반사에 의해 상기 레이저가 상기 챔버에 입사되고, 상기 이색 거울에 의한 반사 또는 투과에 의해 상기 플라즈마 광이 외부로 출력될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 복합거울은 내부 면과 외부 면이 평면인 복합평면거울이고, 상기 제1 복합곡면거울은 상기 챔버를 둘러싸되 제1 방향으로 오픈 되고, 내부 면은 광학 코팅되고 제1-1 곡률을 가지며, 외부 면은 금속 코팅되고 제1-2 곡률을 가지며, 상기 복합평면거울의 내부 면은 상기 제1 복합곡면거울에 대향하고 광학 코팅되며, 외부 면은 금속 코팅될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울과 상기 복합평면거울 사이에 배치된 제1 이색 거울과 상기 이중 복합거울 외부에 배치된 제2 이색 거울을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 복합평면거울에는 상기 레이저를 입사시키기 위한 핀-홀이 형성되어 있고, 상기 제1 복합곡면거울과 상기 복합평면거울 사이에 배치되거나, 또는 상기 핀-홀에 인접하여 상기 이중 복합거울의 외부에 배치된 이색 거울을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 기술적 사상은 상기 과제를 해결하기 위하여, 플라즈마 점화용 매체 물질을 수용하고, 점화용 전자기파마이크로파가 입사되어 플라즈마가 점화되며, 레이저가 입사되어 상기 플라즈마가 유지되는 챔버; 및 제1 및 제2 복합곡면거울이 서로 마주보는 구조로 배치되어 구성된 이중 복합거울;을 포함하고, 상기 제1 복합곡면거울은 내부 면은 상기 레이저와 상기 챔버로부터의 방출된 플라즈마 광을 반사시키고, 상기 제2 복합곡면거울은 상기 플라즈마 광을 반사시키며, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울 각각의 외부 면은 상기 점화용 전자기파를 반사시키는 플라즈마 광원을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 점화용 전자기파는 마이크로파이고, 상기 제1 복합곡면거울은 상기 내부 면은 광학 코팅되고 상기 외부 면은 금속 코팅되며, 상기 제2 복합곡면거울은 상기 내부 면은 광학 코팅되고 상기 외부 면은 금속 코팅될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 복합곡면거울에는 핀-홀이 형성되어 있고, 상기 레이저는 상기 핀-홀을 통해 상기 챔버에 입사될 수 있다.
더 나아가, 본 발명의 기술적 사상은 상기 과제를 해결하기 위하여, 점화원을 이용하여 플라즈마가 점화되고 레이저를 이용하여 플라즈마가 유지되는 챔버, 및 상기 레이저와 상기 챔버로부터 방출된 플라즈마 광을 반사시키는 이중 복합거울을 구비한 플라즈마 광원; 검사 대상체가 배치되고 이동가능한 검사 스테이지; 상기 플라즈마 광원으로부터의 광을 반사 또는 투과하고 상기 검사 대상체로부터의 광을 투과 또는 반사하는 빔 스플리터(BS: Beam Splitter); 상기 플라즈마 광원으로부터 광을 상기 빔 스플리터로 전달하는 제1 광학계; 상기 빔 스플리터로부터의 반사된 광을 상기 검사 대상체로 전달하고 상기 검사 대상체로 반사된 광을 상기 빔 스플리터로 전달하는 제2 광학계; 및 상기 빔 스플리터를 투과하여 전달된 광을 수용하는 검출기;를 포함하는 검사 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이중 복합거울은, 각각 내부 면과 외부 면의 곡률과 코팅이 다른 제1 및 제2 복합곡면거울을 포함하거나, 또는 내부 면과 외부 면의 곡률과 코팅이 다른 복합곡면거울과, 내부 면과 외부 면의 코팅이 다르고 내부 면과 외부 면이 평면인 복합평면거울을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 점화원은 상기 이중 복합거울의 외부에서 입사된 마이크로파이고, 상기 이중 복합거울은 제1 및 제2 복합곡면거울을 포함하고, 상기 제1 복합곡면거울은 상기 챔버를 둘러싸되 제1 방향으로 오픈 되고, 내부 면은 광학 코팅되고, 외부 면은 금속 코팅되며, 상기 제2 복합곡면거울은 상기 제1 방향의 반대 방향으로 오픈 되고 상기 제1 방향으로 볼록하며, 내부 면은 광학 코팅되고, 외부 면은 금속 코팅되며, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 상기 마이크로파를 반사시키며, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 마이크로파를 투과시키며, 상기 제1 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 레이저 및 상기 플라즈마 광을 반사시키고, 상기 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 플라즈마 광을 반사시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 광원은 파장에 따라 광을 반사하거나 투과하는 적어도 하나의 이색 거울을 더 포함하고, 상기 이색 거울을 통해 상기 레이저를 상기 챔버에 입사시키고 상기 플라즈마 광을 외부로 출력할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 복합곡면거울 또는 복합평면거울에는 핀-홀이 형성되어 있고, 상기 레이저는 상기 핀-홀을 통해 상기 챔버에 입사될 수 있다.
한편, 본 발명의 기술적 사상은 상기 과제를 해결하기 위하여, 플라즈마 점화용 매체 물질을 수용하고 있는 챔버에 이중 복합거울을 이용하여 마이크로파를 입사시켜 플라즈마를 점화시키는 단계; 상기 챔버에 레이저를 입사시켜 플라즈마를 유지시키는 단계; 및 상기 챔버로부터 방출된 플라즈마 광을 상기 이중 복합거울을 이용하여 외부로 출력시키는 단계;를 포함하는 플라즈마 광 생성 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이중 복합거울은, 내부 면과 외부 면의 곡률이 다르고 상기 내면 면이 광학 코팅되고 상기 외부 면이 금속 코팅된 복합곡면거울, 및 내부 면과 외부 면이 평면이고 내부 면이 광학 코팅되고 외부 면이 금속 코팅된 복합평면거울을 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이중 복합거울은, 각각 내부 면과 외부 면의 곡률이 다르고 상기 내면 면이 광학 코팅되고 상기 외부 면이 금속 코팅된 제1 및 제2 복합곡면거울로 구성되며, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울의 상기 금속 코팅은 상기 마이크로파를 반사시키며, 상기 제1 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 마이크로파를 투과시키고 상기 레이저 및 상기 플라즈마 광을 반사시키며, 상기 제2 복합곡면거울의 상기 광학 코팅은 상기 마이크로파를 투과시키고 상기 플라즈마 광을 반사시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 복합곡면거울 사이에 이색 거울이 배치되고, 상기 이색 거울을 통해 상기 레이저가 상기 챔버로 입사시키고, 상기 이색 거울을 통해 상기 플라즈마 광을 외부로 출력시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 복합곡면거울에 핀-홀이 형성되고, 상기 핀-홀을 통해 상기 레이저를 상기 챔버에 입사시킬 수 있다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법은, 플라즈마 점화는 마이크로파를 통해 수행되고, 플라즈마 유지 및 세기 증가는 레이저를 통해 수행됨으로써, 기존 레이저 파워의 증가 방법과 챔버의 압력 조절 방법에 존재하는 문제를 해결할 수 있고, 그에 따라 플라즈마 광의 출력을 극대화할 수 있다.
또한, 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 광원에서는 이중 복합거울을 채용함으로써, 마이크로파와 레이저의 챔버로의 입사 효율을 증가시키고, 플라즈마 광의 출력을 증가시킬 수 있다. 한편, 적절한 곳에 이색 거울들을 배치함으로써, 플라즈마 광의 출력 증가와 함께 레이저 장치의 배치 위치나 플라즈마 광의 출력 방향에 대한 자유도를 증가킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울의 구조를 좀더 상세하게 보여주는 단면도이다.
도 3a는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 챔버로의 마이크로파의 입사 과정을 보여주는 개념도이다.
도 3b는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 플라즈마 광의 출력 과정을 보여주는 개념도이다.
도 3c는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 챔버로의 레이저의 입사 과정을 보여주는 개념도이다.
도 4 및 5는 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원에 적용되는 이중 복합 거울의 변형예들을 보여주는 구조도들이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원들에서 도파관과 이중 복합거울의 결합 구조를 보여주는 구조도들이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원에서 마이크로파 파장에 따라 공진기의 길이를 조정하는 원리를 보여주는 개념도이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예들에 따른 핀-홀을 통해 챔버에 레이저를 입사시키는 구조의 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다.
도 10 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예들에 따른 이중 복합거울에 평면 거울을 채용한 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다.
도 13 내지 도 18은 본 발명의 일 실시예들에 따른 챔버를 둘러싸는 곡면거울을 통과하여 챔버에 레이저를 직접 입사시키는 구조의 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다.
도 19은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광원을 구비한 검사 장치에 대한 블록 구조도이다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광 생성 방법을 보여주는 흐름도이다.
도 21 내지 도 25는 도 20의 플라즈마 광 생성 방법에서 플라즈마 유지 단계와 플라즈마 광 출력 단계를 좀더 구체적으로 보여주는 흐름도들이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 통상의 기술자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.
이하의 설명에서 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 연결된다고 기술될 때, 이는 다른 구성 요소와 바로 연결될 수도 있지만, 그 사이에 제3의 구성 요소가 개재될 수도 있다. 유사하게, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 상부에 존재한다고 기술될 때, 이는 다른 구성 요소의 바로 위에 존재할 수도 있고, 그 사이에 제3의 구성 요소가 개재될 수도 있다. 또한, 도면에서 각 구성 요소의 구조나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되었고, 설명과 관계없는 부분은 생략되었다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 한편, 사용되는 용어들은 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 플라즈마 광원(100)은 챔버(110), 이중 복합거울(120, double hybrid mirror), 마이크로파(microwave) 발생기(130), 및 레이저 발생기(도 13 내지 도 18의 160 참조)를 포함할 수 있다.
챔버(110) 또는 램프는 플라즈마 점화(ignition)용 매체 물질을 수용할 수 있다. 즉, 챔버(110)는 고체, 액체 또는 기체 상태의 플라즈마 점화용 매체 물질을 초기에 밀봉된 상태로 수용할 수 있다. 여기서, 플라즈마 점화용 매체 물질은 이온화 가능 매체 물질로 언급될 수도 있다. 이러한 챔버(110)는 지지체(미도시)에 의해 지지 되어 제1 복합곡면거울(122)에 고정될 수 있다.
챔버(110)는 예컨대, 유전 물질, 석영 물질, 수프라실(Suprasil) 석영, 사파이어, MgF2, 다이아몬드 또는 CaF2 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있다. 챔버(110)를 구성하는 물질은 수용되는 플라즈마 점화용 매체 물질 및/또는 챔버(110)로부터 생성 및 출력이 요구되는 파장의 플라즈마 광(P)을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 본 실시예에 있어서, 챔버(110)는 마이크로파, 레이저 및 자외선(UV rays)에 대하여 투과성 물질로 형성될 수 있다.
챔버(110)는 다양한 플라즈마 점화용 매체 물질을 수용할 수 있다. 예컨대, 플라즈마 점화용 매체 물질은 희가스(noble gas), Xe, Ar, Ne, Kr, He, D2, H2, O2, F2, 금속 할로겐화물, 할로겐, Hg, Cd, Zn, Sn, Ga, Fe, Li, Na, 엑시머 형성 가스, 공기, 증기, 금속 산화물, 에어로졸, 유동 매체, 또는 재생 매체 중 적어도 하나일 수 있다.
한편, 이에 한하지 않고, 챔버(110) 내에 고체 또는 액체 타겟(미도시)이 형성되어 있고, 이러한 타겟을 이용하여 챔버(110) 내에서 플라즈마 점화용 매체 물질이 생성될 수도 있다. 예컨대, 레이저를 챔버(110) 내의 타겟에 조사함으로써, 플라즈마 점화용 매체 물질이 생성되도록 할 수 있다. 타겟은 금속 풀(pool) 또는 금속 필름일 수 있다. 타겟은 챔버(110) 내에서 이동하는 고체 또는 액체(예컨대, 챔버(110) 내에서 이동하는 액체 방울(droplet) 형태)일 수 있다.
이러한 플라즈마 점화용 매체 물질은 챔버(110) 내로 유입되어 플라즈마를 점화(ignition)에 이용되는 물질이며, 마이크로파를 이용하여 용이하게 플라즈마를 점화시킬 수 있는 물질일 수 있다. 플라즈마가 점화되면 챔버(110)로 레이저에 의한 에너지가 공급됨으로써, 플라즈마 세기가 유지 및 극대화될 수 있다. 마이크로파를 이용한 플라즈마 점화와 레이저를 이용한 플라즈마 유지에 대해서는 이하의 마이크로파 발생기와 레이저 발생기에 대한 설명 부분에서 좀더 상세히 기술한다. 한편, 본 실시예의 챔버(110)에서, 플라즈마 점화가 마이크로파를 이용하여 수행되므로, 챔버(110) 내에 전극은 존재하지 않을 수 있다.
이중 복합거울(120)은 제1 복합곡면거울(122, hybrid curved mirror)과 제2 복합곡면거울(124)을 포함할 수 있다. 이중 복합거울(120)은 마이크로파(M)와 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시키고, 또한 챔버로부터 방출된 플라즈마 광(P)의 출력을 증가시킬 수 있다.
제1 복합곡면거울(122)은 챔버(110)를 둘러싸되 제1 방향(x 방향)으로 오픈 된 구조를 가질 수 있다. 예컨대, 제1 복합곡면거울(122)은 전체적으로 계란과 같은 형태의 타원형의 구가 일부 잘리고 남은 형태와 유사할 수 있다.
이러한 제1 복합곡면거울(122)은 외부 면과 내부 면의 곡률이 다르고, 외부 면과 내부 면에 각각 다른 물질이 코팅될 수 있다. 예컨대, 외부 면은 금속 코팅될 수 있고, 내부 면은 광학 코팅될 수 있다. 금속 코팅은 마이크로파를 포함한 대부분의 전자기파를 반사시키기 위하여 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면에 형성될 수 있다. 한편, 광학 코팅은 요구되는 파장 대역의 전자기파를 반사시키고, 나머지 파장 대역의 전자기파는 투과되도록 하기 위하여 제1 복합곡면거울(122)의 내부 면에 형성될 수 있다.
한편, 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면, 즉 금속 코팅이 타원 거울을 구성하는 경우에, 외부 면은 챔버(110)가 위치하는 부분을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 또한, 내부 면, 즉 광학 코팅이 타원 거울을 구성하는 경우에, 내부 면은 챔버(110)가 위치하는 부분을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 전술한 바와 같이 외부 면과 내부 면의 곡률은 서로 다를 수 있다. 그러나 외부 면과 내부 면의 초점이 챔버(110)가 위치하는 곳이라는 조건을 만족시키는 경우에, 외부 면과 내부 면의 곡률이 동일하게 되는 것을 배제하는 것은 아니다.
지금까지 타원 거울을 예로 설명하였지만, 본 실시예의 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면과 내부 면의 형태는 타원 거울에 한하는 것은 아니다. 예컨대, 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면과 내부 면은 다양한 곡면(curved)거울 형태를 가질 수 있다. 여기서, 곡면거울은 구면 거울을 포함할 수 있다. 이러한 곡면거울 형태의 외부 면 또는 내부 면을 통해 광을 챔버(110)가 위치하는 곳으로 향하도록 할 수 있다.
