JPH08213193A - レーザープラズマｘ線源 - Google Patents
レーザープラズマｘ線源Info
- Publication number
- JPH08213193A JPH08213193A JP7037685A JP3768595A JPH08213193A JP H08213193 A JPH08213193 A JP H08213193A JP 7037685 A JP7037685 A JP 7037685A JP 3768595 A JP3768595 A JP 3768595A JP H08213193 A JPH08213193 A JP H08213193A
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- Japan
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- ray source
- laser
- target
- condenser lens
- optical axis
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザー光の集光点を、Ｘ線光学系で必要とす
るＸ線源の位置に容易に一致させることができるレーザ
ープラズマＸ線源を提供する。 【構成】レーザー発生装置１からのレーザー光２を、光
軸に沿って移動可能に配置した集光レンズ３によってタ
ーゲット６上に集光して、該ターゲット６よりＸ線７を
発生させるレーザープラズマＸ線源において、集光レン
ズ３とターゲット６との間に平行平面ガラス４を介在さ
せ、該平行平面ガラス４の法線が集光レンズ３の光軸の
周りの任意の方向に傾斜可能となるように、平行平面ガ
ラス４を配置したことを特徴とする。
るＸ線源の位置に容易に一致させることができるレーザ
ープラズマＸ線源を提供する。 【構成】レーザー発生装置１からのレーザー光２を、光
軸に沿って移動可能に配置した集光レンズ３によってタ
ーゲット６上に集光して、該ターゲット６よりＸ線７を
発生させるレーザープラズマＸ線源において、集光レン
ズ３とターゲット６との間に平行平面ガラス４を介在さ
せ、該平行平面ガラス４の法線が集光レンズ３の光軸の
周りの任意の方向に傾斜可能となるように、平行平面ガ
ラス４を配置したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、Ｘ線顕微鏡やＸ線リ
ソグラフィーなどの光源として使用されるレーザープラ
ズマＸ線源に関する。
ソグラフィーなどの光源として使用されるレーザープラ
ズマＸ線源に関する。
【０００２】
【従来の技術】高エネルギーパルスレーザーをターゲッ
ト上に集光し、Ｘ線を発生させる装置、即ちレーザープ
ラズマＸ線源が机上型高輝度Ｘ線源として注目されてい
る。高エネルギーレーザー光は直径１００μｍ程度に集
光でき、生成されるプラズマの大きさも同程度であるた
め、直径１００μｍ程度の高輝度Ｘ線源が実現されてい
る。ターゲットの形状は平板、円柱、テープ状等、各種
開発されており、いずれの場合もレーザーの集光位置が
Ｘ線源位置となるため、ターゲットを移動させ次々と新
しいＸ線源になるようにしている。しかして従来のレー
ザープラズマＸ線源は、レーザー発生装置からのレーザ
ー光を、光軸に沿って移動可能に配置した集光レンズに
よってターゲット上に集光して、該ターゲットよりＸ線
を発生させるものであった。
ト上に集光し、Ｘ線を発生させる装置、即ちレーザープ
ラズマＸ線源が机上型高輝度Ｘ線源として注目されてい
る。高エネルギーレーザー光は直径１００μｍ程度に集
光でき、生成されるプラズマの大きさも同程度であるた
め、直径１００μｍ程度の高輝度Ｘ線源が実現されてい
る。ターゲットの形状は平板、円柱、テープ状等、各種
開発されており、いずれの場合もレーザーの集光位置が
Ｘ線源位置となるため、ターゲットを移動させ次々と新
しいＸ線源になるようにしている。しかして従来のレー
ザープラズマＸ線源は、レーザー発生装置からのレーザ
ー光を、光軸に沿って移動可能に配置した集光レンズに
よってターゲット上に集光して、該ターゲットよりＸ線
を発生させるものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】通常Ｘ線源を発生させ
るようなレーザー光は、エネルギーが大きく、従って装
置自体も大きくなるため、Ｘ線源から離れた位置に設置
されることが多い。このためレーザー発振装置の設置位
置からＸ線源まで、反射鏡などを使いレーザー光を導く
ことになる。このこと自体は特に難しいわけではない。
そしてＸ線源近くに所定の屈折力を有する集光レンズを
配置して、平行光であるレーザー光を集束させて一点に
