JP2006071651A - 高線束低バックグラウンド2次元小角x線散乱用光学系 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プレートと、該プレートに形成された開口とを備え、該開口は頂点に収束する輪郭を有し、さらに、その頂点から既知の距離で前記プレートに形成された口と、X線ビームを配向する際にフィードバックとして使用されるX線検出器とを備え、X線ビームは、前記開口を通過してX線検出器へ至るよう配置され、X線ビームおよび前記開口が相互に対して移動され、X線ビームは、X線検出器のフィードバックを使用して前記頂点まで移動し、X線ビームは、前記口まで前記既知の距離を移動するX線ビームを形成する装置。
【選択図】図2
Description
本発明はX線分析用途に関する。特に、本発明はX線分析に使用するX線ビームを生成し、形成して配向する装置および方法に関する。
本発明は、小角X線散乱用途に使用するX線ビームを生成する方法および装置である。本発明は、光学系を使用して、X線点状線源およびスリットまたはピンホールによって生成されたX線ビームの線束を集束させて増加させ、X線ビームを形成する。光学系は、最大線束のための2ピンホール・システム、または低いバックグラウンド(background)・ノイズおよび小さい最小アクセス可能角度のための3ピンホール・システムで構成することができる。
図1は、本発明の光学システム10の線図である。X線ビーム12はX線源14によって生成されて、楕円鏡などの光学系(optic)16へと配向され、これがX線ビーム12を集束する。光学系16は反射面を有し、これは曲がったグラファイト、曲がった完全結晶、全反射鏡、多層反射鏡、または当技術分野で知られている他のX線反射面で構成することができる。光学系16は、X線ビームを配向して第1スリット(またはピンホール)18および第2スリット(またはピンホール)20を通し、干渉性のX線ビーム(coherent x-ray beam)21を形成して画定する。第1スリット18によって生成される散乱および干渉パターンまたはノイズは、第2スリット20によって遮断される。X線ビーム21の焦点22が、第2スリット20とX線検出器30の間に配置される。分析されるサンプル構造26を含むサンプル室24は、第2スリット20によって生成される散乱および干渉パターンを消失させる第3スリット28を含む。
Claims (5)
- X線ビームを形成する装置で、
プレートと、
前記プレートに形成された開口とを備え、前記開口は頂点に収束する輪郭を有し、さらに、
前記頂点から既知の距離で前記プレートに形成された口と、
X線ビームを配向する際にフィードバックとして使用されるX線検出器とを備え、
前記X線ビームは、前記開口を通過して前記X線検出器へ至るよう配置され、X線ビームおよび前記開口が相互に対して移動され、X線ビームは、前記X線検出器のフィードバックを使用して前記頂点まで移動し、X線ビームは、前記口まで前記既知の距離移動する装置。 - 前記開口が、前記頂点に収束する三角形の端部分を有する、請求項1に記載の装置。
- さらに、複数の口を有する回転口プレートを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記口がそれぞれ異なるサイズである、請求項3に記載の装置。
- 口を通してX線ビームを配向する方法で、
プレートに形成された開口を通して移動するようX線ビームを配置するステップを含み、前記開口が頂点へと収束する輪郭を有し、さらに、
前記X線ビームが前記開口を通して移動しているか判断するため、フィードバックを提供するX線検出器で前記X線ビームを観察するステップと、
前記X線ビームが前記開口の前記頂点に到達するまで、前記開口に対して相対的に前記X線ビームを表示するステップと、
前記X線ビームを既知の距離だけ口まで変位させるステップとを含む方法。
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