JP2011222958A - ミラーおよび極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ミラーは、基板111と、基板の主面上に形成され基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層112と、熱拡散層上に形成され、熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する高反射膜113と、を備える。これによりレーザ光照射部分ので発生した熱が熱拡散層112によって広く分布し、この結果、基板111全体を介して効率よく放熱される。
【選択図】図3
Description
まず、本開示の実施の形態1によるEUV光生成装置およびそれに用いられるミラーについて、図面を参照して詳細に説明する。図1は、本実施の形態1によるEUV光生成装置の概略構成を示す図である。本実施の形態1によるEUV光生成装置1は、ターゲット物質をプラズマ化するレーザ光L1を出力するドライバレーザと、EUV光の生成空間を画定するチャンバ10と、ドライバレーザからのレーザ光L1をチャンバ10内の所定の位置(プラズマ生成サイトP1)に集光する集光光学系と、を備える。
つぎに、本開示の実施の形態2によるEUV光生成装置およびそれに用いられるミラーについて、図面を参照して詳細に説明する。本実施の形態2によるEUV光生成装置は、上述の実施の形態1によるEUV光生成装置と略同様の構成であるため、ここでは重複する説明を省略する。
つぎに、本開示の実施の形態3によるEUV光生成装置およびそれに用いられるミラーについて、図面を参照して詳細に説明する。本実施の形態3によるEUV光生成装置は、上述の実施の形態1または2によるEUV光生成装置と略同様の構成であるため、ここでは重複する説明を省略する。
また、上述の実施の形態3では、熱拡散層112と高反射多層膜213との間にスムージング層314を設けた場合を例に挙げた。ただし、これに限定されるものではない。図9は、本実施の形態3の変形例によるミラーの概略構成を示す断面図である。図9に示すように、基板111と熱拡散層112との間に、スムージング層314を設けてもよい。このような構成によっても、熱分布の偏りなどによって生じる上層の高反射多層膜213および熱拡散層112と下層の基板111との間に生じる内部応力を緩和して反射面に生じる歪みを低減することが可能となる。
10 チャンバ
11 ドロップレットジェネレータ
11a ノズル
12 ドロップレット回収筒
14 EUV集光ミラー
14a 貫通孔
15a、15b 磁場形成部
15c 電磁石コイル
16a、16b イオン回収筒
20 露光機接続部
111 基板
112 熱拡散層
113 高反射膜
213 高反射多層膜
314 スムージング層
B 磁場
C0、C10 低温領域
C1、C11 第2中温領域
C2、C12 第1中温領域
C3、C13 高温領域
D ドロップレット
FL イオン流
IF 中間集光点
L1 レーザ光
L2 EUV光
M1 平面高反射ミラー
M2 軸外放物面ミラー
MA メインアンプ
MO マスタオシレータ
P1 プラズマ生成サイト
PA プリアンプ
R1、R2、R3 リレー光学系
W1 ウィンドウ
Claims (22)
- 基板と、
前記基板の主面上に形成され、前記基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層と、
前記熱拡散層上に形成され、前記熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層と、
を備えるミラー。 - 前記熱拡散層は、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、およびグラファイトのうち少なくとも1つで形成される、請求項1記載のミラー。
- 前記基板は、グラファイト、炭化ケイ素、および窒化アルミニウムのいずれかで形成される、請求項1記載のミラー。
- 前記反射層は、金、モリブデン、および銀のいずれかで形成される、請求項1に記載のミラー。
- 前記反射層は、多層構造である請求項1記載のミラー。
- 前記多層構造は、セレン化亜鉛、フッ化トリウム、およびケイ素のうち少なくとも1つを含む誘電体層と、金、モリブデン、および銀のうち少なくとも1つを含む金属層と、を含む請求項5記載のミラー。
- 基板と、
前記基板の主面上に形成され、前記基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層と、
前記熱拡散層上に形成されるスムージング層と、
前記スムージング層上に形成され、前記熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層と、
を備えるミラー。 - 前記スムージング層は、ニッケル、リン化ニッケル、ケイ素、酸化ケイ素、および炭化ケイ素のいずれかで形成される、請求項7記載のミラー。
- 基板と、
前記基板の主面上に形成されるスムージング層と、
前記スムージング層上に形成され、前記基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層と、
前記熱拡散層上に形成され、前記熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層と、
を備えるミラー。 - 前記スムージング層は、ニッケル、リン化ニッケル、ケイ素、酸化ケイ素、および炭化ケイ素のいずれかで形成される請求項9記載のミラー。
- レーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
チャンバと、
前記チャンバに設けられ、該チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲットジェネレータと、
基板、該基板の主面上に形成される熱拡散層、該熱拡散層上に形成され、該熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層、を含む少なくとも1つのミラーと、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記熱拡散層は、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、およびグラファイトのうち少なくとも1つで形成される、請求項11記載の極端紫外光生成装置。
- 前記基板は、グラファイト、炭化ケイ素、および窒化アルミニウムのいずれかで形成される、請求項11記載の極端紫外光生成装置。
- 前記反射層は、多層構造である、請求項11記載の極端紫外光生成装置。
- 前記少なくとも1つのミラーは、レーザ光を前記チャンバ内の前記ターゲット物質に集光する集光ミラーである請求項11記載の極端紫外光生成装置。
- 前記少なくとも1つのミラーは、前記チャンバ内でプラズマ化した前記ターゲット物質より放射した極端紫外光を集光するEUV集光ミラーである請求項11記載の極端紫外光生成装置。
- レーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
チャンバと、
前記チャンバに設けられ、該チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲットジェネレータと、
基板、該基板の主面上に形成される熱拡散層、該熱拡散層上に形成されるスムージング層、該スムージング層上に形成され、該熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層、を含む少なくとも1つのミラーと、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記少なくとも1つのミラーは、レーザ光を前記チャンバ内の前記ターゲット物質に集光する集光ミラーである請求項17記載の極端紫外光生成装置。
- 前記少なくとも1つのミラーは、前記チャンバ内でプラズマ化した前記ターゲット物質より放射した極端紫外光を集光するEUV集光ミラーである請求項17記載の極端紫外光生成装置。
- レーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
チャンバと、
前記チャンバに設けられ、該チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲットジェネレータと、
基板、該基板の主面上に形成されるスムージング層、該スムージング層上に形成される熱拡散層、該熱拡散層上に形成され、該熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する反射層、を含む少なくとも1つのミラーと、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記少なくとも1つのミラーは、レーザ光を前記チャンバ内の前記ターゲット物質に集光する集光ミラーである請求項20記載の極端紫外光生成装置。
- 前記少なくとも1つのミラーは、前記チャンバ内でプラズマ化した前記ターゲット物質より放射した極端紫外光を集光するEUV集光ミラーである請求項20記載の極端紫外光生成装置。
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