集めており、これが集光点である。この集光点が、必要
とされている所定のＸ線発生位置と一致すれば良いわけ
であるが、実際には、集光レンズに導かれてくるレーザ
ー光は、集光レンズの光軸上を、上下、又は左右にずれ
ているのが普通で、その結果集光位置が希望するＸ線源
と一致することは全く無いといって良い。このため、改
めて反射鏡の角度を調整したり、多大な努力を払って、
レーザー光を光学設計上定められたＸ線源位置に合わせ
込まなければならない。この作業はかなりこの装置を扱
い慣れた者にとっても時間を要するものであり、まして
初心者にとっては、殆ど不可能に近い。
るようなレーザー光は、エネルギーが大きく、従って装
置自体も大きくなるため、Ｘ線源から離れた位置に設置
されることが多い。このためレーザー発振装置の設置位
置からＸ線源まで、反射鏡などを使いレーザー光を導く
ことになる。このこと自体は特に難しいわけではない。
そしてＸ線源近くに所定の屈折力を有する集光レンズを
配置して、平行光であるレーザー光を集束させて一点に
集めており、これが集光点である。この集光点が、必要
とされている所定のＸ線発生位置と一致すれば良いわけ
であるが、実際には、集光レンズに導かれてくるレーザ
ー光は、集光レンズの光軸上を、上下、又は左右にずれ
ているのが普通で、その結果集光位置が希望するＸ線源
と一致することは全く無いといって良い。このため、改
めて反射鏡の角度を調整したり、多大な努力を払って、
レーザー光を光学設計上定められたＸ線源位置に合わせ
込まなければならない。この作業はかなりこの装置を扱
い慣れた者にとっても時間を要するものであり、まして
初心者にとっては、殆ど不可能に近い。
【０００４】すなわちＸ線を光源とする光学系に於いて
は、光源の位置は設計上決まっており、その位置がずれ
ることは全体の性能が発揮できないのと同じ意味を持
つ。従ってレーザープラズマＸ線源を光源とする装置に
於いては、レーザー集光点がＸ線源に一致していなけれ
ばならない。つまりレーザー集光点を光源に一致させる
必要がある。レーザー光は通常平行光束として扱われる
とおり、集光レンズのみでは遠近の問題はコントロール
できるが、上下左右に集光点を移したい場合方法がな
い。
は、光源の位置は設計上決まっており、その位置がずれ
ることは全体の性能が発揮できないのと同じ意味を持
つ。従ってレーザープラズマＸ線源を光源とする装置に
於いては、レーザー集光点がＸ線源に一致していなけれ
ばならない。つまりレーザー集光点を光源に一致させる
必要がある。レーザー光は通常平行光束として扱われる
とおり、集光レンズのみでは遠近の問題はコントロール
できるが、上下左右に集光点を移したい場合方法がな
い。
【０００５】いま集光レンズの光軸方向をｚ軸とし、こ
のｚ軸に直交し且つ互いに直交する２方向をｘ軸及びｙ
軸とすると、Ｘ線光学系で必要とするＸ線源の位置と、
レーザー光の集光点との両点の相互の位置関係は、空間
的にｘ、ｙ、ｚの３軸方向にずれる可能性がある。しか
るに上記従来の技術では、単に集光レンズを光軸に沿っ
て移動可能に配置しただけであり、したがってｚ軸方向
の両点のずれは修正できるものの、ｘ軸方向及びｙ軸方
向についての両点のずれを簡易に修正する手段がなかっ
た。したがって本発明は、レーザー光の集光点を、Ｘ線
光学系で必要とするＸ線源の位置に容易に一致させるこ
とができるレーザープラズマＸ線源を提供することを目
的とする。
のｚ軸に直交し且つ互いに直交する２方向をｘ軸及びｙ
軸とすると、Ｘ線光学系で必要とするＸ線源の位置と、
レーザー光の集光点との両点の相互の位置関係は、空間
的にｘ、ｙ、ｚの３軸方向にずれる可能性がある。しか
るに上記従来の技術では、単に集光レンズを光軸に沿っ
て移動可能に配置しただけであり、したがってｚ軸方向
の両点のずれは修正できるものの、ｘ軸方向及びｙ軸方
向についての両点のずれを簡易に修正する手段がなかっ
た。したがって本発明は、レーザー光の集光点を、Ｘ線
光学系で必要とするＸ線源の位置に容易に一致させるこ
とができるレーザープラズマＸ線源を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたものであり、すなわち、レーザー発
生装置からのレーザー光を、光軸に沿って移動可能に配
置した集光レンズによってターゲット上に集光して、該
ターゲットよりＸ線を発生させるレーザープラズマＸ線
源において、集光レンズとターゲットとの間に平行平面
ガラスを介在させ、該平行平面ガラスの法線が集光レン
ズの光軸の周りの任意の方向に傾斜可能となるように、
平行平面ガラスを配置したことを特徴とする、レーザー
プラズマＸ線源である。
するためになされたものであり、すなわち、レーザー発
生装置からのレーザー光を、光軸に沿って移動可能に配