제2 복합곡면거울(124)은 제1 방향과 반대 방향((-)x 방향)으로 오픈 되고 제1 방향으로 볼록한 구조를 가질 수 있다. 예컨대, 제2 복합곡면거울(124)은 전체적으로 축구공 같은 형태의 원형 구가 일부 잘리고 남은 형태와 유사할 수 있다.
이러한 제2 복합곡면거울(124)은 외부 면과 내부 면의 곡률이 다르고 각각 다른 물질로 코팅될 수 있다. 예컨대, 외부 면은 금속 코팅될 수 있고, 내부 면은 광학 코팅될 수 있다. 금속 코팅은 마이크로파를 포함한 모든 전자기파를 반사시키기 위하여 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면에 형성될 수 있다. 한편, 광학 코팅은 요구되는 파장 대역의 전자기파는 반사시키고, 나머지 파장 대역의 전자기파는 투과되도록 하기 위하여 제2 복합곡면거울(124)의 내부 면에 형성될 수 있다.
한편, 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면, 즉 금속 코팅이 구면 거울을 구성하는 경우에, 외부 면은 챔버(110)가 위치하는 부근을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 그러나 반드시 외부 면이 챔버(110)가 위치하는 부분을 정확히 초점으로 하는 곡률을 가질 필요는 없다. 예컨대, 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면이 타원 거울을 구성하는 경우에, 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면의 초점이 챔버(110)에 인접하는 곳에 배치되더라도 제1 복합곡면거울(122)의 외부 면을 통해 광이 챔버(110)로 입사될 수 있다.
제2 복합곡면거울(124)의 내부 면, 즉 금속 코팅이 구면 거울을 구성하는 경우에, 내부 면은 플라즈마 광의 출력을 최대로 할 수 있는 곳을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 차후에 설명하겠지만, 제2 복합곡면거울(124)의 내부 면은 플라즈마 광의 반사에만 기여하고, 챔버로 어떤 광을 입사시키는 기능을 하지 않을 수 있다. 따라서, 다른 면들과 달리 챔버(110)를 초점으로 할 필요가 없다.
전술한 바와 같이 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면과 내부 면의 곡률은 서로 다를 수 있다. 그러나 외부 면의 초점이 챔버(110)가 위치하는 곳이고 또한 내부 면의 초점이 플라즈마 광의 출력을 최대로 할 수 있는 곳이라는 조건을 만족시키는 경우에, 외부 면과 내부 면의 곡률이 동일하게 되는 것을 배제하는 것은 아니다.
지금까지 구면 거울을 예로 설명하였지만, 본 실시예의 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면과 내부 면의 형태는 구면 거울에 한하는 것은 아니다. 예컨대, 제2 복합곡면거울(124)의 외부 면과 내부 면은 다양한 곡면거울 형태를 가질 수 있다. 여기서, 곡면거울은 타원 거울을 포함할 수 있다. 이러한 곡면거울 형태의 외부 면 또는 내부 면을 통해 광을 챔버(110)가 위치하는 곳으로 향하도록 하거나 또는 플라즈마 광의 출력을 최대로 할 수 있다.
마이크로파 발생기(130)는 마이크로파(M)를 생성하여 챔버(110)에 입사시킬 수 있다. 마이크로파 발생기(130)는 예컨대, 마그네트론(magnetron)일 수 있다. 마그네트론은 마이크로파 발진에 사용되는 진공관의 일종으로, 동축의 원통 중 내부 원통을 음극, 외부 원통을 양극으로 하는 2 극관을 만들고, 축 방향으로 직류자기장을 걸어 고주파인 마이크로파를 발진시키는 전자관으로서, 자전관이라고도 한다. 참고로, 마이크로파는 주파수가 매우 높은 전자파의 일종으로, 예컨대 중파와 센티미터파에 해당하는 300MHz~30GHz까지의 전자파를 일컫는다.
한편, 낮은 압력의 챔버 내에서, 전자의 평균자유행로(mean free path)는 상대적으로 길어진다. 즉, 낮은 압력의 챔버 내에서는 전자 진동(가속) 중에 충돌 빈도가 상대적으로 낮으므로, 마이크로파에 의해 전자들의 진동(가속)이 쉬워져 물질이 쉽게 이온화되는 에너지까지 도달하기가 용이할 수 있다. 그에 따라, 마이크로파를 이용하여 낮은 압력의 챔버 내에서 플라즈마를 용이하게 점화할 수 있다. 본 실시예에의 플라즈마 광원에서는 상기 원리에 기초하여, 처음에 낮은 압력의 챔버 내에서 마이크로파(M)를 이용하여 플라즈마 점화를 수행하고, 플라즈마가 점화되면 챔버에 레이저(L)를 입사하여 플라즈마를 유지시키며, 또한 레이저(L)의 파워를 한계점까지 올림으로써 플라즈마의 세기를 극대화할 수 있다. 즉, 본 실시예에의 플라즈마 광원은 플라즈마의 점화와 유지를 마이크로파(M)와 레이저(L)를 이용하여 분리하여 수행함으로써, 전술한 레이저의 파워 증가 방법과 챔버의 압력을 낮추는 방법에서의 단점들을 보완하여 플라즈마 세기를 극대화시킬 수 있다.
마이크로파 발생기(130)에서 생성된 마이크로파(M)는 도시된 바와 같이 도파관(132, waveguide)을 통해 챔버(110)에 입사될 수 있다. 이와 같이 도파관(132)을 이용하여 마이크로파(M)를 전달함으로써, 마이크로파(M)의 에너지 전달 효율을 높일 수 있다. 그러나 도파관(132) 없이 마이크로파(M)를 바로 챔버(110)에 입사시키는 것을 전적으로 배제하는 것은 아니다. 한편, 에너지 전달 효율을 높이기 위해 마이크로파(M)를 방출하는 도파관(132)의 출구는 챔버(110)를 직접 향하도록 배치될 수 있다.
지금까지, 플라즈마 점화를 위해 마이크로파를 이용하는 것을 위주로 설명하였다. 그러나 본 실시예의 플라즈마 광원에서, 플라즈마 점화를 위해 이용되는 점화원(ignition source)이 마이크로파에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 마이크로파 점화원 이외에도, 자외선 점화원, 용량성 방전 점화원, 유도성 방전 점화원, 고주파 점화원, 플래시 램프 점화원, 펄스 레이저, 점화원, 펄스 램프 점화원 등 다양한 점화원들이 플라즈마 점화를 위해 이용될 수 있다. 덧붙여, 방전 점화원이 이용되는 경우에는 챔버 내에 전극이 구비될 수 있다.
레이저 발생기(도 13 내지 도 18의 160 참조)는 레이저(L)를 생성하여 챔버(110)에 입사시킬 수 있다. 여기서, 레이저는 방사 유도방출에 의한 광의 증폭(Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation)의 앞글자로 이루어진 말로서, 물리 현상을 이용하여 생성된 광 또는 광원 장치를 지칭한다(이하, 혼동을 피하기 위하여 광을 '레이저'라 하고 광원 장치를 "레이저 발생기 또는 레이저 광원"이라 한다). 현재 레이저의 파장 대역은 0.1㎛ 내지 수백 ㎛이고, 출력은 연속발진(continuous wave: CW)형에서 수백 kW, 그리고 펄스(pulse)형에서는 1012W까지 이르고 있다. 이러한 레이저는 고출력용 고체 레이저, 높은 안정동작의 기체 레이저, 소형 및 경량의 반도체 레이저, 발진 주파수가 변하는 색소 레이저 등으로 분류될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 레이저(L)는 비교적 에너지가 낮은 CW 레이저, 특히 적외선(IR)-CW 레이저일 수 있다. 또한, 레이저(L)는 단면이 도넛츠와 같은 중공 빔(hollow beam) 형태로 챔버(110)에 입사될 수 있다. 그러한 중공 빔 레이저는 플라즈마 유지 및 세기 증가에 좀더 효율적일 수 있다. 레이저 장치로부터의 생성된 레이저(L)는 렌즈 시스템(152) 및 이색 거울(dichroic mirror)(142, 144)을 통해 챔버로 입사될 수 있다. 본 실시예에서, 렌즈 시스템(152)을 하나의 렌즈로 도시하고 있지만, 도 14 내지 도 19에 도시된 바와 같이 렌즈 시스템(152)에 다수의 렌즈가 포함될 수 있음은 물론이다.
이러한 레이저(L)는 챔버(110)에서의 플라즈마(112) 점화와 동시에 또는 점화 후에 챔버(110)에 입사되어 플라즈마를 계속 유지시키고 또한 플라즈마의 세기를 극대화하는 작용을 할 수 있다. 기존에 낮은 압력의 챔버(110) 내에서 플라즈마 점화를 위해 매우 큰 에너지를 갖는 펄스 레이저가 필요하거나 플라즈마 점화 자체가 힘든 문제가 있었다. 그러나, 본 실시예의 플라즈마 광원에서는, 플라즈마 점화는 마이크로파(M)를 통해 수행하고, 플라즈마 유지 및 세기 증가는 레이저(L)를 통해 수행함으로써, 챔버(110)를 낮은 압력으로 유지하면서도 펄스 레이저가 아닌 CW 레이저를 이용할 수 있다.
한편, 본 실시예에 따른 플라즈마 광원(100)은 도시된 바와 같이 제1 이색 거울(142)과 제2 이색 거울(144)을 포함할 수 있다. 이색 거울은 굴절률이 다른 물질의 많은 박막으로 이루어지는 반사경으로, 어떤 파장의 광은 반사하고, 다른 파장의 광은 모두 투과하는 성질이 있다. 보통의 색 필터에 비해서 흡수에 의한 손실이 매우 적고, 선택 반사하는 광의 파장 범위를 재료의 두께나 구조에 의해 가감할 수 있다.
본 실시예에 따른 플라즈마 광원(100)에서, 제1 이색 거울(142)은 제1 복합곡면거울(122)과 제2 복합곡면거울(124) 사이에 배치되며, 마이크로파(M)를 투과시키고 레이저(L)와 플라즈마 광(P)을 반사시킬 수 있다. 또한, 제2 이색 거울(144)은 이중 복합거울(120)의 외부로 배치되며, 레이저(L)를 반사시키며 플라즈마 광(P)을 투과시킬 수 있다.
좀더 구체적으로, 제1 이색 거울(142)이 마이크로파에 대해서 투과를 허용하기 때문에, 챔버(110)에 입사되지 않고 지나친 마이크로파는 제2 복합곡면거울(124)로부터의 반사를 통해 챔버(110)로 입사될 수 있다. 또한, 점선으로 도시된 바와 같이 레이저(L)는 제2 이색 거울(144), 제1 이색 거울(142) 및 제1 복합곡면거울(122)의 반사를 통해 거쳐 챔버(110)로 입사될 수 있다.
한편, 챔버(110) 내의 플라즈마(112)에 의해 생성된 플라즈마 광(P)은 제1 복합곡면거울(122)과 제1 이색 거울(142)에 의한 반사와 제2 이색 거울(144)의 투과를 통해 외부로 출력될 수 있다. 제2 이색 거울(144)을 투과한 플라즈마 광(P)은 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다. 여기서, 렌즈 시스템(154)은 로드렌즈(rodlens)일 수 있다. 그러나 렌즈 시스템(154)이 로드렌즈(rodlens)에 한정되는 것은 아니다. 플라즈마 광(p)은 제2 복합곡면거울(124)에 의해 반사되어 다시 제1 복합곡면거울(122), 제1 이색 거울(142) 및 제2 이색 거울(144) 등을 통해 외부로 출력될 수 있다.
이와 같이 제1 이색 거울(142)과 제2 이색 거울(144)은 이중 복합거울(120)과 함께 마이크로파(M)와 레이저(P)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시키고, 또한, 플라즈마 광(P)의 출력을 증가시키는데 기여할 수 있다. 또한, 제1 이색 거울(142)과 제2 이색 거울(144)의 위치를 적절히 배치함으로써, 레이저 장치의 배치 위치나 플라즈마 광의 출력 방향에 대한 자유도를 증가시킬 수 있다.
본 실시예의 플라즈마 광원(100)에서는, 플라즈마 점화는 마이크로파(M)를 통해 수행되고, 플라즈마 유지 및 세기 증가는 레이저(L)를 통해 수행됨으로써, 기존 레이저 파워의 증가 방법과 챔버의 압력 조절 방법에 존재하는 문제를 해결할 수 있고, 그에 따라 플라즈마 광(P)의 출력을 극대화할 수 있다. 또한, 본 실시예의 플라즈마 광원(100)에서는 이중 복합거울(120)을 채용함으로써, 마이크로파(M)와 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시키고, 플라즈마 광(P)의 출력을 증가시킬 수 있다. 더 나아가, 적절한 곳에 이색 거울들(142, 144)을 배치함으로써, 플라즈마 광(P)의 출력 증가와 함께 레이저 장치의 배치 위치나 플라즈마 광의 출력 방향에 대한 자유도를 증가킬 수 있다.
도 2는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울의 구조를 좀더 상세하게 보여주는 단면도이다.
도 2를 참조하면, 이중 복합거울(120)은 제1 복합곡면거울(122)과 제2 복합곡면거울(124)을 포함할 수 있다. 도시된 바와 같이 제1 복합곡면거울(122)은 제1 거울 몸체(122m), 제1 금속 코팅(122out) 및 제1 광학 코팅(122in)을 포함할 수 있다. 제1 거울 몸체(122m)는 전자기파, 특히 마이크로파에 대하여 투명한 재질로 형성될 수 있다.
제1 거울 몸체(122m)의 외부 면에는 제1 금속 코팅(122out)이 형성될 수 있고 내부 면에는 제1 광학 코팅(122in)이 형성될 수 있다. 제1 금속 코팅(122out)은 마이크로파를 반사시킬 수 있다. 제1 광학 코팅(122in)은 플라즈마를 유지를 위해 입사되는 레이저와 플라즈마에 의해 발생한 플라즈마 광을 반사시킬 수 있다. 예컨대, 입사되는 레이저가 적외선(IR)이고, 요구되는 플라즈마 광이 자외선(UV)인 경우, 제1 광학 코팅(122in)은 적외선과 자외선을 함께 반사할 수 있다. 또한, 입사되는 레이저가 근적외선(Near IR: NIR)이고, 요구되는 플라즈마 광이 깊은 자외선(Deep UV: DUV)인 경우, 제1 광학 코팅(122in)은 근적외선과 깊은 자외선을 함께 반사할 수 있다. 한편, 제1 광학 코팅(122in)은 전술한 이색 거울과 같은 원리로 형성될 수 있다.
한편, 제1 금속 코팅(122out)과 제1 광학 코팅(122in)을 통해 제1 거울 몸체(122m)의 외부 면과 내부 면은 각각의 곡면거울을 구성할 수 있다. 참고로, '복합곡면거울'이란 용어는 하나의 거울 몸체에 2개의 곡면거울이 형성되어 있음을 의미할 수 있다. 곡면거울이 타원 거울이나 구면 거울인 경우, 곡면거울은 타원 거울이나 구면 거울의 곡률에 해당하는 초점을 가질 수 있다. 참고로, 타원 거울과 구면 거울의 반사 법칙을 간단히 설명하면, 타원 거울의 경우 어느 하나의 초원에서 나온 광은 타원 거울에 반사되어 다른 하나의 초점으로 진행한다. 구면 거울의 경우는 광축에 평행하게 입사한 광은 구면 거울에 반사되어 광축 상에 위치한 초점으로 진행하며, 초점을 지나서 입사하는 광은 구면 거울에 반사되어 광축에 평행하게 진행한다.
