JP4884152B2 - 極端紫外光源装置 - Google Patents
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Description
EUV光発生チャンバ102は、EUV光の生成が行われるチャンバであり、ターゲット物質のプラズマ化を容易にするとともにEUV光の吸収を防止するため、真空ポンプ105によって真空引きされている。また、EUV光発生チャンバ102には、ドライバーレーザ101から発生したレーザ光120をEUV光発生チャンバ102内に通過させるためのウインドウ106が取り付けられている。さらに、EUV光発生チャンバ102の内部には、ターゲット噴射ノズル103aと、ターゲット回収筒107と、EUV光集光ミラー108とが配置されている。
(a)プラズマから飛散した原子が、ウインドウ106のEUV光発生チャンバ102の内部側の面に付着する。このようにしてウインドウ106のEUV光発生チャンバ102の内部側の面に付着した原子がレーザ光120を吸収してしまう。
また、上記のようなプラズマから飛散したイオンの照射により、次のような現象が発生し得る。
(b)プラズマから飛散したイオンがウインドウ106のEUV光発生チャンバ102の内部側の面に照射され、ウインドウ106のEUV光発生チャンバ102の内部側の面が劣化する(面が荒れて、滑らかでなくなる)。これにより、ウインドウ106がドライバーレーザ101から出射されるレーザ光120を吸収するようになってしまう。
図1は、本発明に係る極端紫外光源装置(以下において、単に「EUV光源装置」とも言う)の概要を示す模式図である。図1に示すように、このEUV光源装置は、ドライバーレーザ1と、EUV光発生チャンバ2と、ターゲット物質供給部3と、レーザ光集光光学系4とを含んでいる。
図2は、本実施形態に係るEUV光源装置を示す模式図である。なお、図2においては、ターゲット物質供給部3及びターゲット物質回収筒7(図1参照)の図示を省略しており、ターゲット物質は、紙面に垂直に噴射されるものとする。
図5及び図6は、本実施形態に係るEUV光源装置を示す模式図である。なお、図5及び図6においては、ターゲット物質供給部3及びターゲット物質回収筒7(図1参照)の図示を省略しており、ターゲット物質は、紙面に垂直に噴射されるものとする。
図7は、本実施形態に係るEUV光源装置を示す模式図である。なお、図7においては、ターゲット物質供給部3及びターゲット物質回収筒7(図1参照)の図示を省略しており、ターゲット物質は、紙面に垂直に噴射されるものとする。
図8は、本実施形態に係るEUV光源装置を示す模式図である。なお、図8においては、ターゲット物質供給部3及びターゲット物質回収筒7(図1参照)の図示を省略しており、ターゲット物質は、紙面に垂直に噴射されるものとする。
Claims (5)
- ターゲット物質にレーザ光を照射することにより前記ターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の発生が行われる極端紫外光発生チャンバと、
ターゲット物質を前記極端紫外光発生チャンバ内に噴射するターゲット物質供給部と、
レーザ光を出射するドライバーレーザと、
前記極端紫外光発生チャンバに設けられ、レーザ光を前記極端紫外光発生チャンバ内に透過させるウインドウと、
少なくとも1つの光学素子を含むレーザ光集光光学系であって、前記ドライバーレーザから出射されたレーザ光を前記極端紫外光発生チャンバ内に噴射されたターゲット物質に集光させることによりプラズマを発生させる前記レーザ光集光光学系と、
前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する極端紫外光集光光学系と、
前記ウインドウの前記極端紫外光発生チャンバの内部側の面及び/又は前記少なくとも1つの光学素子の内の前記極端紫外光発生チャンバ内に配置された光学素子を保護するためのパージガスを前記ウインドウの前記極端紫外光発生チャンバの内部側の面及び/又は前記少なくとも1つの光学素子の内の前記極端紫外光発生チャンバ内に配置された光学素子の光学面に噴射するパージガス供給部と、
前記レーザ光集光光学系によって集光されたレーザ光を通過させるゲートバルブと、
前記ゲートバルブを通過したレーザ光を結像するレンズと、
前記レンズによって結像したレーザ光の集光位置に関する情報を取得するレーザ光検出器と、
前記レーザ光検出器によって取得された情報に基づいて前記レーザ光集光光学系のアライメントを行う調整機構と、を具備する極端紫外光源装置。 - 前記ウインドウの前記極端紫外光発生チャンバの内部側の面及び/又は前記少なくとも1つの光学素子の内の前記極端紫外光発生チャンバ内に配置された光学素子を囲むように配置され、レーザ光を通過させるための開口部を有する少なくとも1つのパージガスチャンバを更に具備する、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 前記レーザ光集光光学系が、複数の光学素子を含み、
前記レーザ光集光光学系のバックフォーカスの長さが、前記レーザ光集光光学系の焦点距離よりも長い、請求項1又は2記載の極端紫外光源装置。 - 前記レーザ光集光光学系が、
前記極端紫外光発生チャンバの外部に配置され、前記ドライバーレーザから出射されたレーザ光を発散する第1のレンズと、
前記極端紫外光発生チャンバの外部に配置され、前記第1のレンズによって発散されたレーザ光をコリメートする第2のレンズと、
前記極端紫外光発生チャンバの内部に配置され、前記第2のレンズによってコリメートされたレーザ光を反射して前記極端紫外光発生チャンバ内のターゲット物質の軌道上に集光する放物凹面鏡又は球凹面鏡と、
を含む、請求項3記載の極端紫外光源装置。 - 前記レーザ光集光光学系が、
前記極端紫外光発生チャンバの外部に配置され、前記ドライバーレーザから出射されたレーザ光を発散する第1のレンズと、
前記極端紫外光発生チャンバの外部に配置され、前記第1のレンズによって発散されたレーザ光をコリメートする第2のレンズと、
前記極端紫外光発生チャンバの外部に配置され、前記第2のレンズによってコリメートされたレーザ光を前記極端紫外光発生チャンバ内のターゲット物質の軌道上に集光する第3のレンズと、
を含む、請求項3記載の極端紫外光源装置。
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