置した集光レンズによってターゲット上に集光して、該
ターゲットよりＸ線を発生させるレーザープラズマＸ線
源において、集光レンズとターゲットとの間に平行平面
ガラスを介在させ、該平行平面ガラスの法線が集光レン
ズの光軸の周りの任意の方向に傾斜可能となるように、
平行平面ガラスを配置したことを特徴とする、レーザー
プラズマＸ線源である。
【０００７】
【作用】Ｘ線光学系で必要とするＸ線源の位置とレーザ
ー光の集光点との空間的な位置ずれのうち、集光レンズ
の光軸方向のずれは、集光レンズを光軸に沿って移動す
ることによって修正することができる。また光軸方向と
直交する方向については、平行平面ガラスをその方向に
傾斜することによって修正することができ、結局Ｘ線源
と集光点との位置ずれは、集光レンズの移動距離、平行
平面ガラスの傾斜方向及び傾斜角度によって、すべて修
正することができる。
ー光の集光点との空間的な位置ずれのうち、集光レンズ
の光軸方向のずれは、集光レンズを光軸に沿って移動す
ることによって修正することができる。また光軸方向と
直交する方向については、平行平面ガラスをその方向に
傾斜することによって修正することができ、結局Ｘ線源
と集光点との位置ずれは、集光レンズの移動距離、平行
平面ガラスの傾斜方向及び傾斜角度によって、すべて修
正することができる。
【０００８】
【実施例】本発明を図面によって説明する。図１は本発
明によるレーザープラズマＸ線源の一実施例を示し、レ
ーザー発生装置１において発生したレーザー光２は集光
レンズ３に入射している。その際レーザー発生装置１で
発生したレーザー光２は、直接集光レンズ３に入射させ
ることもできるし、図示しない反射鏡などを介して集光
レンズ３に入射させることもできる。集光レンズ３はそ
の光軸に沿って移動自在に配置されており、集光レンズ
３を透過したレーザー光２は、収束光となって平行平面
ガラス４を透過し、更に真空容器５に設けた遮蔽窓５ａ
を透過した後に、真空容器５内に配置したターゲット６
上に集光しており、こうしてレーザー光２によってター
ゲット６よりＸ線７を発生するように構成されている。
発生したＸ線７は、図示しないＸ線光学系において利用
される。図２は平行平面ガラス４の部分断面正面図を示
し、集光レンズ３の光軸と同軸に外筒８が配置されてお
り、この外筒８内に回転自在に内筒９が配置されてい
る。内筒の直径方向両端からは一対の軸９ａ，９ａが突
設されており、この軸９ａによって平行平面ガラス４が
回転自在に軸支されている。
明によるレーザープラズマＸ線源の一実施例を示し、レ
ーザー発生装置１において発生したレーザー光２は集光
レンズ３に入射している。その際レーザー発生装置１で
発生したレーザー光２は、直接集光レンズ３に入射させ
ることもできるし、図示しない反射鏡などを介して集光
レンズ３に入射させることもできる。集光レンズ３はそ
の光軸に沿って移動自在に配置されており、集光レンズ
３を透過したレーザー光２は、収束光となって平行平面
ガラス４を透過し、更に真空容器５に設けた遮蔽窓５ａ
を透過した後に、真空容器５内に配置したターゲット６
上に集光しており、こうしてレーザー光２によってター
ゲット６よりＸ線７を発生するように構成されている。
発生したＸ線７は、図示しないＸ線光学系において利用
される。図２は平行平面ガラス４の部分断面正面図を示
し、集光レンズ３の光軸と同軸に外筒８が配置されてお
り、この外筒８内に回転自在に内筒９が配置されてい
る。内筒の直径方向両端からは一対の軸９ａ，９ａが突
設されており、この軸９ａによって平行平面ガラス４が
回転自在に軸支されている。
【０００９】本実施例は以上のように構成されており、
集光レンズ３の光軸方向をｚ軸とし、このｚ軸に直交し
且つ互いに直交する２方向をｘ軸及びｙ軸とすると、Ｘ
線光学系で必要とするＸ線源の位置とレーザー光２の集
光点との空間的な位置ずれのうち、ｚ軸方向のずれは集
光レンズ３を光軸に沿って移動することによって修正す
ることができる。またｚ軸に直交する方向、すなわちｘ
軸とｙ軸とで構成されるｘｙ平面でのずれは、平行平面
ガラス４を軸９ａ回り、すなわち図面ｒ軸回りに回転
し、且つ内筒９を外筒８内で回転することにより、すな
わち内筒９をｚ軸回りに回転することにより修正するこ
とができ、結局Ｘ線源と集光点の位置ずれをすべて修正
することができる。
集光レンズ３の光軸方向をｚ軸とし、このｚ軸に直交し
且つ互いに直交する２方向をｘ軸及びｙ軸とすると、Ｘ
線光学系で必要とするＸ線源の位置とレーザー光２の集
光点との空間的な位置ずれのうち、ｚ軸方向のずれは集
光レンズ３を光軸に沿って移動することによって修正す
ることができる。またｚ軸に直交する方向、すなわちｘ
軸とｙ軸とで構成されるｘｙ平面でのずれは、平行平面
ガラス４を軸９ａ回り、すなわち図面ｒ軸回りに回転
し、且つ内筒９を外筒８内で回転することにより、すな
わち内筒９をｚ軸回りに回転することにより修正するこ
とができ、結局Ｘ線源と集光点の位置ずれをすべて修正
することができる。
【００１０】次に図３は別の実施例を示し、この実施例
では、集光レンズ３の光軸と同軸に外リング１０が配置
されており、外リング１０のｘ軸方向直径の両端からは
一対の軸１０ａ，１０ａが突設されており、この軸１０
ａによって内リング１１が回転自在に軸支されている。
内リング１１のｙ軸方向直径の両端からは一対の軸１１
ａ，１１ａが突設されており、この軸１１ａによって平
行平面ガラス４が回転自在に軸支されている。このよう
に形成しても、平行平面ガラス４の法線は集光レンズ３
の光軸の周りの任意の方向に傾斜させることができるか
ら、上記実施例と同様の効果を得ることができる。なお
上記実施例では平行平面ガラス４を集光レンズ３と遮蔽
窓５ａとの間に配置した場合を示したが、平行平面ガラ
ス４は集光レンズ３とターゲット６との間に配置されて
いれば良く、したがって遮蔽窓５ａとターゲット６との
間に配置することもできる。
では、集光レンズ３の光軸と同軸に外リング１０が配置
されており、外リング１０のｘ軸方向直径の両端からは
一対の軸１０ａ，１０ａが突設されており、この軸１０
ａによって内リング１１が回転自在に軸支されている。
内リング１１のｙ軸方向直径の両端からは一対の軸１１
ａ，１１ａが突設されており、この軸１１ａによって平
行平面ガラス４が回転自在に軸支されている。このよう
に形成しても、平行平面ガラス４の法線は集光レンズ３
の光軸の周りの任意の方向に傾斜させることができるか
ら、上記実施例と同様の効果を得ることができる。なお
上記実施例では平行平面ガラス４を集光レンズ３と遮蔽
窓５ａとの間に配置した場合を示したが、平行平面ガラ
ス４は集光レンズ３とターゲット６との間に配置されて
いれば良く、したがって遮蔽窓５ａとターゲット６との
間に配置することもできる。
【００１１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、集光レン
ズを前後させることによって、レーザー光の集光点とＸ
線光学系の設計上のＸ線源との距離合わせを行うことが
できるほか、平行平面ガラスを必要な方向に傾け、ある
いは回転することによって集光点を上下左右に振ること
ができるから、レーザー光の集光点をＸ線源の位置に容
易に一致させることができる。
ズを前後させることによって、レーザー光の集光点とＸ
線光学系の設計上のＸ線源との距離合わせを行うことが
できるほか、平行平面ガラスを必要な方向に傾け、ある
いは回転することによって集光点を上下左右に振ること
ができるから、レーザー光の集光点をＸ線源の位置に容
易に一致させることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略側面図
【図２】該実施例の平行平面ガラスを示す部分断面正面
図
図
【図３】別の実施例の平行平面ガラスを示す正面図
１…レーザー発生装置 ２…レーザー光 ３
…集光レンズ ４…平行平面ガラス ５…真空容器 ５
ａ…遮蔽窓 ６…ターゲット ７…Ｘ線 ８
…外筒 ９…内筒 ９ａ…軸 １
０…外リング １０ａ…軸 １１…内リング １
１ａ…軸
…集光レンズ ４…平行平面ガラス ５…真空容器 ５
ａ…遮蔽窓 ６…ターゲット ７…Ｘ線 ８
…外筒 ９…内筒 ９ａ…軸 １
０…外リング １０ａ…軸 １１…内リング １
１ａ…軸
Claims (2)
- 【請求項１】レーザー発生装置からのレーザー光を、光
軸に沿って移動可能に配置した集光レンズによってター
ゲット上に集光して、該ターゲットよりＸ線を発生させ
るレーザープラズマＸ線源において、 前記集光レンズとターゲットとの間に平行平面ガラスを
介在させ、該平行平面ガラスの法線が集光レンズの前記
光軸の周りの任意の方向に傾斜可能となるように、前記
平行平面ガラスを配置したことを特徴とする、レーザー
プラズマＸ線源。 - 【請求項２】集光レンズの前記光軸に軸芯を一致させた
外筒内に回転自在に内筒を配置し、該内筒内の直径方向
両端より一対の軸を突設し、該軸によって前記平行平面
ガラスを回転自在に軸支した、請求項１記載のレーザー