본 실시예의 제1 복합곡면거울(122)에서, 제1 금속 코팅(122out)에 의한 외부 면의 곡면거울(이하 '제1 외부 곡면거울')과 제1 광학 코팅(122in)에 의한 내부 면의 곡면거울(이하 '제1 내부 곡면거울')은 각각 타원 거울을 구성할 수 있다. 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울의 곡률은 서로 다를 수 있다. 또한, 제1 거울 몸체(122m)의 두께는 전체에 걸쳐 일정하지 않을 수 있다. 그러나 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울의 곡률이 동일할 수 있다. 또한, 제1 거울 몸체(122m)의 두께도 전체에 걸쳐 동일할 수 있다.
한편, 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울의 초점은 챔버(110)가 위치하는 곳일 수 있다. 챔버(110)가 타원 거울의 초점에 위치함에 따라, 제1 외부 곡면거울을 통해 반사된 마이크로파가 챔버(110)로 입사되며, 또한 제1 내부 곡면거울을 통해 반사된 레이저가 챔버(110)로 입사될 수 있다. 이에 따라, 챔버로의 마이크로파와 레이저의 입사 효율을 증가시킬 수 있다. 참고로, 타원 거울의 초점은 타원 거울의 배치 형태와 곡률에 의해 결정될 수 있다. 따라서, 원하는 곳에 초점이 위치하도록 타원 거울의 배치 형태와 곡률이 조절될 수 있다.
본 실시예의 제1 복합곡면거울(122)에서, 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울의 형태는 타원 거울에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울은 타원 거울이 아닌 다른 형태의 곡면거울일 수 있다. 예컨대, 다른 형태의 곡면거울은 구면 거울을 포함할 수 있다. 제1 외부 곡면거울과 제1 내부 곡면거울은 타원 거울이 아닌 다른 형태의 곡면거울을 통해서도 광을 챔버(110)가 위치하는 곳으로 향하도록 할 수 있다.
도시된 바와 같이, 제2 복합곡면거울(124) 역시 제2 거울 몸체(124m), 제2 금속 코팅(124out) 및 제2 광학 코팅(124in)을 포함할 수 있다. 제2 거울 몸체(124m)는 전자기파, 특히 마이크로파에 대하여 투명한 재질로 형성될 수 있다. 또한, 제2 거울 몸체(124m)의 외부 면에는 제2 금속 코팅(124out)이 형성될 수 있고 내부 면에는 제2 광학 코팅(124in)이 형성될 수 있다.
제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파를 반사시킬 수 있다. 제2 광학 코팅(124in)은 플라즈마에 의해 발생한 플라즈마 광을 반사시킬 수 있다. 예컨대, 요구되는 플라즈마 광이 자외선(UV)인 경우, 제2 광학 코팅(124in)은 자외선을 반사할 수 있다. 또한, 요구되는 플라즈마 광이 깊은 자외선(DUV)인 경우, 제2 광학 코팅(124in)은 깊은 자외선을 반사할 수 있다. 참고로, 도 6에서 설명하겠지만, 레이저는 제1 이색 거울(142)을 통해 입사되므로 제2 복합곡면거울(124)에 의해 반사될 가능성이 거의 없다. 따라서, 제2 광학 코팅(124in)은 레이저에 대한 반사 기능을 가지지 않을 수 있다. 물론, 제2 광학 코팅(124in)이 레이저에 대한 반사 기능을 포함하는 것을 전적으로 배제하는 것은 아니다.
한편, 제2 금속 코팅(124out)과 제2 광학 코팅(124in)을 통해 제2 거울 몸체(124m)의 외부 면과 내부 면은 각각의 곡면거울을 구성할 수 있다. 본 실시예의 제2 복합곡면거울(124)에서, 제2 금속 코팅(124out)에 의한 외부 면의 곡면거울(이하 '제2 외부 곡면거울')과 제2 광학 코팅(124in)에 의한 내부 면의 곡면거울(이하 '제2 내부 곡면거울)은 각각 구면 거울을 구성할 수 있다. 제2 외부 곡면거울과 내부 곡면거울의 곡률은 서로 다를 수 있다. 또한, 제2 거울 몸체(124m)의 두께는 전체에 걸쳐 일정하지 않을 수 있다. 그러나, 제2 외부 곡면거울과 제2 내부 곡면거울의 곡률이 동일할 수 있다. 또한, 제2 거울 몸체(124m)의 두께도 전체에 걸쳐 동일할 수 있다.
한편, 제2 외부 곡면거울의 초점은 챔버(110)가 위치하는 곳일 수 있다. 챔버(110)가 구면 거울의 초점에 위치함에 따라, 제2 외부 곡면거울을 통해 반사된 마이크로파가 챔버(110)로 입사될 수 있다. 경우에 따라, 제2 외부 곡면거울의 초점은 챔버(110)가 위치하는 곳과 정확하게 일치하지 않을 수 있다. 예컨대, 제1 외부 곡면거울이 타원 거울을 구성하는 경우에, 제2 외부 곡면거울의 초점은 제1 외부 곡면거울 상에 위치할 수 있고, 특히 제1 외부 곡면거울의 중심 부분에 위치할 수 있다. 제2 외부 곡면거울의 초점이 제1 외부 곡면거울 상에 위치하여도 제1 외부 곡면거울의 반사에 의해 마이크로파가 챔버(110)에 입사될 수 있다.
제2 내부 곡면거울의 초점은 플라즈마 광의 출력을 최대로 하는 곳에 위치할 수 있다. 플라즈마 광이 챔버(110)로 입사될 필요는 없으므로 제2 내부 곡면거울의 초점은 챔버(110) 위치와 전혀 상관없다. 그에 따라, 제2 내부 곡면거울의 초점은 측정을 통해 플라즈마 광의 출력이 최대가 되는 곳으로 결정될 수 있다. 참고로, 구면 거울의 초점은 구면 거울의 곡률에 의해 결정될 수 있다. 따라서, 원하는 곳에 초점이 위치하도록 구면 거울의 곡률이 조절될 수 있다.
본 실시예의 제2 복합곡면거울(124)에서, 제2 외부 곡면거울과 제2 내부 곡면거울의 형태는 구면 거울에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 제2 외부 곡면거울과 제2 내부 곡면거울은 구면 거울이 아닌 다른 형태의 곡면거울일 수 있다. 예컨대, 다른 형태의 곡면거울은 타원 거울을 포함할 수 있다. 제2 외부 곡면거울과 제2 내부 곡면거울은 구면 거울이 아닌 다른 형태의 곡면거울을 통해 광을 챔버(110)가 위치하는 곳으로 향하도록 할 수 있다.
도 3a는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 챔버로의 마이크로파의 입사 과정을 보여주는 개념도이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다. 또한, 이해의 편의를 위해 제1 및 제2 복합곡면거울에서 제1 및 제2 금속 코팅만을 도시하고 있다.
도 3a를 참조하면, 도파관(132)을 통해 출력된 마이크로파(M)는 챔버(110)에 입사되어 플라즈마 점화용 매체 물질에 에너지를 공급하여 플라즈마 점화에 기여할 수 있다. 한편, 출력된 마이크로파(M) 전부가 플라즈마 점화에 기여하는 것은 아니고 일부는 챔버를 통과하거나 또는 챔버 외부 부분을 지나 전방으로 진행하게 된다. 전자기파의 일종인 마이크로파(M)는 발산하며, 최대 발산각에 대응하는 외곽선들(Md1, Md2)이 점선으로 표시되고 있다. 따라서, 최대 발산각보다 큰 사이즈로 제2 금속 코팅(124out)을 형성함으로써, 마이크로파(M)가 외부로 방출되는 것을 차폐할 수 있다.
전술한 바와 같이, 제1 이색 거울(142)은 마이크로파(M)에 대하여 투명하다. 따라서, 마이크로파(M)는 제1 이색 거울(142)을 통과하여 계속 진행할 수 있다. 제2 복합곡면거울(124)의 제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파(M)를 반사시킨다. 제2 금속 코팅(124out)에 의한 반사를 양방향 화살표로 표시하고 있다. 제2 금속 코팅(124out)에 의해 형성된 제2 외부 곡면거울이 구면 거울인 경우, 반사된 마이크로파(M)는 대부분 구면 거울의 초점(F)을 향하게 된다. 또한, 구면 거울의 초점(F)이 도시된 바와 같이 제1 금속 코팅(122out)에 의해 형성된 제1 외부 곡면거울 상에 있는 경우, 마이크로파(M)는 제1 외부 곡면거울을 통해 반사되어 챔버(110)에 재입사될 수 있다. 이와 같이, 제1 및 제2 금속 코팅(122out, 124out)이 곡면거울 형태로 마이크로파(M)를 반사시켜 챔버로 재입사시킴으로써, 마이크로파(M)의 입사 효율을 증가시킬 수 있다.
한편, 일반적으로 소정 거리를 두고 배치된 두 반사체는 마이크로파(M)에 대하여 공진기(resonator)를 구성할 수 있다. 두 반사체를 이용하여 마이크로파(M)에 대하여 공진기(resonator)를 구성하게 되면, 마이크로파(M)의 에너지 손실이 최소화될 수 있다. 본 실시예의 제1 및 제2 복합곡면거울(122, 124)은 마이크로파(M)에 대해 공진기를 구성할 수 있다. 즉, 제1 금속 코팅(122out)의 제1 외부 곡면거울과 제2 금속 코팅(124out)의 제2 외부 곡면거울 사이의 거리를 적절히 조절함으로써, 마이크로파(M)에 대해 공진기를 구성할 수 있다. 참고로, 공진기 길이는 n*λ/4로 결정될 수 있다. 여기서, n은 양의 정수이고 λ는 마이크로파(M)의 파장일 수 있다.
한편, 도 3a와 같이, 제2 외부 곡면거울이 구면 거울이고, 구면 거울의 초점(F)이 제1 외부 곡면거울 상에 있으면서, 제1 외부 곡면거울과 제2 외부 곡면거울이 공진기를 구성하는 경우, 공초점-평면형(confocal-planar) 공진기라고 한다. 여기서, 평면형은 제1 외부 곡면거울에서 초점(F)이 위치하는 부분을 평면으로 간주한 데에서 기인할 수 있다(도 4 참조). 이와 같이, 제1 금속 코팅(122out)과 제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파(M)에 대하여 공진기를 구성할 수 있고, 또한 마이크로파(M)가 외부로 빠져나가지 못하도록 차폐하는 기능을 할 수 있다.
도 3b는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 플라즈마 광의 출력 과정을 보여주는 개념도이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다. 또한, 이해의 편의를 위해 제1 및 제2 복합곡면거울에서 제1 및 제2 광학 코팅만을 도시하고 있다.
도 3b를 참조하면, 플라즈마에 의해 발생한 플라즈마 광(P)은 챔버(110) 외부로 모든 방향으로 방출될 수 있다. 후방이나 측방으로 방출된 플라즈마 광(P)은 제1 광학 코팅(122in)에 의해 형성된 제1 내부 곡면거울에 의해 반사되어 제1 이색 거울(142)로 진행하고 전방(x 방향)으로 방출된 플라즈마 광(P)은 곧바로 제1 이색 거울(142)로 진행할 수 있다.
전술한 바와 같이 제1 이색 거울(142)은 플라즈마 광(P)을 반사시켜 플라즈마 광(P)의 진행방향을 제2 이색 거울(144)로 향하게 할 수 있다. 제2 이색 거울(144)은 플라즈마 광(P)을 투과시켜, 플라즈마 광(P)이 렌즈 시스템(154)으로 출력되도록 할 수 있다. 한편, 제2 광학 코팅(124in)에 의해 형성된 제2 내부 곡면거울은 양방향 화살표로 표시된 바와 같이 플라즈마 광(P)을 반사시킬 수 있다. 그에 따라, 제2 내부 곡면거울은 제1 이색 거울(142)에 의해 반사되지 않은 플라즈마 광들을 반사시켜 다시 제1 이색 거울(142)의 반사를 통해 출력되도록 할 수 있다. 제2 내부 곡면거울에 의해 반사된 플라즈마 광(P)은 제1 내부 곡면거울을 통해 제1 이색 거울(142)로 향할 수 있다.
도 3c는 도 1의 플라즈마 광원에서 이중 복합거울을 이용한 챔버로의 레이저의 입사 과정을 보여주는 개념도이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다. 또한, 이해의 편의를 위해 제1 및 제2 복합곡면거울에서 제1 및 제2 광학 코팅만을 도시하고 있다.
도 3c를 참조하면, 레이저 발생기(도 13 내지 도 18의 160 참조)로부터 출력된 레이저(L)는 먼저 제2 이색 거울(144)에 의해 반사되어 제1 이색 거울(142)로 향할 수 있다. 레이저(L)는 다시 제1 이색 거울(142)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사되거나 제1 광학 코팅(122in)에 의해 형성된 제1 내부 곡면거울로 진행할 수 있다. 제1 내부 곡면거울로 진행한 레이저(L)는 제1 내부 곡면거울에 의해 반사되어 챔버로 입사될 수 있다. 챔버(110)에 입사된 레이저(L)는 플라즈마의 유지 및 세기를 극대화하는데 기여할 수 있다.
제1 내부 곡면거울은 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시킬 수 있다. 또한, 제1 및 제2 이색 거울(142, 144)은 그 위치를 적절히 조절함으로써, 레이저 발생기의 배치 위치를 조절할 수 있다. 즉, 제1 및 제2 이색 거울(142, 144)은 레이저 발생기의 배치 위치에 대한 자유도를 증가시킬 수 있다.
도 4 및 5는 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원에 적용되는 이중 복합 거울의 변형예들을 보여주는 구조도들이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다. 또한, 이해의 편의를 위해 제1 및 제2 복합곡면거울에서 제1 및 제2 금속 코팅만을 도시하고 있다.
도 4를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100a)은 제1 복합곡면거울(122a)의 구조에서 도 1 또는 도 2의 플라즈마 광원(100)의 구조와 다를 수 있다. 즉, 본 실시예의 플라즈마 광원(100a)에서, 제1 복합곡면거울(122a)은 제1 금속 코팅(122out)의 중앙 부분에 형성된 금속 평면거울(122p)을 포함할 수 있다. 금속 평면거울(122p)은 제1 금속 코팅(122out)과 같이 제1 거울 몸체(122m)의 외부 면에 금속 코팅을 통해 형성되되, 제1 방향(x 방향)에 수직하는 평평한 면을 가질 수 있다.
한편, 제2 금속 코팅(124out)으로 형성된 제2 외부 곡면거울은 구면 거울을 구성할 수 있고, 이러한 구면 거울의 초점은 금속 평면거울(122p) 상에 위치할 수 있다. 그에 따라, 제2 외부 곡면거울에서 반사된 마이크로파(M)는 금속 평면거울(122p)로 진행한 후, 금속 평면거울(122p)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다. 이와 같이, 제1 금속 코팅(122out)의 중앙 부분에 금속 평면거울(122p)이 형성됨으로써, 마이크로파(M)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시킬 수 있다.
또한, 전술한 바와 같이 금속 평면거울(122p)과 구면 거울의 거리를 적절히 조절함으로써, 마이크로파(M)에 대하여 공진기를 구성할 수 있다. 또한, 구면 거울의 곡률을 조절하여 초점을 금속 평면거울(122p) 상에 존재하도록 함으로써, 공초점-평면형 공진기를 구성할 수 있다.
도 5를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100b)은 제1 금속 코팅(122out)에 의한 제1 외부 곡면거울과 제2 금속 코팅(124out)에 의한 제2 외부 곡면거울의 초점이 서로 일치한다는 점에서, 도 1 또는 도 2의 플라즈마 광원(100)의 구조와 다를 수 있다. 좀더 구체적으로 설명하면, 제1 외부 곡면거울은 타원 거울을 구성하며, 제1 외부 곡면거울의 초점은 챔버(110)가 위치하는 곳일 수 있다. 한편, 제2 외부 곡면거울은 구면 거울을 구성하며, 제2 외부 곡면거울의 초점은 챔버(110)가 위치하는 곳일 수 있다. 즉, 타원 거울과 구면 거울의 초점 위치가 일치할 수 있다.
전술한 구조로 제1 및 제2 외부 곡면거울이 형성될 때, 마이크로파(M)는 구면 거울인 제2 외부 곡면거울의 반사에 의해 바로 챔버(110)로 입사될 수 있다. 또한, 마이크로파(M)는 타원 거울인 제1 외부 곡면거울의 반사를 통해서도 챔버(110)로 입사될 수 있다. 이와 같이 제1 외부 곡면거울이 타원 거울을 구성하고 제2 외부 곡면거울이 구면 거울을 구성하며, 또한 타원 거울과 구면 거울의 초점을 일치하도록 함으로써, 마이크로파(M)의 챔버(110)로의 입사 효율을 보다 증가시킬 수 있다.
지금까지 제1 외부 곡면거울을 타원 거울로 설명하였지만 제1 외부 곡면거울은 구면 거울일 수도 있다. 제1 외부 곡면거울이 구면 거울이고 초점이 제2 외부 곡면거울의 구면 거울과 일치하는 경우, 전술한 내용이 그대로 적용될 수 있다.
한편, 제1 외부 곡면거울이 구면 거울인 경우, 제1 외부 곡면거울과 제2 외부 곡면거울의 거리를 적절히 조절하여 공진기를 구성할 수 있고, 또한 어느 하나 또는 둘 다의 곡률을 조절하여 초점을 일치시킬 수 있다. 이와 같이 2개의 구면 거울의 초점을 일치시켜 공진기를 구성하는 경우, 동심원형(concentric type) 공진기라고 한다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원들에서 도파관과 이중 복합거울의 결합 구조를 보여주는 구조도들이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다.
도 6a를 참조하면, 마이크로파 발생기(130)에서 생성된 마이크로파는 도파관(132)을 통해 전달되고, 제1 복합곡면거울(122)을 통과하여 챔버(110)로 입사할 수 있다. 한편, 제1 복합곡면거울(122)의 제1 거울 몸체(122m)의 외부 면에 제1 금속 코팅(122out)이 형성되며, 그러한 제1 금속 코팅(122out)은 마이크로파를 반사시킴은 전술한 바와 같다. 따라서, 도시된 바와 같이 도파관(132)이 제1 복합곡면거울(122)과 결합하는 부분에는 제1 금속 코팅(122out)이 형성되지 않을 수 있다. 또한, 도파관(132)은 제1 거울 몸체(122m)에 직접 접촉하여 결합할 수 있다.
참고로, 도 1 내지 도 5 등에서, 제1 금속 코팅(122out)이 제1 거울 몸체(122m) 외부 면의 전체에 형성되고, 도파관(132)이 제1 금속 코팅(122out)에 접촉하는 것으로 도시되고 있다. 그러나 이는 도파관(132)과 제1 복합곡면거울(122)의 결합 구조를 평면적으로 도시한 데에 기인한 것으로, 실제로는 도 6a와 같이 도파관(132)이 제1 복합곡면거울(122)과 결합하는 부분에는 제1 금속 코팅(122out)이 형성되지 않을 수 있다. 예컨대, 도파관(132)이 지면과 일치하는 곳에서 제1 복합곡면거울(122)과 결합하는 것이 아니라 지면에서 약간 들어가거나 나온 부분에서 제1 복합곡면거울(122)과 결합한 경우, 제1 금속 코팅(122out)이 존재하는 않는 부분이 도면에 나타나지 않을 수 있다.
도 6b를 참조하면, 본 실시예에의 플라즈마 광원(100c)에서, 도파관(132)의 결합 위치는 도 6a의 플라즈마 광원(100)과 다를 수 있다. 즉, 도 6a의 플라즈마 광원(100)에서, 도파관(132)은 제1 방향(x 방향)으로 챔버(110)를 지나는 일점 쇄선과 일치되도록 제1 복합곡면거울(122)과 결합하지만, 본 실시예의 플라즈마 광원(100c)에서는 도파관(132)은 일점 쇄선과 소정 각도(θ)를 이루도록 제1 복합곡면거울(122)과 결합할 수 있다. 물론, 도파관(132)의 출구 방향은 챔버(110)를 향할 수 있다.
한편, 도 6b에서 도파관(132)이 일점 쇄선을 기준으로 상부로 배치되고 있지만, 하부로 배치될 수 있음은 물론이다. 또한, 도파관(132)이 지면에서 약간 들어가거나 나온 위치에서 제1 복합곡면거울(122)과 결합할 수도 있다. 그러한 경우에는 제1 금속 코팅(122out)이 형성되지 않은 부분은 도면에 나타나지 않을 수 있다.
도 6c를 참조하면, 본 실시예에의 플라즈마 광원(100d)은 제1 복합곡면거울(122b)의 구조에서, 도 6a의 플라즈마 광원(100)과 다를 수 있다. 본 실시예에의 플라즈마 광원(100d)에서 제1 복합곡면거울(122b)은 제1 거울 몸체(122m)와 제1 광학 코팅(122in)만을 포함할 수 있다. 즉, 제1 거울 몸체(122m)의 외부 면에 금속 코팅이 형성되지 않을 수 있다.
이와 같은 구조는, 직접 입사 및 제2 금속 코팅(124out)의 제2 외부 곡면거울에 의한 반사 입사에 의해 마이크로파가 대부분 챔버(110)로 입사되고, 누설되는 마이크로파가 거의 없는 경우에 채용할 수 있는 구조일 수 있다. 예컨대, 제2 외부 곡면거울이 구면 거울로서 초점이 챔버(110)에 위치할 경우, 마이크로파는 제1 방향(x 방향)으로 진행하면서 대부분 챔버(110)로 입사되고, 또한 챔버(110)를 지나친 마이크로파는 제2 외부 곡면거울의 반사를 통해 초점인 챔버(110)에 바로 입사될 수 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예들에 따른 플라즈마 광원에서 마이크로파 파장에 따라 공진기의 길이를 조정하는 원리를 보여주는 개념도이다.
도 7을 참조하면, 제1 복합곡면거울(122)과 제2 복합곡면거울(124)의 거리를 적절히 조절함으로써, 마이크로파에 대한 공진기를 구성할 수 있다. 좀더 구체적으로, 제1 복합곡면거울(122)의 제1 금속 코팅(도 2의 122out 참조)과 제2 복합곡면거울(124)의 제2 금속 코팅(도 2의 124out 참조) 사이의 거리를 마이크로파의 파장에 따라 공진 조건에 맞도록 조절함으로써, 마이크로파에 대한 공진기를 구성할 수 있다. 예컨대, 제1 파장을 갖는 제1 마이크로파에 대하여 제1 위치에 제2 복합곡면거울(124-1)을 배치하여 공진기를 구성할 수 있다. 또한, 제2 파장을 갖는 제2 마이크로파에 대하여 제2 위치에 제2 복합곡면거울(124-2)을 배치함으로써, 공진기를 구성할 수 있다. 이와 같이 마이크로파의 파장에 따라 양방향 화살표로 표시된 바와 같이 제2 복합곡면거울(124)의 제1 방향(x 방향)의 위치를 조절하여 공진기를 구성할 수 있다.
한편, 공진기 구성을 위해 마이크로파의 파장에 따라, 제2 복합곡면거울(124)의 제1 방향의 위치를 조절하는 경우, 제1 복합곡면거울(122)과 제2 복합곡면거울(124) 사이에 배치되는 제1 이색 거울(142)의 위치와 각도가 달라질 수 있다. 예컨대, 제1 마이크로파에 대하여 제1 위치에 제2 복합곡면거울(124-1)을 배치하여 공진기를 구성하는 경우, 제1 위치 및 각도로 제1 이색 거울(142-1)이 배치될 수 있고, 제2 마이크로파에 대하여 제2 위치에 제2 복합곡면거울(124-2)을 배치하여 공진기를 구성하는 경우, 제2 위치 및 각도로 제1 이색 거울(142-2)이 배치될 수 있다. 이와 같이 공진기의 길이에 따라 제1 이색 거울(142-1)의 위치와 각도를 달리하는 이유는, 공진기의 길이가 달라지면, 제1 이색 거울(142-1)을 통해 출력되는 플라즈마 광의 효율이 낮아질 수 있기 때문이다. 따라서, 만약 공진기의 길이가 달라지더라도 원래 위치와 각도의 제1 이색 거울(142)에 의한 플라즈마 광의 출력이 최대인 경우, 제1 이색 거울(142)의 위치와 각도가 변하지 않을 수 있다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예들에 따른 핀-홀을 통해 챔버에 레이저를 입사시키는 구조의 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다.
도 8을 참조하면, 본 실시예에 의한 플라즈마 광원(100e)은 챔버(110)로의 레이저(L)의 입사 구조가 도 1의 플라즈마 광원(100)과 다를 수 있다.
좀더 구체적으로 설명하면, 제2 복합곡면거울(124a)에는 핀-홀(PH)이 형성될 수 있다. 이러한 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 제2 복합곡면거울(124a)을 관통하여 입사될 수 있다. 제2 복합곡면거울(124a)은 핀-홀(PH)이 형성되는 것을 제외하고 도 1 또는 도 2에서 설명한 제2 복합곡면거울(124)과 동일할 수 있다. 즉, 제2 복합곡면거울(124a)은 거울 몸체, 거울 몸체의 외부 면에 형성된 금속 코팅, 및 거울 몸체의 내부 면에 형성된 광학 코팅을 포함할 수 있다.
핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파의 반파장 미만으로 형성될 수 있다. 예컨대, 핀-홀(PH)이 원형으로 형성되는 경우, 핀-홀(PH)의 지름은 마이크로파의 반파장 미만일 수 있다. 이는, 핀-홀(PH)의 사이즈가 마이크로파의 반파장 이상으로 크게 형성되는 경우, 핀-홀(PH)을 통해 마이크로파가 빠져나갈 수 있기 때문이다. 한편, 도시된 바와 같이 핀-홀(PH)은 제2 복합곡면거울(124a) 전체, 즉 거울 몸체, 금속 코팅 및 광학 코팅을 관통하도록 형성될 수 있다. 그러나 핀-홀(PH)은 금속 코팅만을 관통하도록 형성될 수도 있다. 예컨대, 거울 몸체 및 광학 코팅이 레이저에 대하여 투명한 경우, 거울 몸체 및 광학 코팅에는 핀-홀(PH)이 형성되지 않을 수 있다.
레이저(L)가 제2 복합곡면거울(124a)의 핀-홀(PH)을 통해 입사되므로, 제2 이색 거울은 존재하지 않을 수 있다. 또한, 레이저(L)는 제1 이색 거울(142)을 통과하여 진행해야 하므로, 제1 이색 거울(142)은 레이저에 대하여 투명할 수 있다. 제1 이색 거울(142)은 또한 플라즈마 광(P)의 출력에 기여하므로 플라즈마 광(P)에 대해서는 반사 기능을 가질 수 있다.
레이저(L)는 핀-홀(PH)을 통해 제2 복합곡면거울(124a)을 관통하여 제1 이색 거울(142)로 진행하고, 제1 이색 거울(142)을 투과하여 일부는 제1 복합곡면거울(122)로 진행하고 일부는 바로 챔버(110)로 입사될 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)로 진행한 레이저(L)는 제1 복합곡면거울(122)의 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다.
한편, 챔버(110)의 플라즈마에 의해 생성된 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 의한 반사, 또는 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)과 제1 이색 거울(142)의 반사를 통해 외부로 출력될 수 있다. 본 실시예의 플라즈마 광원(100e)은 도 1의 플라즈마 광원(100)과 달리 제2 이색 거울이 없으므로, 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 반사되어 렌즈 시스템(154)으로 바로 출력될 수 있다.
제2 복합곡면거울(124a) 하부에 양방향 화살표는 도 7에서 설명한 바와 같이, 본 실시예의 플라즈마 광원(100e)도 마이크로파의 파장에 따라 제2 복합곡면거울(124a)의 위치를 조절함으로써, 공진기를 구성할 수 있음을 의미한다.
도 9를 참조하면, 본 실시예에 의한 플라즈마 광원(100f)은 제2 복합곡면거울(124a)의 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 입사될 수 있다는 점에서, 도 8의 플라즈마 광원(100e)과 유사하나, 플라즈마 광(P)의 출력 구조가 도 8의 플라즈마 광원(100e)과 다를 수 있다.
좀더 구체적으로 설명하면, 제2 복합곡면거울(124a)에는 핀-홀(PH)이 형성될 수 있다. 또한, 핀-홀(PH)에 인접하여 제3 이색 거울(146)이 배치될 수 있다. 본 실시예에 의한 플라즈마 광원(100f)에서는 핀-홀(PH)과 제3 이색 거울(146)을 통해 레이저(L)가 입사되고 플라즈마 광(P)이 출력될 수 있다. 한편, 도시된 바와 같이 제1 복합곡면거울(122)과 제2 복합곡면거울(124a) 사이에는 별도의 이색 거울이 존재하지 않는다.
한편, 제3 이색 거울(146)은 레이저(L)를 투과시키고 플라즈마 광(P)을 반사시키거나 또는 레이저(L)를 반사시키고 플라즈마 광(P)을 투과시킬 수 있다. 예컨대, 제3 이색 거울(146)이 레이저(L)를 투과시키고 플라즈마 광(P)을 반사시키는 경우, 레이저(L)를 입사시키는 제1 렌즈 시스템(152)이 제3 이색 거울(146)의 오른쪽에 배치되고 플라즈마 광(P)이 출력되는 제2 렌즈 시스템(154)이 제3 이색 거울(146)의 하부 쪽에 배치될 수 있다. 만약, 제3 이색 거울(146)이 레이저(L)를 반사시키고 플라즈마 광(P)을 투과시키는 경우, 레이저(L)의 제1 렌즈 시스템(152)과 플라즈마 광(P)의 제2 렌즈 시스템(154)의 위치가 서로 바뀔 수 있다.
레이저(L)는 제3 이색 거울(146)을 투과하거나 제3 이색 거울(146)에 반사되어, 핀-홀(PH)을 통해 제2 복합곡면거울(124a)을 관통하여 진행할 수 있다. 제2 복합곡면거울(124a)을 관통한 레이저(L)의 일부는 제1 복합곡면거울(122)로 진행하고 일부는 바로 챔버(110)로 입사될 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)로 진행한 레이저(L)는 제1 복합곡면거울(122)의 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다.
한편, 챔버(110)의 플라즈마에 의해 생성된 플라즈마 광(P)은 곧바로 또는 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)의 반사를 통해 핀-홀(PH)로 진행하여, 핀-홀(PH)을 통해 제2 복합곡면거울(124a)을 관통할 수 있다. 제2 복합곡면거울(124a)을 관통한 플라즈마 광(P)은 제3 이색 거울(146)에 반사되거나 제3 이색 거울(146)을 투과하여, 외부로 출력될 수 있다.
마이크로파가 핀-홀(PH)을 통과하지 못하도록 핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파의 반파장 미만으로 형성될 수 있다. 한편, 본 실시예의 플라즈마 광원(100f)에서는 플라즈마 광(P)이 핀-홀(PH)을 통과하므로, 핀-홀(PH)은 제2 복합곡면거울(124a) 전체, 즉 광학 코팅, 거울 몸체, 및 금속 코팅을 모두 관통하도록 형성될 수 있다. 거울 몸체는 레이저(L)와 플라즈마 광(P)에 대해 투명하므로, 광학 코팅과 금속 코팅에만 핀-홀이 형성될 수도 있다.
도 10 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예들에 따른 이중 복합거울에 평면 거울을 채용한 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다.
도 10을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100g)은 이중 복합거울(120-1)의 구조에서, 도 1의 플라즈마 광원(100)과 다를 수 있다. 본 실시예의 플라즈마 광원(100g)에서 이중 복합거울(120-1)은 제1 복합곡면거울(122)과 복합평면거울(126)을 포함할 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)은 도 1 또는 도 2에서 설명한 바와 같다.
복합평면거울(126)은 도시된 바와 같이 제1 방향(x 방향)에 대해 수직한 평판 형태를 가질 수 있다. 복합평면거울(126)은 제1 복합곡면거울(122)과 유사하게 거울 몸체(126m)와 거울 몸체(126m)의 양면에 형성된 광학 코팅(126in)과 금속 코팅(126out)을 포함할 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)에 대향하는 방향의 거울 몸체(126m)의 제1 면 상에 광학 코팅(126in)이 형성될 수 있고, 제1 면에 반대되는 거울 몸체(126m)의 제2 면 상에 금속 코팅(126out)이 형성될 수 있다.
복합평면거울(126)은 평판 형태라는 점을 제외하고 제2 복합곡면거울과 유사한 특성을 가질 수 있다. 예컨대, 거울 몸체(126m)는 마이크로파, 레이저(L) 및 플라즈마 광(P)에 대해 투명할 수 있다. 금속 코팅(126out)은 마이크로파를 포함한 대부분의 전자기파를 반사시킬 수 있다. 광학 코팅(126in)은 마이크로파에 대하여 투명하고, 플라즈마 광(P)에 대하여는 반사하는 특징을 가질 수 있다. 한편, 레이저(L)는 그 입사 구조상 복합평면거울(126)에 입사될 가능성이 매우 낮으므로 광학 코팅(126in)은 레이저(L)를 반사하지 않을 수 있다. 그러나 광학 코팅(126in)이 레이저(L)를 반사하는 것을 전적으로 배제하는 것은 아니다.
한편, 금속 코팅(126out)은 제1 복합곡면거울(122)의 제1 금속 코팅(도 2의 122out 참조)과 공진기를 구성할 수 있다. 즉, 마이크로파의 파장에 따라 공진 조건이 충족되도록, 금속 코팅(126out)과 제1 금속 코팅(122out) 사이의 거리가 적절히 조절됨으로써, 금속 코팅(126out)과 제1 금속 코팅(122out)은 마이크로파에 대하여 공진기를 구성할 수 있다.
덧붙여, 제1 금속 코팅(122out)은 곡면이므로, 제1 금속 코팅(122out)과 금속 코팅(126out)과의 공진 조건은 제1 금속 코팅(122out)의 중심이 평면이라고 가정하고 계산될 수 있다. 즉, 제1 금속 코팅(122out)의 중심과 금속 코팅(126out)의 거리가 공진 조건에 맞도록 조절될 수 있다. 그에 따라, 본 실시예의 공진기는 평면형(planar) 공진기로 불릴 수 있다. 경우에 따라, 도 4와 같이 제1 금속 코팅(122out)의 중심 부분에 평면거울이 형성될 수도 있다.
제1 금속 코팅(122out)과 금속 코팅(126out)은 도 1의 제1 및 제2 금속 코팅(122out, 124out)과 마찬가지로 마이크로파를 차폐하는 기능을 수행할 수 있다.
도 11을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100h)은 챔버(110)로의 레이저(L)의 입사 구조가 도 10의 플라즈마 광원(100g)과 다를 수 있다. 즉, 복합평면거울(126a)에 핀-홀(PH)이 형성될 수 있다. 이러한 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 복합평면거울(126a)을 관통하여 챔버(110)로 진행할 수 있다. 복합평면거울(126a)은 핀-홀(PH)이 형성되는 것을 제외하고 도 10에서 설명한 복합평면거울(126)과 거의 동일할 수 있다. 즉, 복합평면거울(126a)은 거울 몸체, 제1 복합곡면거울(122)에 대향하는 방향의 거울 몸체의 제1 면 상에 형성된 광학 코팅, 및 제1 면에 반대되는 거울 몸체의 제2 면 상에 형성된 금속 코팅을 포함할 수 있다.
핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파의 반파장 미만으로 형성될 수 있다. 예컨대, 핀-홀(PH)이 원형으로 형성되는 경우, 핀-홀(PH)의 지름은 마이크로파의 반파장 미만일 수 있다. 핀-홀(PH)은 복합평면거울(126a) 전체, 즉 거울 몸체, 금속 코팅 및 광학 코팅을 관통하도록 형성되거나 또는 금속 코팅만을 관통하도록 형성될 수도 있다. 예컨대, 거울 몸체 및 광학 코팅이 레이저에 대하여 투명한 경우, 거울 몸체 및 광학 코팅에는 핀-홀(PH)이 형성되지 않을 수 있다.
레이저(L)가 제2 복합곡면거울(124a)의 핀-홀(PH)을 통해 입사되므로, 제2 이색 거울은 존재하지 않을 수 있다. 또한, 레이저(L)는 제1 이색 거울(142)을 통과하여 진행해야 하므로, 제1 이색 거울(142)은 레이저에 대하여 투명할 수 있다. 제1 이색 거울(142)은 또한 플라즈마 광(P)의 출력에 기여하므로 플라즈마 광(P)에 대해서는 반사 기능을 수행할 수 있다.
레이저(L)는 핀-홀(PH)을 통해 복합평면거울(126a)을 관통하여 제1 이색 거울(142)로 진행하고, 제1 이색 거울(142)을 투과하여 일부는 제1 복합곡면거울(122)로 진행하고 일부는 바로 챔버(110)로 입사될 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)로 진행한 레이저(L)는 제1 복합곡면거울(122)의 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다.
한편, 챔버(110)의 플라즈마에 의해 생성된 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 의한 반사, 또는 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)과 제1 이색 거울(142)의 반사를 통해 외부로 출력될 수 있다. 본 실시예의 플라즈마 광원(100h)은 도 10의 플라즈마 광원(100g)과 달리 제2 이색 거울이 없으므로, 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 반사되어 렌즈 시스템(154)으로 바로 출력될 수 있다.
도 12를 참조하면, 본 실시예에 의한 플라즈마 광원(100i)은 복합평면거울(126a)의 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 입사될 수 있다는 점에서, 도 11의 플라즈마 광원(100h)과 유사하나, 플라즈마 광(P)의 출력 구조가 도 11의 플라즈마 광원(100h)과 다를 수 있다.
좀더 구체적으로, 복합평면거울(126a)에는 핀-홀(PH)이 형성되고 핀-홀(PH)에 인접하여 제3 이색 거울(146)이 배치될 수 있다. 본 실시예에 의한 플라즈마 광원(100i)에서는 핀-홀(PH)과 제3 이색 거울(146)을 통해 레이저(L)가 입사되고 플라즈마 광(P)이 출력될 수 있다. 한편, 도시된 바와 같이 제1 복합곡면거울(122)과 복합평면거울(126a) 사이에는 별도의 이색 거울이 존재하지 않는다.
한편, 제3 이색 거울(146)은 도 9에서 설명한 제3 이색 거울(146)과 마찬가지로 레이저(L)를 투과시키고 플라즈마 광(P)을 반사시키거나, 또는 레이저(L)를 반사시키고 플라즈마 광(P)을 투과시킬 수 있다. 따라서, 전술한 바와 같이 제3 이색 거울(146)의 반사 및 투과 특성에 따라, 제3 이색 거울(146)에 대하여 레이저(L)의 렌즈 시스템(152)과 플라즈마 광(P)의 렌즈 시스템(154)의 위치가 달라질 수 있다.
레이저(L)는 제3 이색 거울(146)을 투과하거나 제3 이색 거울(146)에 반사되어, 핀-홀(PH)을 통해 복합평면거울(126a)을 관통하여 진행할 수 있다. 복합평면거울(126a)을 관통한 레이저(L)의 일부는 제1 복합곡면거울(122)로 진행하고 일부는 바로 챔버(110)로 입사될 수 있다. 제1 복합곡면거울(122)로 진행한 레이저(L)는 제1 복합곡면거울(122)의 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다.
한편, 챔버(110)의 플라즈마에 의해 생성된 플라즈마 광(P)은 곧바로 또는 제1 광학 코팅(도 2의 122in 참조)의 반사를 통해 핀-홀(PH)로 진행하여, 핀-홀(PH)을 통해 복합평면거울(126a)을 관통할 수 있다. 복합평면거울(126a)을 관통한 플라즈마 광(P)은 제3 이색 거울(146)에 반사되거나 제3 이색 거울(146)을 투과하여, 외부로 출력될 수 있다.
마이크로파가 핀-홀(PH)을 통과하지 못하도록 핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파의 반파장 미만으로 형성될 수 있음은 전술한 바와 같다. 한편, 본 실시예의 플라즈마 광원(100i)에서는 플라즈마 광(P)이 핀-홀(PH)을 통과하므로, 핀-홀(PH)은 복합평면거울(126a) 전체, 즉 광학 코팅, 거울 몸체, 및 금속 코팅을 모두 관통하도록 형성될 수 있다. 거울 몸체는 레이저(L)와 플라즈마 광(P)에 대해 투명하므로, 광학 코팅과 금속 코팅에만 핀-홀이 형성될 수도 있다.
도 13 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예들에 따른 챔버를 둘러싸는 곡면거울을 통과하여 챔버에 레이저를 직접 입사시키는 구조의 플라즈마 광원에 대한 개략적인 블록 구조도들이다. 설명의 편의를 위해 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 내용은 간단히 설명하거나 생략한다.
도 13을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100j)은 챔버(110), 곡면거울(125, curved mirror), 마이크로파 발생기(130), 및 레이저 발생기(160)를 포함할 수 있다.
챔버(110)는 플라즈마 점화용 매체 물질을 밀봉 상태로 수용할 수 있는 밀폐된 용기일 수 있다. 챔버(110)의 재질이나 플라즈마 점화용 매체 물질의 종류 등은 도 1의 설명 부분에서 설명한 바와 같다.
곡면거울(125)은 도 1의 제1 복합곡면거울(122)과 같이 챔버(110)를 둘러싸되 제1 방향(x 방향)으로 오픈 된 구조를 가질 수 있다. 예컨대, 곡면거울(125)은 전체적으로 계란과 같은 형태의 타원형의 구 또는 축구공과 같은 원형 구가 일부 잘리고 남은 형태와 유사할 수 있다. 이러한 곡면거울(125)은 외부 면과 외부 면의 곡률이 다르고 각각 다른 물질로 코팅된 복합곡면거울일 수 있다.
곡면거울(125)은 확대된 부분에서 확인할 수 있듯이 거울 몸체(125m), 거울 몸체(125m) 외부 면에 형성된 금속 코팅(125out) 및 거울 몸체(125m)의 내부 면에 형성된 광학 코팅(125in)을 포함할 수 있다. 금속 코팅(125out)은 마이크로파(M)를 포함한 대부분 전자기파를 반사시키기 위하여 거울 몸체(125m)의 외부 면에 형성될 수 있다. 예컨대, 금속 코팅(125out)은 챔버(110)를 외부의 전자기파로부터 차단하는 기능을 하며, 곡면거울(125) 내부로 입사된 마이크로파(M)를 반사시켜 챔버(110)에 입사시키는 기능을 할 수 있다.
광학 코팅(125in)은 요구되는 파장 대역의 전자기파는 반사시키고, 나머지 파장 대역의 전자기파는 투과되도록 하기 위하여 거울 몸체(125m)의 내부 면에 형성될 수 있다. 예컨대, 광학 코팅(125in)은 마이크로파(M)에 대하여 투명하며, 플라즈마 광(P)에 대해서 반사하는 기능을 가질 수 있다. 경우에 따라, 광학 코팅(125in)은 레이저에 대해서도 투명할 수 있다.
곡면거울(125)의 금속 코팅(125out)은 타원 거울 또는 구면 거울을 구성할 수 있다. 금속 코팅(125out)이 타원 거울 또는 구면 거울을 구성하는 경우, 타원 거울 또는 구면 거울은 챔버(110)가 위치하는 부분을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 그에 따라, 금속 코팅(125out)에 의해 반사된 마이크로파(M)가 초점인 챔버로 진행할 수 있다.
곡면거울(125)의 광학 코팅(125in)은 타원 거울을 구성할 수 있다. 광학 코팅(125in)이 타원 거울을 구성하는 경우에, 타원 거울은 챔버(110)가 위치하는 부분을 초점으로 하는 곡률을 가질 수 있다. 금속 코팅(125out)과 광학 코팅(125in) 둘 다 타원 거울을 구성하는 경우, 금속 코팅(125out)에 의한 타원 거울과 광학 코팅(125in)에 의한 타원 거울의 곡률은 서로 다를 수 있다. 그러나 금속 코팅(125out)에 의한 타원 거울과 광학 코팅(125in)에 의한 타원 거울의 초점이 챔버(110)가 위치하는 부분과 일치하는 경우에, 곡률이 동일할 수도 있다.
지금까지 타원 거울 또는 구면 거울을 예로 설명하였지만, 본 실시예의 곡면거울(125)의 금속 코팅(125out)과 광학 코팅(125in)은 타원 거울 또는 구면 거울에 한하지 않는다. 예컨대, 곡면거울(125)의 금속 코팅(125out)과 광학 코팅(125in)은 다양한 곡면(curved) 거울 형태를 가질 수 있다. 이러한 곡면거울 형태의 금속 코팅(125out)과 광학 코팅(125in)을 통해 마이크로파(M)를 챔버(110)로 입사시키고, 플라즈마 광을 외부로 효율적으로 출력하도록 할 수 있다.
한편, 곡면거울(125)의 중심 부분에는 핀-홀(PH)이 형성되고, 이러한 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 챔버에 입사될 수 있다. 핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파(M)의 반파장 미만일 수 있다. 경우에 따라, 핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파(M) 반파장 이상일 수도 있다. 예컨대, 핀-홀 부분으로 마이크로파(M)가 입사될 가능성이 거의 없는 경우에 핀-홀(PH)의 사이즈는 마이크로파(M)의 파장과 관계없이 형성될 수 있다.
핀-홀(PH)은 곡면거울(125) 전체, 즉 거울 몸체(125m), 금속 코팅(125out) 및 광학 코팅(125in) 모두를 관통하여 형성될 수 있다. 또한, 핀-홀(PH)은 금속 코팅(125out)만을 관통하여 형성되고 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)에는 형성되지 않을 수 있다. 즉, 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)이 레이저에 대해 투명한 경우, 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)에 핀-홀(PH)이 형성되지 않더라도 레이저가 곡면거울(125)을 통과하는데 지장이 없기 때문이다.
마이크로파 발생기(130)는 챔버(110)에 입사시킬 마이크로파를 생성하는 장치로서, 예컨대, 마그네트론일 수 있다. 마이크로파 발생기(130)로부터 생성된 마이크로파는 도파관(132)을 통해 챔버(110)로 입사될 수 있다. 도파관(132)을 통해 마이크로파(M)가 챔버(110)로 바로 입사되도록 도파관(132)의 출구는 챔버(110)를 향할 수 있다.
한편, 곡면거울(125)이 금속 코팅(125out)을 포함하는 경우, 도 6에서 설명한 바와 같이 도파관(132)이 결합하는 부분의 거울 몸체(125m)의 외부 면에는 금속 코팅(125out)이 형성되지 않을 수 있다. 도파관(132)이 핀-홀(PH) 부분에서 약간 상부에 결합하고 있지만 도파관(132)의 결합 위치가 그에 제한되는 것은 아니다. 예컨대, 도파관(132)은 핀-홀(PH)과 겹쳐지지 않는 한 곡면거울(125)의 어느 부분에도 배치 및 결합할 수 있다. 또한, 경우에 따라, 도파관(132)은 곡면거울(125)에 결합하지 않고, 곡면거울(125)의 오픈 방향에 배치됨으로써, 곡면거울(125)을 통과함이 없이 곧바로 챔버(110)로 마이크로파(M)가 입사되도록 할 수도 있다. 한편, 도파관(132)이 곡면거울(125)의 오픈 방향으로 배치되는 경우에, 금속 코팅(125out)은 마이크로파(M)의 챔버(110)로의 입사 효율을 증가시킬 수 있다.
레이저 발생기(160)는 레이저를 생성하여 챔버(110)에 입사시킬 수 있다. 도 1의 플라즈마 광원(100) 구조와 달리 본 실시예의 레이저 발생기(160)는 곡면거울(125)에 형성된 핀-홀(PH)을 통해 레이저를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다. 한편, 레이저 발생기(160)는 도시된 바와 같이 렌즈 시스템(152)을 통해 레이저를 컬리메이션(collimation) 및 집광(focusing)하여 핀-홀(PH)을 통해 챔버(110)에 입사시킬 수 있다. 렌즈 시스템(152)은 예컨대, 제1 렌즈(151-1)와 제2 렌즈(152-2)를 포함할 수 있고, 제1 렌즈(152-1)는 레이저를 컬리메이션하고 제2 렌즈(152-2)는 레이저를 집광할 수 있다. 제1 렌즈(152-1)는 예컨대 비구면(aspheric) 렌즈이고 제2 렌즈(152-2)는 엑시콘(axicon) 렌즈일 수 있다. 렌즈 시스템(152)은 상기 내용에 한하지 않고, 레이저(L)의 챔버로의 입사 효율을 높이기 위하여 다양한 종류 및 개수의 렌즈들을 포함할 수 있다.
본 실시예에 플라즈마 광원(100j)에서, 레이저 발생기(160)로부터 생성된 레이저는 비교적 에너지가 낮은 CW 레이저, 특히 적외선(IR)-CW 레이저일 수 있다. 이러한 레이저는 챔버(110)에서 플라즈마(112) 점화와 동시 또는 점화 후에 챔버(110)에 입사되어 플라즈마를 계속 유지시키고 또한, 플라즈마의 세기를 극대화하는 작용을 할 수 있다. 기존에 낮은 압력의 챔버(110) 내에서 플라즈마 점화를 위해 매우 큰 에너지를 갖는 펄스 레이저가 필요하거나 플라즈마 점화 자체가 힘든 문제가 있었다. 그러나, 본 실시예의 플라즈마 광원(100j)에서는, 플라즈마 점화는 마이크로파를 통해 수행하고, 플라즈마 유지 및 세기 증가는 레이저를 통해 수행함으로써, 챔버(110)를 낮은 압력으로 유지하면서도 펄스 레이저가 아닌 CW 레이저를 이용할 수 있다.
챔버(110) 내의 플라즈마에 의해 발생한 플라즈마 광(P)은 곧바로 또는 광학 코팅(125in)에 의한 반사를 통해 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다. 렌즈 시스템(154)은 예컨대, 로드렌즈(rodlens)일 수 있다. 광학 코팅(125in)이 타원 거울을 구성하는 경우 렌즈 시스템(154)의 위치는 챔버(110)와 함께 또 하나의 초점에 해당할 수 있다. 그에 따라, 타원 거울의 반사 원리에 따라, 어느 하나의 초점인 챔버에서 나온 플라즈마 광은 광학 코팅(125in)에 의해 반사되어 다른 하나의 초점인 렌즈 시스템(154)으로 진행하게 된다. 렌즈 시스템(154)이 로드렌즈에 한정되는 것은 아니다. 플라즈마 광(P)의 출력 효율을 높이기 위하여 렌즈 시스템(154)은 다양한 종류 및 개수의 렌즈들을 포함할 수 있다.
본 실시예의 플라즈마 광원(100j)에서는 이색 렌즈들을 포함하지 않을 수 있다. 또한, 하나의 곡면거울(125) 하나만을 포함하여 플라즈마 광을 제1 방향(x 방향) 전방으로 곧바로 출력하는 구조를 가질 수 있다. 그에 따라, 본 실시예의 플라즈마 광원(100j)은 도 1의 플라즈마 광원(100)과 같이 플라즈마 점화와, 플라즈마 유지 및 세기 증가를 별개로 수행하면서도, 이색 렌즈 및 제2 복합곡면거울을 포함하지 않음으로써, 광원의 전체 구조를 단순화시킬 수 있다. 또한, 단순화된 광원 구조에 기초하여, 플라즈마 점화와, 플라즈마 유지 및 세기 증가를 별개로 수행하는 원리를 채용한 플라즈마 광원에 대한 구현가능성을 실질적으로 증대시킬 수 있다.
도 14를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100k)은 곡면거울(125a)을 제외하고 도 13의 플라즈마 광원(100j)과 유사하다. 확대된 부분에서 확인할 수 있듯이, 곡면거울(125a)은 금속 코팅을 포함하지 않을 수 있다. 즉, 곡면거울(125a)은 거울 몸체(125m)와 거울 몸체 내부 면에 형성된 광학 코팅(125in)만을 포함할 수 있다.
곡면거울(125a)이 금속 코팅을 포함하지 않기 때문에, 곡면거울(125a)에는 핀-홀이 형성되지 않을 수 있다. 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)은 레이저(L)에 대하여 투명할 수 있다. 따라서, 곡면거울(125a)에 핀-홀이 형성되지 않더라도, 레이저(L)는 곡면거울(125a)을 투과하여 챔버(110)에 입사될 수 있다.
한편, 마이크로파 발생기(130) 역시 도파관(132)을 통해 거울 몸체(125m)에 바로 결합하여 챔버(110)로 마이크로파(M)를 입사시킬 수 있다. 전술한 바와 같이 도파관(132)은 레이저(L)가 입사하는 곳을 제외하고 곡면거울(125a)의 어느 곳에도 배치 결합할 수 있고, 경우에 따라, 곡면거울(125a)의 오픈 된 부분으로도 배치될 수 있다.
도 15를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100l)은 도 1의 플라즈마 광원(100)과 도 13의 플라즈마 광원(100j)을 복합한 구조일 수 있다. 구체적으로, 플라즈마 광원(100l)은 도 1의 플라즈마 광원(100)과 같이 이중 복합거울(120-2)을 포함할 수 있고, 제1 복합곡면거울(125)과 제2 복합곡면거울(124) 사이에 이색 거울(142)이 배치될 수 있다. 또한, 도 13의 플라즈마 광원(100j)과 같이 제1 복합곡면거울(125)에는 핀-홀(PH)이 형성될 수 있다.
이중 복합거울(120-2)은 제1 복합곡면거울(125)에 핀-홀(PH)이 형성되어 있다는 것을 제외하고 도 1 또는 도 2의 이중 복합거울(120)과 유사할 수 있다. 또한, 제1 복합곡면거울(125)은 도 13의 곡면거울(125)과 동일할 수 있다. 그에 따라, 제1 복합곡면거울(125)은 거울 몸체(125m), 금속 코팅(125out) 및 광학 코팅(125in)을 포함하며, 제2 복합곡면거울(124)도 제2 거울 몸체(124m), 제2 금속 코팅(124out) 및 제2 광학 코팅(124in)을 포함할 수 있다. 또한, 제1 복합곡면거울(125)과 제2 복합곡면거울(124)의 전자기파에 대한 투과 특성은 도 1에서 설명한 것과 유사할 수 있다. 즉, 거울 몸체(125m) 및 제2 거울 몸체(124m)는 마이크로파(M)에 대하여 투명할 수 있다. 금속 코팅(125out)과 제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파(M)를 비롯한 대부분의 전자기파를 반사할 수 있다. 그에 따라, 금속 코팅(125out)과 제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파(M)를 차폐하는 기능을 할 수 있고, 또한 거리를 적절히 조절하여 마이크로파(M)에 대하여 공진기를 구성할 수 있다. 광학 코팅(125in)과 제2 광학 코팅(124in)은 플라즈마 광(P)과 레이저(L)를 반사할 수 있다. 한편, 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)은 레이저에 대하여 투명할 수 있고, 그러한 경우에 핀-홀(PH)은 금속 코팅(125out)에만 형성될 수 있다.
본 실시예의 플라즈마 광원(100l)은 도 13의 플라즈마 광원(100j)과 동일하게, 제1 복합곡면거울(125)의 핀-홀(PH)을 통해 레이저(L)가 챔버로 입사될 있다. 또한, 핀-홀(PH) 이외의 부분으로 제1 복합곡면거울(125)에 결합한 도파관(132)을 통해 마이크로파(M)가 챔버(110)로 입사될 수 있다. 도파관(132)이 결합한 제1 복합곡면거울(125) 부분에는 금속 코팅(125out)이 존재하지 않을 수 있다.
이색 거울(142)은 마이크로파(M)와 레이저(L)에 대하여 투명하고 플라즈마 광(P)에 대하여 반사 기능을 가질 수 있다. 이에 따라, 챔버(110) 내의 플라즈마에 의해 방출된 플라즈마 광(P)은 이색 거울(142)의 반사, 또는 광학 코팅(125in)과 이색 거울(142)의 반사에 의해 렌즈 시스템(154), 예컨대, 로드렌즈로 출력될 수 있다. 한편, 제2 광학 코팅(124in)은 레이저(L)와 플라즈마 광(P)을 반사시킬 수 있고, 그에 따라, 제2 복합곡면거울(124)에 인접하여 그려진 양방향 화살표는 제2 복합곡면거울(124)이 마이크로파(M), 레이저(L) 및 플라즈마 광(P) 모두를 반사할 수 있음을 의미할 수 있다.
도 16을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100m)은 도 15의 플라즈마 광원(100l)과 유사하나 이중 복합거울(120-2a)의 곡면거울(125a)의 구조가 다를 수 있다. 곡면거울(125a)은 도 14에서와 같이 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)만을 포함할 수 있다. 또한, 곡면거울(125a)에는 핀-홀이 형성되지 않을 수 있다.
한편, 제2 복합곡면거울(124)은 도 15에서와 같이 제2 거울 몸체(124m), 제2 금속 코팅(124out) 및 제2 광학 코팅(124in)을 포함하고, 제2 금속 코팅(124out)은 마이크로파(M)를 반사시키고, 제2 광학 코팅(124in)은 레이저(L)와 플라즈마 광(P)을 반사시킬 수 있다.
이와 같은 플라즈마 광원(100m) 구조에서, 레이저(L)와 마이크로파(M)는 곡면거울(125a)을 투과하여 챔버(110)에 입사될 수 있다. 한편, 챔버(110)를 지나친 레이저(L)와 마이크로파(M)는 제2 복합곡면거울(124)에 의해 반사되어 챔버(110)로 재입사될 수 있다. 챔버(110)로부터 방출된 플라즈마 광(P)은 이색 거울(142), 또는 광학 코팅(125in) 및 이색 거울(142)의 반사를 통해 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다. 또한, 플라즈마 광(P)은 제2 복합곡면거울(124)에 의해 반사되어 광학 코팅(125in) 및 이색 거울(142)의 반사를 통해 재출력될 수 있다.
도 17을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100n)은 이중 복합거울(120-3)이 제2 복합곡면거울 대신 복합평면거울(126)을 포함한다는 것을 제외하고 도 15의 플라즈마 광원(100l)과 거의 동일할 수 있다. 즉, 이중 복합거울(120-3)은 제1 복합곡면거울(125)과 복합평면거울(126)을 포함할 수 있고, 제1 복합곡면거울(125)과 복합평면거울(126) 사이에는 이색 거울(142)이 배치되며, 제1 복합곡면거울(125)에는 핀-홀(PH)이 형성될 수 있다. 복합평면거울(126)의 특성은 도 10의 플라즈마 광원(100g)에서 설명한 바와 같다.
달리 말하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100n)은 도 10의 플라즈마 광원(100g)과 도 13의 플라즈마 광원(100j)을 절충한 구조라고 할 수 있다. 한편, 도 14의 플라즈마 광원(100k)의 구조와 도 10의 플라즈마 광원(100g)의 구조가 절충될 수 있고, 그러한 경우에 곡면거울은 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)만을 포함할 수 있고, 곡면거울에 핀-홀이 형성되지 않을 수 있다.
도 18을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 광원(100o)은 도 13의 플라즈마 광원(100j)과 달리 곡면거울(125)의 오픈 된 방향인 제1 방향(x 방향)으로 이색 거울(142)이 배치될 수 있다. 또한, 이색 거울(142)의 제1 방향 전방으로 마이크로파 발생기(130) 및 도파관(132)이 배치될 수 있다.
곡면거울(125)은 도 13에서 설명한 바와 같이, 거울 몸체(125m), 금속 코팅(125out) 및 광학 코팅(125in)을 포함할 수 있다. 곡면거울(125)에는 핀-홀(PH)이 형성될 수 있는데, 핀-홀(PH)은 곡면거울(125) 전체 또는 금속 코팅(125out)에만 형성될 수 있다. 이색 거울(142)은 마이크로파(M)에 대해 투명하고, 플라즈마 광(P)을 반사시킬 수 있다. 한편, 도 14의 플라즈마 광원(100k)과 같이 곡면거울은 거울 몸체(125m)와 광학 코팅(125in)만을 포함할 수 있고, 그러한 경우에는 곡면거울에 핀-홀이 형성되지 않을 수도 있다.
이와 같은 플라즈마 광원(100o) 구조에서, 레이저(L)는 핀-홀(PH)을 통해 챔버(110)로 입사되며, 마이크로파(M)는 이색 거울(142)을 투과하여 챔버(110)로 입사될 수 있다. 한편, 챔버(110)를 지나친 마이크로파(M)는 금속 코팅(125out)에 의해 반사되어 챔버(110)로 재입사될 수 있다. 챔버(110)에서 방출된 플라즈마 광(P)은 이색 거울(142)의 반사, 또는 광학 코팅(125in)과 이색 거울(142)의 반사를 통해 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다.
한편, 렌즈 시스템(154)이 제2 방향(y 방향) 상부에 배치되고 있지만, 렌즈 시스템(154)의 위치가 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 이색 거울(142)의 배치 각도를 조절함으로써, 렌즈 시스템(154)이 제2 방향 하부, 또는 지면에서 나오거나 들어가는 방향에 배치되도록 할 수 있음은 물론이다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광원을 구비한 검사 장치에 대한 블록 구조도이다.
도 19를 참조하면, 본 실시예의 검사 장치(1000)는 플라즈마 광원(100), 제1 광학계(200), 빔 스플리터(300, Beam Splitter: BS), 제2 광학계(400), 검사 스테이지(500), 제3 광학계(600) 및 검출기(700)를 포함할 수 있다.
플라즈마 광원(100)은 도 1 또는 도 2 등에서 설명한 플라즈마 광원일 수 있다. 그러나 본 실시예의 검사 장치(1000)에는 도 1 또는 도 2의 플라즈마 광원(100)뿐만 아니라, 도 4, 도 5, 도 6b, 도 6c, 도 8 내지 도 18의 다양한 구조의 플라즈마 광원(100a, 100b, ..., 100n, 100o)이 채용될 수 있다.
제1 광학계(200)는 플라즈마 광원(100)과 빔 스플리터(300) 사이에 배치되며, 플라즈마 광원(100)으로부터의 플라즈마 광(P)을 집광하여 빔 스플리터(300)로 전달할 수 있다. 제1 광학계(200)는 예컨대, 로드렌즈(210) 및 릴레이 렌즈(220)를 포함할 수 있다. 물론, 제1 광학계(200)는 이에 한하지 않고 다양한 종류 및 개수의 렌즈를 포함하여, 플라즈마 광(P)을 빔 스플리터(300)로 전달할 수 있다.
빔 스플리터(300)는 제1 광학계(200)를 통해 전달된 플라즈마 광(P)을 반사하여 제2 광학계(400)로 전달하고, 또한 제2 광학계(400)를 통해 검사 대상체(2000)로부터 반사된 광을 투과시켜 검출기(700)로 전달할 수 있다. 빔 스플리터(300)는 일종의 이색 거울에 해당할 수 있다.
제2 광학계(400)는 빔 스플리터(300)로 반사된 플라즈마 광을 검사 대상체(2000)로 조사시킬 수 있다. 2 광학계(400)는 예컨대, 튜브 렌즈(410) 및 대물 렌즈(420)를 포함할 수 있다. 튜브 렌즈(410)는 빔 스플리터(300)로부터의 광을 평행광으로 바꿔주고, 대물 렌즈(420)는 튜브 렌즈(410)부터의 평행광을 집광하여 검사 대상체에 조사한다.
검사 스테이지(500)는 검사 대상체(2000)가 배치되는 장치로서, x 방향, y 방향 및 z 방향으로 이동할 수 있다. 그에 따라, 검사 스테이지(500)를 XYZ 스테이지라고 부르기고 한다. 검사 대상체(2000)는 웨이퍼, 반도체 패키지, 반도체 칩, 디스플레이 패널 등의 검사의 대상이 되는 다양한 장치들일 수 있다.
플라즈마 광은 검사 대상체(2000)로 조사되어 반사되고, 반사된 광(이하, 반사광)은 제2 광학계를 통과하여 빔 스플리터(300)로 전달되고, 빔 스플리터(300)는 반사광을 통과시켜 제3 광학계(600)로 전달할 수 있다. 제3 광학계(600)는 빔 스플리터(300)로부터 전달받은 반사광을 검출기(700)로 전달할 수 있다. 제3 광학계(600)는 예컨대 릴레이 렌즈일 수 있다.
검출기(700)는 제3 광학계(600)로부터의 반사광을 수용하고, 반사광을 분석하기 위해 반사광을 다른 분석 장치(미도시)로 전달할 수 있다. 경우에 따라 검출기는 분석장치를 포함하거나 분석장치와 연동함으로써, 반사광에 대한 분석을 수행할 수도 있다. 검출기(700)는 예컨대, CCD(charge coupled device) 카메라일 수 있다. 물론, 검출기(700)가 CCD 카메라에 한정되는 것은 아니고, CMOS(complementary metal oxide semiconductor) 이미지 센서와 같이 다양한 센서가 검출기(700)로 채용될 수 있다.
지금까지, 플라즈마 광원이 검사 장치에 포함되어 이용되는 경우에 대해 설명하였지만, 이에 한하지 않고 플라즈마 광원은 반도체 공정, 예컨대 노광 공정에 이용될 수도 있다. 그에 따라, 플라즈마 광원은 노광 장치에 포함될 수 있다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 광 생성 방법을 보여주는 흐름도이다. 이해의 편의를 위해 도 1 내지 도 18을 참조하여 설명한다.
도 20을 참조하면, 먼저, 마이크로파를 챔버(110)에 입사시켜 플라즈마를 점화시킨다(S110). 챔버(110) 내에는 플라즈마 점화용 매체 물질이 밀봉된 상태로 수용될 수 있다. 챔버(110)는 마이크로파에 대한 투명한 재질로 형성되며, 챔버(110) 내부는 비교적 낮은 압력으로 유지될 수 있다. 이러한 챔버(110) 내에 마이크로파가 입사됨으로써 플라즈마가 용이하게 점화될 수 있음은 전술한 바와 같다. 마이크로파는 도 1 및 도 2 등에서와 같이 제1 복합곡면거울(122)을 관통하여 입사시키거나, 도 18에서와 같이 곡면거울(125)의 오픈 된 전방에서 이색거울(142)을 투과하여 입사시킬 수 있다.
플라즈마가 점화됨과 동시에 또는 점화된 후에 레이저(L)를 챔버(110)로 입사시켜 플라즈마를 유지시킨다(S120). 플라즈마 유지 단계(S120)는 레이저의 파워를 한계점까지 올려 플라즈마의 세기를 극대화하는 것을 포함할 수 있다. 레이저(L)는 이색거울을 이용하거나 핀-홀을 통해 입사시킬 수 있다. 레이저(L) 입사에 대해서는 도 21 내지 도 25에 대한 설명 부분에서 해당 구조의 도면을 참조하여 좀더 상세히 설명한다.
플라즈마에 의해 발생한 플라즈마 광(P)을 이중 복합거울 또는 곡면거울 등을 이용하여 외부로 출력한다(S130). 플라즈마 광(P)의 출력은 플라즈마 광원의 구조에 따라, 곡면거울을 이용한 출력, 이중 복합거울 및 이색거울을 이용한 출력, 곡면거울 및 이색거울을 이용한 출력 등 다양한 방법들이 채택될 수 있다. 참고로, 레이저(L)에 의한 플라즈마 유지 단계(S120)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130)는 설명과 이해의 편의를 위해 구분했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다. 플라즈마 광(P)의 출력에 대해서도 도 21 내지 도 25에 대한 설명 부분에서 해당 구조의 도면을 참조하여 좀더 상세히 설명한다.
본 실시예에 따른 플라즈마 광 생성 방법은, 플라즈마 점화는 마이크로파를 통해 수행하고, 플라즈마 유지 및 세기 증가는 레이저를 통해 수행함으로써, 기존 레이저 파워의 증가 방법과 챔버의 압력 조절 방법에 따른 문제를 해결할 수 있고, 그에 따라 플라즈마 광의 출력을 극대화할 수 있다. 또한, 본 실시예의 플라즈마 광 생성 방법은 이중 복합거울을 채용함으로써, 마이크로파와 레이저의 챔버로의 입사 효율을 증가시켜, 플라즈마 광의 출력을 보다 증가시킬 수 있다. 한편, 적절한 곳에 이색 거울들을 배치함으로써, 플라즈마 광의 출력 증가와 함께 레이저 장치의 배치 위치나 플라즈마 광의 출력 방향에 대한 자유도를 증가킬 수 있다.
도 21 내지 도 25는 도 20의 플라즈마 광 생성 방법에서 플라즈마 유지 단계와 플라즈마 광 출력 단계를 좀더 구체적으로 보여주는 흐름도들이다. 이해의 편의를 위해 도 1 내지 도 18을 함께 참조하여 설명한다.
도 21을 참조하면, 플라즈마 광원이 도 1 및 도 2, 또는 도 10의 플라즈마 광원(100, 100g)의 구조를 갖는 경우, 플라즈마 점화 단계(S110) 이후에, 플라즈마 유지 단계(S120)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130)는 각각 다음과 같이 세분화될 수 있다. 예컨대, 플라즈마 유지 단계(S120)에서, 먼저, 2개의 이색 거울(142, 144)을 이용하여 레이저(L)를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다(S122). 2개 이색 거울(142, 144)을 이용한 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사는 제1 광학 코팅(122in)에 의한 레이저의 반사를 포함할 수 있다. 레이저(L)는 제2 이색 거울(144) 및 제1 이색 거울(142)의 반사를 통해 챔버(110)로 입사되거나 또는 제1 광학 코팅(122in)으로 진행할 수 있다. 제1 광학 코팅(122in)으로 진행한 레이저는 다시 제1 광학 코팅(122in)에 의해 반사되어 챔버(110)로 입사될 수 있다.
다음, 챔버로 입사된 레이저(L)는 챔버(110) 내의 플라즈마를 유지 및 세기를 증가시킬 수 있다(S124). 참고로, 레이저(L)의 입사와 레이저(L) 입사에 의한 플라즈마 유지 및 세기 증가는 편의상 구분해서 설명했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
한편, 플라즈마 광의 출력 단계(S130)에서, 먼저, 챔버(110) 내의 플라즈마로부터 발생한 플라즈마 광(P)은 이중 복합거울 및 이색 거울을 통해 반사될 수 있다(S132). 구체적으로, 플라즈마 광(P)은 곧바로 제1 이색 거울(142)로 진행하거나 또는 제1 광학 코팅(122in)의 반사를 통해 제1 이색 거울(142)로 진행한다. 제1 이색 거울(142)로 진행한 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 의한 반사를 통해 제2 이색 거울(144)로 진행할 수 있다. 한편, 플라즈마 광(P)의 반사는 제2 광학 코팅(124in)에 의한 반사를 포함할 수 있다.
이후, 제1 이색 거울(142)에 의해 반사된 플라즈마 광(P)은 제2 이색 거울(144)을 투과하여 출력될 수 있다(S134). 전술한 바와 같이, 레이저(L)에 의한 플라즈마 유지 단계(S120)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130)는 설명과 이해의 편의를 위해 구분했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
도 22를 참조하면, 플라즈마 광원이 도 8, 또는 도 11의 플라즈마 광원(100e, 100h)의 구조를 갖는 경우, 플라즈마 점화 단계(S110) 이후에, 플라즈마 유지 단계(S120a)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130a)는 각각 다음과 같이 세분화될 수 있다. 예컨대, 플라즈마 유지 단계(S120a)에서, 먼저, 제2 복합곡면거울(124a) 또는 복합평면거울(126a)의 핀-홀(PH)을 이용하여 레이저(L)를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다(S122a). 핀-홀(PH)을 이용한 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사는 제1 이색 거울(142)의 투과와 제1 광학 코팅(122in)에 의한 반사를 포함할 수 있다. 제1 이색 거울(142)을 투과한 레이저(L)는 챔버(110)로 입사되거나 또는 제1 광학 코팅(122in)에 의한 반사를 통해 챔버(110)로 입사될 수 있다.
다음, 챔버로 입사된 레이저(L)는 챔버(110) 내의 플라즈마를 유지 및 세기를 증가시킬 수 있다(S124). 본 실시예에서도, 레이저(L)의 입사와 레이저(L) 입사에 의한 플라즈마 유지 및 세기 증가는 편의상 구분해서 설명했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
한편, 플라즈마 광의 출력 단계(S130a)에서, 먼저, 챔버(110) 내의 플라즈마로부터 발생한 플라즈마 광(P)은 이중 복합거울 및 이색 거울을 통해 반사될 수 있다(S132). 구체적으로, 플라즈마 광(P)은 곧바로 제1 이색 거울(142)로 진행하거나 또는 제1 광학 코팅(122in)의 반사를 통해 제1 이색 거울(142)로 진행한다. 제1 이색 거울(142)로 진행한 플라즈마 광(P)은 제1 이색 거울(142)에 의한 반사될 수 있다. 한편, 플라즈마 광(P)의 반사는 제2 광학 코팅(124in)에 의한 반사를 포함할 수 있다.
이후, 제1 이색 거울(142)에 의해 반사된 플라즈마 광(P)은 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다(S134a). 제2 이색 거울이 존재하지 않으므로 본 실시예에서는 플라즈마 광(P)은 제2 이색 거울을 투과하지 않고 바로 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다.
도 23을 참조하면, 플라즈마 광원이 도 9, 또는 도 12의 플라즈마 광원(100f, 100i)의 구조를 갖는 경우, 플라즈마 점화 단계(S110) 이후에, 플라즈마 유지 단계(S120b)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130b)는 각각 다음과 같이 세분화될 수 있다. 예컨대, 플라즈마 유지 단계(S120b)에서, 먼저, 제2 복합곡면거울(124a) 또는 복합평면거울(126a)의 핀-홀(PH)을 이용하여 레이저(L)를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다(S122b). 핀-홀(PH)을 이용한 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사는 제3 이색 거울(146)의 투과 또는 반사, 그리고 제1 광학 코팅(122in)에 의한 반사를 포함할 수 있다. 즉, 제3 이색 거울(146)을 투과하거나 또는 제3 이색 거울(146)에 의해 반사된 레이저(L)는 핀-홀(PH)을 통해 제2 복합곡면거울(124a) 또는 복합평면거울(126a)을 관통하여, 챔버(110)로 입사되거나 또는 제1 광학 코팅(122in)에 의한 반사를 통해 챔버(110)로 입사될 수 있다.
다음, 챔버로 입사된 레이저(L)는 챔버(110) 내의 플라즈마를 유지 및 세기를 증가시킬 수 있다(S124). 본 실시예에서도, 레이저(L)의 입사와 레이저(L) 입사에 의한 플라즈마 유지 및 세기 증가는 편의상 구분해서 설명했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
한편, 플라즈마 광의 출력 단계(S130b)에서, 먼저, 챔버(110) 내의 플라즈마로부터 발생한 플라즈마 광(P)은 이중 복합거울을 통해 반사될 수 있다(S132b). 구체적으로, 플라즈마 광(P)은 곧바로 제2 복합곡면거울(124a) 또는 복합평면거울(126a)의 핀-홀(PH)로 진행하거나 또는 제1 광학 코팅(122in)의 반사를 통해 핀-홀(PH)로 진행한다. 한편, 플라즈마 광(P)의 반사는 제2 광학 코팅(124in)에 의한 반사를 포함할 수 있다.
이후, 핀-홀(PH) 및 제3 이색 거울(146)을 통해 플라즈마 광(P)은 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다(S134b). 즉, 핀-홀(PH)로 진행한 플라즈마 광(P)은 핀-홀(PH)을 통해 제2 복합곡면거울(124a) 또는 복합평면거울(126a)을 관통하여 제3 이색 거울(146)로 입사될 수 있다. 제3 이색 거울(146)로 입사된 플라즈마 광(P)은제3 이색 거울(146)의 반사 또는 투과를 통해 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다(S134a).
도 24를 참조하면, 플라즈마 광원이 도 13의 플라즈마 광원(100j)의 구조를 갖는 경우, 플라즈마 점화 단계(S110) 이후에, 플라즈마 유지 단계(S120c)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130c)는 각각 다음과 같이 세분화될 수 있다. 예컨대, 플라즈마 유지 단계(S120c)에서, 먼저, 곡면거울(125)의 핀-홀(PH)을 이용하여 레이저(L)를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다(S122c). 한편, 도 14와 같이 곡면거울(125a)이 금속 코팅을 포함하지 않는 경우, 곡면거울(125a)에 핀-홀(PH)이 형성되지 않을 수 있고 레이저(L)는 곡면거울(125a)을 투과하여 챔버(110)에 입사될 수 있다. 또한, 도 15 내지 도 17과 같이 이중 복합거울(120-2, 120-2a, 120-3)의 구조를 갖는 경우, 레이저(L)의 챔버(110)로의 입사는 제2 복합곡면거울(124) 또는 복합평면거울(126)의 반사를 통한 입사를 포함할 수 있다.
다음, 챔버로 입사된 레이저(L)는 챔버(110) 내의 플라즈마를 유지 및 세기를 증가시킬 수 있다(S124). 본 실시예에서도, 레이저(L)의 입사와 레이저(L) 입사에 의한 플라즈마 유지 및 세기 증가는 편의상 구분해서 설명했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
한편, 플라즈마 광의 출력 단계(S130c)에서, 먼저, 챔버(110) 내의 플라즈마로부터 발생한 플라즈마 광(P)은 곡면거울(125)을 통해 반사될 수 있다(S132c). 곡면거울(125)에 의해 반사된 플라즈마 광(P)은 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다(S134c). 한편, 렌즈 시스템(154)으로의 출력은 곡면거울(125)에 의한 반사 없이 플라즈마 광(P)이 챔버(110)로부터 렌즈 시스템(154)으로 곧바로 출력되는 것을 포함할 수 있다.
도 15 내지 도 17과 같이 이중 복합거울(120-2, 120-2a, 120-3)의 구조를 가지며, 이색 거울(142)을 포함하는 경우, 곡면거울(125)을 통한 반사 단계(S132b)는 이색 거울(142)에 의한 반사를 포함할 수 있다. 즉, 플라즈마 광(P)은 곧바로 또는 곡면거울(125)의 반사를 통해 이색거울(142)로 진행하여, 이색거울(142)에 의해 반사될 수 있다. 한편, 이색 거울(142)이 존재함에 따라, 렌즈 시스템(154)으로의 출력은 이색 거울(142)의 반사를 통해 이루어질 수 있다. 즉, 플라즈마 광(P)은 이색 거울(142)에 의해 반사되어 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다.
도 25를 참조하면, 플라즈마 광원이 도 18의 플라즈마 광원(100o)의 구조를 갖는 경우, 플라즈마 점화 단계(S110)에서, 마이크로파(M)는 곡면거울(125)의 오픈 된 전방으로 배치된 이색 거울(142)을 투과하여 챔버(110)로 입사될 수 있다. 플라즈마 점화 단계(S110) 이후에, 플라즈마 유지 단계(S120c)와 플라즈마 광의 출력 단계(S130d)는 각각 다음과 같이 세분화될 수 있다. 예컨대, 플라즈마 유지 단계(S120c)에서, 곡면거울(125)의 핀-홀(PH)을 이용하여 레이저(L)를 챔버(110)에 입사시킬 수 있다(S122c). 한편, 도 14와 같이 곡면거울(125a)이 금속 코팅을 포함하지 않는 경우, 곡면거울(125a)에 핀-홀(PH)이 형성되지 않을 수 있고 레이저(L)는 곡면거울(125a)을 투과하여 챔버(110)에 입사될 수 있다.
다음, 챔버로 입사된 레이저(L)는 챔버(110) 내의 플라즈마를 유지 및 세기를 증가시킬 수 있다(S124). 본 실시예에서도, 레이저(L)의 입사와 레이저(L) 입사에 의한 플라즈마 유지 및 세기 증가는 편의상 구분해서 설명했을 뿐, 거의 동시적으로 일어나며 또한 연속적으로 일어날 수 있다.
한편, 플라즈마 광의 출력 단계(S130d)에서, 먼저, 챔버(110) 내의 플라즈마로부터 발생한 플라즈마 광(P)은 곡면거울(125) 및 이색거울(142)을 통해 반사될 수 있다(S132d). 구체적으로, 플라즈마 광(P)은 곧바로 이색거울(142)로 진행하거나 또는 제1 광학 코팅(122in)의 반사를 통해 이색거울(142)로 진행할 수 있다.
이색거울(142)로 진행한 플라즈마 광(P)은 이색 거울(142)에 의한 반사를 통해 렌즈 시스템(154)으로 출력될 수 있다(S134d).
지금까지, 본 발명을 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
100, 100a, 100b, 100c, 100d, 100e, 100f, 100g, 100h, 100i, 100j, 100k, 100l, 100m, 100n, 100o: 플라즈마 광원, 110: 챔버, 120, 120-1, 120-1a, 120-2, 120-2a, 120-3: 이중 복합거울, 122, 122a, 124, 124a: 복합곡면거울, 125: 곡면거울, 126: 복합평면거울, 122m, 124m: 거울 몸체, 122out, 124out: 금속 코팅, 122in, 124in: 광학 코팅, 130: 마이크로파 발생기, 132: 도파관, 142, 144, 146: 이색 거울, 152, 154, 200, 400, 600: 렌즈 시스템, 300: 빔 스플리터, 500: 검사 스테이지, 700: 검출기, 1000: 검사 장치, 2000:검사 대상체

Claims (20)

  1. 내부에 이온성(ionizable) 매질을 포함하는 챔버;
    상기 챔버에 제1 전자기 방사를 제공하도록 구성된 점화 소스;
    상기 챔버에 제2 전자기 방사를 개별적으로 제공하도록 구성된 유지 소스;
    상기 챔버에 인접하여 배치된 제 1 곡면 거울; 및
    상기 제1 곡면 거울에 대향하여 배치되고 상기 제1 전자기 방사가 상기 챔버로 향하도록 배치된 제2 곡면 거울;을 포함한 플라즈마 광원.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제 2 곡면 거울 중 적어도 하나는 상이한 굴절률을 갖는 제1 및 제2 층을 포함하는 하이브리드 거울을 포함하고, 상기 제1 및 제2 층 중 적어도 하나는 상기 제1 전자기 방사에 대해 반사성인 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 층은 서로 다른 재료 또는 서로 다른 곡률을 포함하는 내부 및 외부 표면을 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 층은 상기 제1 전자기 방사를 반사하고,
    상기 제1 층은 상기 제1 전자기 방사선에 의해 점화된 플라즈마로부터 방출된 광에 대해 반사성인 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제2 곡면 거울의 제2 층의 초점은 상기 제1 곡면 거울의 제2 층 상에 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 제2 곡면 거울의 제1 층의 초점은 상기 챔버 상에 있지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  7. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 곡면 거울 각각의 상기 제2 층의 초점은 상기 챔버 상에 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  8. 제1 항에있어서,
    상기 제2 전자기 방사에 대해 반사성인 적어도 하나의 다이크로익 미러를 더 포함하고,
    상기 적어도 하나의 다이크로익 미러는 상기 제1 및 제2 곡면 거울 사이에 위치하고, 상기 제2 전자기 방사가 상기 제1 곡면 거울로 향하도록 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 다이크로익 미러는 상기 제1 전자기 방사에 대해 투과성인 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 다이크로익 미러는 제1 다이크로익 미러를 포함하고,
    제2 전자기 방사에 대해 반사성이고 제2 전자기 방사가 제1 다이크로익 미러를 향하도록 배치된 제2 다이크로익 미러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 곡면 거울은 제1 및 제2 거울을 포함하고,
    상기 제1 및 제2 거울들 사이의 거리는 상기 제1 전자기 방사의 파장에 기초하여 공진기를 정의하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 곡면 거울의 외부 표면에는 금속 코팅이 없는 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 점화 소스는, 상기 제1 전자기 방사로서 마이크로파 에너지를 제공하도록 구성된 마이크로파 발생기를 포함하고,
    상기 마이크로파 발생기에 결합되고 상기 마이크로파 발생기로부터 상기 제1 곡면 거울로 상기 마이크로파 에너지를 전달하도록 구성된 웨이브가이드를 더 포함하고,
    상기 제1 곡면 거울은 상기 마이크로파 에너지에 대해 반사성인 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 웨이브가이드는 상기 제1 곡면 거울의 대칭축에 대해 0도가 아닌 각도로 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 유지 소스는 상기 제2 전자기 방사로서 레이저 에너지를 제공하도록 구성된 레이저 발생기를 포함하고,
    상기 제2 곡면 거울은 상기 유지 소스로부터 상기 챔버로 레이저 에너지를 제공하도록 배열된 핀-홀 어퍼처를 내부에 포함하는 것을 특징으로 플라즈마 광원.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 핀-홀 어퍼처의 크기는 상기 마이크로파 에너지의 파장의 1/2보다 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  17. 제15 항에 있어서,
    상기 레이저 에너지에 대해 반사성이거나 투과성인 다이크로익 미러를 더 포함하고,
    상기 다이크로익 미러는 상기 핀-홀 어퍼처에 인접하여 배치되고 상기 레이저 에너지가 상기 챔버로 향하도록 배열된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 다이크로익 미러는, 상기 마이크로파 에너지에 의해 점화된 플라즈마로부터 방출된 광에 대해 반사 또는 투과성이고, 상기 플라즈마로부터 방출된 광이 상기 플라즈마 광원의 출력으로서 향하도록 배열된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광원.
  19. 플라즈마 점화(ignition)용 매체 물질을 수용하고, 점화원(ignition source)에 의해 플라즈마가 점화되며, 레이저(laser)가 입사되어 상기 플라즈마가 유지되는 챔버; 및
    내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 제1 복합곡면거울(hybrid curved mirror)과 내부 면과 외부 면의 코팅이 다른 복합거울이 서로 마주보는 구조로 배치되어, 상기 레이저 및 상기 챔버로부터의 방출된 플라즈마 광을 반사시키는 이중 복합거울;를 포함하는 플라즈마 광원.
  20. 점화원을 이용하여 플라즈마가 점화되고 레이저를 이용하여 플라즈마가 유지되는 챔버, 및 상기 레이저와 상기 챔버로부터 방출된 플라즈마 광을 반사시키는 이중 복합거울을 구비한 플라즈마 광원;
    검사 대상체가 배치되고 이동가능한 검사 스테이지;
    상기 플라즈마 광원으로부터의 광을 반사 또는 투과하고 상기 검사 대상체로부터의 광을 투과 또는 반사하는 빔 스플리터(BS: Beam Splitter);
    상기 플라즈마 광원으로부터 광을 상기 빔 스플리터로 전달하는 제1 광학계;
    상기 빔 스플리터로부터의 반사된 광을 상기 검사 대상체로 전달하고 상기 검사 대상체로 반사된 광을 상기 빔 스플리터로 전달하는 제2 광학계; 및
    상기 빔 스플리터를 투과하여 전달된 광을 수용하는 검출기;를 포함하는 검사 장치.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9989480B2 (en) * 2015-04-21 2018-06-05 Camtek Ltd. Inspection system having an expanded angular coverage
US10257918B2 (en) * 2015-09-28 2019-04-09 Kla-Tencor Corporation System and method for laser-sustained plasma illumination
KR20170045949A (ko) * 2015-10-20 2017-04-28 삼성전자주식회사 플라즈마 광원 장치 및 그 광원 장치를 구비한 광원 시스템
US9865447B2 (en) 2016-03-28 2018-01-09 Kla-Tencor Corporation High brightness laser-sustained plasma broadband source
US10823943B2 (en) * 2018-07-31 2020-11-03 Kla Corporation Plasma source with lamp house correction
US20230335389A1 (en) * 2022-04-18 2023-10-19 Kla Corporation Laser-sustained plasma source based on colliding liquid jets

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082473A (ja) 2008-12-16 2011-04-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4890294A (en) 1987-01-26 1989-12-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Plasma apparatus
US5845480A (en) 1996-03-13 1998-12-08 Unison Industries Limited Partnership Ignition methods and apparatus using microwave and laser energy
AU720653B2 (en) 1996-07-09 2000-06-08 Lumpp & Consultants Electromagnetic radiation transmitter/reflector device, apparatus and process implementing such a device
US6377436B1 (en) 1999-12-27 2002-04-23 Jed Margolin Microwave transmission using a laser-generated plasma beam waveguide
US6972421B2 (en) 2000-06-09 2005-12-06 Cymer, Inc. Extreme ultraviolet light source
US7439530B2 (en) 2005-06-29 2008-10-21 Cymer, Inc. LPP EUV light source drive laser system
US7491954B2 (en) 2006-10-13 2009-02-17 Cymer, Inc. Drive laser delivery systems for EUV light source
US7214289B2 (en) 2001-10-24 2007-05-08 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for wall film monitoring
US7544269B2 (en) 2001-10-24 2009-06-09 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for electron density measurement
TWI266347B (en) 2002-01-31 2006-11-11 Tokyo Electron Ltd Apparatus and method for improving microwave coupling to a resonant cavity
US7560869B2 (en) 2005-09-29 2009-07-14 The Trustees Of Princeton University Method and apparatus for remotely monitoring properties of gases and plasmas
US7989786B2 (en) 2006-03-31 2011-08-02 Energetiq Technology, Inc. Laser-driven light source
US7435982B2 (en) 2006-03-31 2008-10-14 Energetiq Technology, Inc. Laser-driven light source
JP4937643B2 (ja) 2006-05-29 2012-05-23 株式会社小松製作所 極端紫外光源装置
US20100156295A1 (en) 2006-10-31 2010-06-24 Kyung-Hoon Park Electrodeless bulb, and electrodeless lighting system having the same
MX2010001511A (es) 2007-11-16 2010-03-15 Ceravision Ltd Fuente de luz activada por microondas.
US8461761B2 (en) 2007-11-16 2013-06-11 Ceravision Limited Lucent plasma crucible
CN102365906B (zh) 2009-02-13 2016-02-03 应用材料公司 用于等离子体腔室电极的rf总线与rf回流总线
GB2468580A (en) 2009-03-10 2010-09-15 Osram Ges Mit Beschrankter Electrodeless high pressure discharge lamp with cage wire support structure
GB0907947D0 (en) 2009-05-08 2009-06-24 Ceravision Ltd Light source
GB201002283D0 (en) 2010-02-10 2010-03-31 Ceravision Ltd Light source
US8368039B2 (en) * 2010-04-05 2013-02-05 Cymer, Inc. EUV light source glint reduction system
KR101148726B1 (ko) 2010-12-28 2012-06-01 엘지전자 주식회사 무전극 조명 기기
KR101877468B1 (ko) * 2011-12-29 2018-07-12 삼성전자주식회사 광원 장치 및 광 생성 방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082473A (ja) 2008-12-16 2011-04-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置

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Publication number Publication date
US20160005588A1 (en) 2016-01-07
US9305764B2 (en) 2016-04-05
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