JP5301165B2 - レーザ生成プラズマeuv光源 - Google Patents
レーザ生成プラズマeuv光源 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5301165B2 JP5301165B2 JP2007557155A JP2007557155A JP5301165B2 JP 5301165 B2 JP5301165 B2 JP 5301165B2 JP 2007557155 A JP2007557155 A JP 2007557155A JP 2007557155 A JP2007557155 A JP 2007557155A JP 5301165 B2 JP5301165 B2 JP 5301165B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- plasma
- laser
- chamber
- euv light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
本出願は、代理人整理番号第2004−0088−01号である2004年11月1日出願の「LPPのEUV光源」という名称の米国特許出願出願番号第10/979,945号の一部継続出願である、代理人整理番号第2004−0110−01号である2005年6月29日出願の「EUV光源の内部構成要素に及ぼすプラズマ生成デブリの影響を低減するためのシステム及び方法」という名称の米国特許出願出願番号第11/174,442号の一部継続出願である、代理人整理番号第2005−0081−01号である2006年2月21日出願の「レーザ生成プラズマEUV光源」という名称の米国特許出願出願番号第11/______号に対する優先権を請求するものであり、その各々の開示内容は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
また、2006年2月21日出願の米国特許出願は、代理人整理番号第2004−0117−01号である2005年2月25日出願の「EUV光源の構成要素をプラズマ生成デブリから保護するためのシステム」という名称の米国特許出願出願番号第11/067,099号の一部継続出願であり、その開示内容は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
本発明はまた、代理人整理番号第2004−0044−01号である2004年7月27日出願の「EUV光源」という名称の米国特許出願出願番号第10/900,839号と、代理人整理番号第2003−0125−01号である2004年3月17日出願の「高繰返し数LPPのEUV光源」という名称の米国特許出願出願番号第10/803,526号と、代理人整理番号第2003−0083−01号である2004年3月10日出願の「EUV光のための集光装置」という名称の米国特許出願出願番号第10/798,740号とに関連するものであり、その各々の開示内容は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
本出願はまた、代理人整理番号第2005−0085−01号である本出願と同時出願の「プレパルスによるレーザ生成プラズマEUV光源」という名称の現在特許出願中の米国特許非仮出願に関連するものであり、この開示内容全体は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
本出願はまた、代理人整理番号第2005−0102−01号である本出願と同時出願の「EUV光源のための原料物質分配装置」という名称の現在特許出願中の米国特許非仮出願に関連するものであり、この開示内容全体は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
本出願はまた、代理人整理番号第2006−0010−01号である本出願と同時出願の「極紫外線光源」という名称の現在特許出願中の米国特許仮出願に関連するものであり、この開示内容全体は、本明細書において引用により組み込まれるものとする。
本発明は、原料物質から生成され、かつEUV光源チャンバの外側での利用のために、例えば、約50nm及びそれ未満の波長での例えば半導体集積回路製造リソグラフィのために、集光されてかつ焦点に方向付けられたプラズマからEUV光を供給する極紫外線(EUV)光源に関する。
EV光を生成する方法には、EUV範囲に輝線を有する元素、例えば、キセノン、リチウム、又は錫を有するプラズマ状態に材料を変換することが含まれるが、必ずしもこれに限定されない。レーザ生成プラズマ(LPP)という呼ばれることが多い1つのこのような方法においては、所要のプラズマは、所要の線発光元素を有する液滴、流れ、又はクラスター状の材料のようなターゲット材料をレーザビームで照射することによって生成することができる。
以上を念頭に置いて、本出願人は、レーザビームを有効に送出し、それをEUV光源内の選択された場所に集束させるためのシステム及び方法を開示する。
一実施形態では、バイパスラインを設けてプラズマチャンバと補助チャンバとの流体連通を確立することができる。バイパスラインを閉じるために弁を設けることができる。特定的な実施形態では、集束光学器械、例えばミラーをレーザビームをプラズマチャンバ内の焦点に集束させるために補助チャンバ内に配置することができる。別の実施形態では、集束光学器械、例えばミラーは、プラズマチャンバ内に配置することができる。
24 ターゲット送出システム
26 プラズマチャンバ
28 照射部位
50 ビーム送出システム
52 補助チャンバ
Claims (6)
- レーザ源と、
プラズマチャンバと、
前記レーザ源からのレーザビームを前記プラズマチャンバ内の焦点に集束させるための集束光学器械と、
前記集束光学器械を移動して前記焦点を前記プラズマチャンバ内で選択的に移動させるアクチュエータと、
プラズマ原料物質を前記プラズマチャンバ内のプラズマ形成部位に送出するためのターゲット送出システムと、
ターゲット位置を示す信号を発生させるためのターゲット位置検出器と
を含み、
前記集束光学器械は、ターゲット軌跡に沿って前記焦点を位置付けるために前記ターゲット位置検出器からの前記信号に応答して移動可能であって、
前記レーザビーム焦点を前記プラズマチャンバ内で誘導するための誘導光学器械を更に含み、
前記誘導光学器械と前記集束光学器械は、前記レーザビームの放射軸線の方向に平行な経路に沿って前記焦点を移動させるために該放射軸線の方向に共に移動可能である
ことを特徴とするEUV光源。 - 前記ターゲット送出システムは、液滴発生器を含むことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記誘導光学器械は、平坦なミラーを含むことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記誘導光学器械は、2次元において独立に移動可能であることを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記誘導光学器械は、平坦ミラーと先端傾斜アクチュエータを含むことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記誘導光学器械は、ターゲット軌跡に沿って前記焦点を位置付けるために前記ターゲット位置検出器からの前記信号に応答して移動可能であることを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/067,099 US7109503B1 (en) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | Systems for protecting internal components of an EUV light source from plasma-generated debris |
US11/067,099 | 2005-02-25 | ||
US11/174,442 | 2005-06-29 | ||
US11/174,442 US7196342B2 (en) | 2004-03-10 | 2005-06-29 | Systems and methods for reducing the influence of plasma-generated debris on the internal components of an EUV light source |
US11/358,992 | 2006-02-21 | ||
US11/358,992 US7598509B2 (en) | 2004-11-01 | 2006-02-21 | Laser produced plasma EUV light source |
PCT/US2006/006410 WO2006093783A2 (en) | 2005-02-25 | 2006-02-24 | Laser produced plasma euv light source |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008532232A JP2008532232A (ja) | 2008-08-14 |
JP5301165B2 true JP5301165B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=39730652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007557155A Active JP5301165B2 (ja) | 2005-02-25 | 2006-02-24 | レーザ生成プラズマeuv光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5301165B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4807560B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2011-11-02 | 国立大学法人 宮崎大学 | 極端紫外光発生方法および極端紫外光発生装置 |