プラズマＸ線源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7037685A JPH08213193A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | レーザープラズマｘ線源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7037685A JPH08213193A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | レーザープラズマｘ線源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08213193A true JPH08213193A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=12504446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7037685A Pending JPH08213193A (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | レーザープラズマｘ線源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08213193A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005096680A1 (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-13 | Nikon Corporation | 光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 |
| JP2008532232A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-08-14 | サイマー インコーポレイテッド | レーザ生成プラズマｅｕｖ光源 |
| US8847181B2 (en) | 2011-03-10 | 2014-09-30 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645815U (ja) * | 1979-09-14 | 1981-04-24 | ||
| JPH05119199A (ja) * | 1991-10-30 | 1993-05-18 | Nikon Corp | レーザプラズマｘ線源用ターゲツト |
| JPH05506748A (ja) * | 1990-01-19 | 1993-09-30 | カリフォルニア・ジャマー・インコーポレイテッド | レーザープラズマｘ線源 |
| JPH06324281A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-25 | Ricoh Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
-
1995
- 1995-02-01 JP JP7037685A patent/JPH08213193A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645815U (ja) * | 1979-09-14 | 1981-04-24 | ||
| JPH05506748A (ja) * | 1990-01-19 | 1993-09-30 | カリフォルニア・ジャマー・インコーポレイテッド | レーザープラズマｘ線源 |
| JPH05119199A (ja) * | 1991-10-30 | 1993-05-18 | Nikon Corp | レーザプラズマｘ線源用ターゲツト |
| JPH06324281A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-25 | Ricoh Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005096680A1 (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-13 | Nikon Corporation | 光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 |
| JP2008532232A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-08-14 | サイマー インコーポレイテッド | レーザ生成プラズマｅｕｖ光源 |
| US8847181B2 (en) | 2011-03-10 | 2014-09-30 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040727 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041124 |