JP4932592B2 (ja) * | 2007-05-14 | 2012-05-16 | 株式会社小松製作所 | 極端紫外光源装置 |
US8283643B2 (en) * | 2008-11-24 | 2012-10-09 | Cymer, Inc. | Systems and methods for drive laser beam delivery in an EUV light source |
US8138487B2 (en) * | 2009-04-09 | 2012-03-20 | Cymer, Inc. | System, method and apparatus for droplet catcher for prevention of backsplash in a EUV generation chamber |
JP5612579B2 (ja) * | 2009-07-29 | 2014-10-22 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法、およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
WO2011018295A1 (en) | 2009-08-14 | 2011-02-17 | Asml Netherlands B.V. | Euv radiation system and lithographic apparatus |
US8173985B2 (en) * | 2009-12-15 | 2012-05-08 | Cymer, Inc. | Beam transport system for extreme ultraviolet light source |
JP5471663B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-04-16 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置および集光光学手段の位置調整方法 |
JP2011198609A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置における照度分布検出方法および集光光学手段の位置調整方法 |
JP5856898B2 (ja) * | 2011-06-02 | 2016-02-10 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法 |
JP5511882B2 (ja) * | 2012-04-19 | 2014-06-04 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
DE102012217120A1 (de) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung und Betriebsverfahren dafür |
JP6305426B2 (ja) | 2012-12-20 | 2018-04-04 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Euvリソグラフィ装置用ビーム搬送装置 |
US10880979B2 (en) * | 2015-11-10 | 2020-12-29 | Kla Corporation | Droplet generation for a laser produced plasma light source |
WO2018131146A1 (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
US11317500B2 (en) * | 2017-08-30 | 2022-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology |
CN111999989B (zh) * | 2020-09-01 | 2023-07-14 | 广东省智能机器人研究院 | 激光等离子体极紫外光源和极紫外光产生方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06226088A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 超微粒子製造装置 |
JPH08213193A (ja) * | 1995-02-01 | 1996-08-20 | Nikon Corp | レーザープラズマx線源 |
JPH08236292A (ja) * | 1995-02-27 | 1996-09-13 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線発生装置 |
JPH11160499A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-18 | Shimadzu Corp | レーザープラズマx線発生装置 |
JP2001068296A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-03-16 | Institute Of Tsukuba Liaison Co Ltd | レーザー励起x線発生装置及び方法 |
JP2002214400A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Toyota Macs Inc | レーザープラズマeuv光源装置及びそれに用いられるターゲット |
DE10314849B3 (de) * | 2003-03-28 | 2004-12-30 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Stabilisierung der Strahlungsemission eines Plasmas |
JP4574211B2 (ja) * | 2004-04-19 | 2010-11-04 | キヤノン株式会社 | 光源装置、当該光源装置を有する露光装置 |
-
2006
- 2006-02-24 JP JP2007557155A patent/JP5301165B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008532232A (ja) | 2008-08-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5301165B2 (ja) | レーザ生成プラズマeuv光源 | |
KR101194191B1 (ko) | 레이저 생성 플라즈마 euv 광원 | |
JP7368540B2 (ja) | レーザ生成プラズマ光源向けのドロップレット生成装置 | |
JP5653927B2 (ja) | Euv光源における駆動レーザビーム送出のためのシステム及び方法 | |
US7491954B2 (en) | Drive laser delivery systems for EUV light source | |
US7355191B2 (en) | Systems and methods for cleaning a chamber window of an EUV light source | |
JP5552051B2 (ja) | レーザ生成プラズマeuv光源のためのガス管理システム | |
US7812329B2 (en) | System managing gas flow between chambers of an extreme ultraviolet (EUV) photolithography apparatus | |
TWI402628B (zh) | 控管極遠紫外線(euv)光微影裝置腔室間之氣體流動的系統 | |
WO2010118146A1 (en) | Alignment laser | |
US11467498B2 (en) | Extreme ultraviolet control system | |
JP2020194178A (ja) | 極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御 | |
JP7312893B2 (ja) | Euv光源においてデブリを制御するための装置及び方法 | |
WO2017216847A1 (ja) | チャンバ装置及び極端紫外光生成装置 | |
JP6541785B2 (ja) | 極端紫外光生成装置 | |
NL2025434A (en) | Protection system for an extreme ultraviolet light source | |
TWI338536B (en) | Laser produced plasma euv light source | |
WO2023241885A1 (en) | Viewport assembly for an extreme ultraviolet light source |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130610 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5301165 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |