JPH11133191A - Ｘ線集光装置 - Google Patents
Ｘ線集光装置Info
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- JPH11133191A JPH11133191A JP9309787A JP30978797A JPH11133191A JP H11133191 A JPH11133191 A JP H11133191A JP 9309787 A JP9309787 A JP 9309787A JP 30978797 A JP30978797 A JP 30978797A JP H11133191 A JPH11133191 A JP H11133191A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 実用上十分な強度のＸ線集光ビームを形成で
き、しかも構造が極めて簡単であるＸ線集光装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線Ｒを集光す
るＸ線集光装置において、Ｘ線源Ｆから放射されて進行
するＸ線Ｒの進行経路上に配設されていて平板形状の第
１平板モノクロメータ２ａと、Ｘ線進行経路に関してそ
の第１平板モノクロメータ２ａの下流位置に配設されて
いて平板形状の第２平板モノクロメータ２ｂとを有し、
第１平板モノクロメータ２ａと第２平板モノクロメータ
２ｂとは互いに交わる位置関係で配置され、さらに第１
平板モノクロメータ２ａ及び第２平板モノクロメータ２
ｂは、モザイク角度幅の広い結晶、例えばパイロリテッ
クグラファイトによって形成される。
き、しかも構造が極めて簡単であるＸ線集光装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線Ｒを集光す
るＸ線集光装置において、Ｘ線源Ｆから放射されて進行
するＸ線Ｒの進行経路上に配設されていて平板形状の第
１平板モノクロメータ２ａと、Ｘ線進行経路に関してそ
の第１平板モノクロメータ２ａの下流位置に配設されて
いて平板形状の第２平板モノクロメータ２ｂとを有し、
第１平板モノクロメータ２ａと第２平板モノクロメータ
２ｂとは互いに交わる位置関係で配置され、さらに第１
平板モノクロメータ２ａ及び第２平板モノクロメータ２
ｂは、モザイク角度幅の広い結晶、例えばパイロリテッ
クグラファイトによって形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微小領域Ｘ線回折
装置、点収束カメラ装置等のようにＸ線を試料の微小領
域に照射してＸ線回折測定を行う装置に好適に用いられ
るＸ線集光装置であって、Ｘ線源から発散して進行する
Ｘ線を点状に集光するＸ線集光装置に関する。
装置、点収束カメラ装置等のようにＸ線を試料の微小領
域に照射してＸ線回折測定を行う装置に好適に用いられ
るＸ線集光装置であって、Ｘ線源から発散して進行する
Ｘ線を点状に集光するＸ線集光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】微小領域Ｘ線回折装置、点収束カメラ装
置、小角散乱装置等といったＸ線回折装置においては、
Ｘ線源から放射されたＸ線が試料の微小領域に照射され
る。Ｘ線源から発散するＸ線を試料の微小領域へ導くた
めに、従来、いわゆるコリメータを用いてＸ線の断面径
を制限したり、あるいは、互いに直交する位置関係に配
置した２つのリフレクタすなわち反射鏡を用いてＸ線を
集光する等といった技術が用いられている。コリメータ
を用いる場合は、例えば図７に示すように、Ｘ線源Ｆと
試料Ｓとの間のＸ線光路上において試料Ｓの上流位置に
コリメータ５１を設ける。このコリメータ５１により、
Ｘ線Ｒを微小断面の平行ビームに制限して試料Ｓに照射
する。
置、小角散乱装置等といったＸ線回折装置においては、
Ｘ線源から放射されたＸ線が試料の微小領域に照射され
る。Ｘ線源から発散するＸ線を試料の微小領域へ導くた
めに、従来、いわゆるコリメータを用いてＸ線の断面径
を制限したり、あるいは、互いに直交する位置関係に配
置した２つのリフレクタすなわち反射鏡を用いてＸ線を
集光する等といった技術が用いられている。コリメータ
を用いる場合は、例えば図７に示すように、Ｘ線源Ｆと
試料Ｓとの間のＸ線光路上において試料Ｓの上流位置に
コリメータ５１を設ける。このコリメータ５１により、
Ｘ線Ｒを微小断面の平行ビームに制限して試料Ｓに照射
する。
【０００３】また、２つのリフレクタを用いる場合に
は、例えば図８に示すように、Ｘ線源Ｆと試料Ｓとの間
の光軸上に一対のスリット５２，５２を設け、さらに、
水平リフレクタ５３と垂直リフレクタ５４とを互いに直
角の位置関係に配置する。そして、発散しながら進行す
るＸ線Ｒを、２つにリフレクタ５３及び５４によって反
射して光軸を２方向へ曲げ、それを照射対象物例えばＸ
線フィルム５５上に点状に集束させる。
は、例えば図８に示すように、Ｘ線源Ｆと試料Ｓとの間
の光軸上に一対のスリット５２，５２を設け、さらに、
水平リフレクタ５３と垂直リフレクタ５４とを互いに直
角の位置関係に配置する。そして、発散しながら進行す
るＸ線Ｒを、２つにリフレクタ５３及び５４によって反
射して光軸を２方向へ曲げ、それを照射対象物例えばＸ
線フィルム５５上に点状に集束させる。
【０００４】しかしながら、図７に示すコリメータ５１
は、単にＸ線Ｒの一部を微小断面の平行光に制限するだ
けものであるから、光を集めるという集光性能に限界が
ある。また、図８に示すＸ線集光装置は、Ｘ線を集光す
る機能を有するものの、Ｘ線Ｒを２方向に曲げる、すな
わち２回反射させる構成になっているので、Ｘ線の強度
が著しく減衰するという問題点を有する。
は、単にＸ線Ｒの一部を微小断面の平行光に制限するだ
けものであるから、光を集めるという集光性能に限界が
ある。また、図８に示すＸ線集光装置は、Ｘ線を集光す
る機能を有するものの、Ｘ線Ｒを２方向に曲げる、すな
わち２回反射させる構成になっているので、Ｘ線の強度
が著しく減衰するという問題点を有する。
【０００５】上記のような問題点を解消するため、本発
明者は、特開平５−３３２９５４号公報及び特開平８−
１２８９７０号公報において、円筒面を持ったＸ線反射
鏡をＸ線光路に対して直角方向へ凸となるように湾曲さ
せた構造のＸ線集光装置を提案した。このＸ線集光装置
によれば、用いる反射鏡が１つだけなので、光軸調整が
簡単であったり、Ｘ線強度の減衰を最小限に抑えること
ができる等といった格別な効果を得ることができる。
明者は、特開平５−３３２９５４号公報及び特開平８−
１２８９７０号公報において、円筒面を持ったＸ線反射
鏡をＸ線光路に対して直角方向へ凸となるように湾曲さ
せた構造のＸ線集光装置を提案した。このＸ線集光装置
によれば、用いる反射鏡が１つだけなので、光軸調整が
簡単であったり、Ｘ線強度の減衰を最小限に抑えること
ができる等といった格別な効果を得ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、それら
の公報に開示されたＸ線反射鏡に関しては、Ｘ線反射面
を円筒面に形成しなければならず、しかもＸ線光路に対
して湾曲させなければならない。Ｘ線反射面を円筒状に
形成するための加工は非常に難しく、また、円筒状のＸ
線反射面を高精度に湾曲させることも非常に難しい。本
発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので
あって、実用上十分な強度のＸ線集光ビームを形成で
き、しかも構造が極めて簡単であるＸ線集光装置を提供
することを目的とする。
の公報に開示されたＸ線反射鏡に関しては、Ｘ線反射面
を円筒面に形成しなければならず、しかもＸ線光路に対
して湾曲させなければならない。Ｘ線反射面を円筒状に
形成するための加工は非常に難しく、また、円筒状のＸ
線反射面を高精度に湾曲させることも非常に難しい。本
発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので
あって、実用上十分な強度のＸ線集光ビームを形成で
き、しかも構造が極めて簡単であるＸ線集光装置を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線集光装置は、Ｘ線源から放射され
たＸ線を集光するＸ線集光装置において、Ｘ線源から
放射されて進行するＸ線の進行経路上に配設されていて
平板形状の第１平板モノクロメータと、Ｘ線進行経路
に関してその第１平板モノクロメータの下流位置に配設
されていて平板形状の第２平板モノクロメータとを有
し、前記第１平板モノクロメータと前記第２平板モノ
クロメータとは互いに交わる位置関係で配置され、さら
に前記第１平板モノクロメータ及び第２平板モノクロ
メータは、モザイク角度幅の広い結晶によって形成され
ることを特徴とする。
め、本発明に係るＸ線集光装置は、Ｘ線源から放射され
たＸ線を集光するＸ線集光装置において、Ｘ線源から
放射されて進行するＸ線の進行経路上に配設されていて
平板形状の第１平板モノクロメータと、Ｘ線進行経路
に関してその第１平板モノクロメータの下流位置に配設
されていて平板形状の第２平板モノクロメータとを有
し、前記第１平板モノクロメータと前記第２平板モノ
クロメータとは互いに交わる位置関係で配置され、さら
に前記第１平板モノクロメータ及び第２平板モノクロ
メータは、モザイク角度幅の広い結晶によって形成され
ることを特徴とする。
【０００８】上記構成において、「モザイク角度幅」と
いうのは、いわゆる結晶のモザイク構造に起因して発生
する回折線強度の角度の広がりを表わすものであり、例
えば、図３に示すような測定系によって測定できる。こ
の測定系では、Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線をモノクロ
メータ５６によって平行Ｘ線ビームに成形して試料結晶
Ｓに照射し、その試料結晶Ｓを試料軸線Ｌを中心として
微小角度範囲で回転、いわゆるω回転させながら、Ｘ線
カウンタ５７によって回折線の強度を測定する。測定結
果は、図４に示すように、ω回転角度（ω）と回折線強
度（Ｉ）とを直交座標軸とするグラフ上に山形形状の回
折線図形となって現われる。
いうのは、いわゆる結晶のモザイク構造に起因して発生
する回折線強度の角度の広がりを表わすものであり、例
えば、図３に示すような測定系によって測定できる。こ
の測定系では、Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線をモノクロ
メータ５６によって平行Ｘ線ビームに成形して試料結晶
Ｓに照射し、その試料結晶Ｓを試料軸線Ｌを中心として
微小角度範囲で回転、いわゆるω回転させながら、Ｘ線
カウンタ５７によって回折線の強度を測定する。測定結
果は、図４に示すように、ω回転角度（ω）と回折線強
度（Ｉ）とを直交座標軸とするグラフ上に山形形状の回
折線図形となって現われる。
【０００９】このような回折線図形の幅Ｗが結晶Ｓのモ
ザイク角度幅を示している。結晶全体が１つの結晶によ
って形成される完全結晶は、ほとんどモザイク構造をと
らないので、モザイク角度幅Ｗは、Ｗ2 のように非常に
狭くなる。他方、多数の微小結晶片が積み重なってモザ
イク状に形成された結晶、いわゆるモザイク状結晶で
は、モザイク角度幅ＷはＷ1 のように広くなる。結晶で
回折するＸ線の強度は、回折線図形の面積、すなわち積
分値として現われるので、モザイク角度幅Ｗが広い結晶
の方が、それが狭い結晶に比べてＸ線強度が強くなる。
ザイク角度幅を示している。結晶全体が１つの結晶によ
って形成される完全結晶は、ほとんどモザイク構造をと
らないので、モザイク角度幅Ｗは、Ｗ2 のように非常に
狭くなる。他方、多数の微小結晶片が積み重なってモザ
イク状に形成された結晶、いわゆるモザイク状結晶で
は、モザイク角度幅ＷはＷ1 のように広くなる。結晶で
回折するＸ線の強度は、回折線図形の面積、すなわち積
分値として現われるので、モザイク角度幅Ｗが広い結晶
の方が、それが狭い結晶に比べてＸ線強度が強くなる。
【００１０】本発明で用いる「モザイク角度幅の広い結
晶」というのは、モザイク角度幅が狭い結晶、例えばゲ
ルマニウム、シリコン等の単結晶から成る完全結晶を除
く意味である。そして、そのような「モザイク角度幅の
広い結晶」としては上記のモザイク状結晶、例えば、熱
合成によって形成されるグラファイトであるパイロリテ
ックグラファイトを用いることができる。
晶」というのは、モザイク角度幅が狭い結晶、例えばゲ
ルマニウム、シリコン等の単結晶から成る完全結晶を除
く意味である。そして、そのような「モザイク角度幅の
広い結晶」としては上記のモザイク状結晶、例えば、熱
合成によって形成されるグラファイトであるパイロリテ
ックグラファイトを用いることができる。
【００１１】上記構成から成る本発明のＸ線集光装置に
よれば、モザイク角度幅の広い結晶によって平板モノク
ロメータを形成するので、その平板モノクロメータで回
折したＸ線を線状に集束させることができる。そして、
その平板モノクロメータを少なくとも２個用意し、さら
に、それらを互いに交わる位置関係に配置するようにし
たので、１段目の平板モノクロメータの作用によって線
状に集束するＸ線ビームを、２段目の平板モノクロメー
タの作用によって、最終的に点状に集束させることがで
きる。
よれば、モザイク角度幅の広い結晶によって平板モノク
ロメータを形成するので、その平板モノクロメータで回
折したＸ線を線状に集束させることができる。そして、
その平板モノクロメータを少なくとも２個用意し、さら
に、それらを互いに交わる位置関係に配置するようにし
たので、１段目の平板モノクロメータの作用によって線
状に集束するＸ線ビームを、２段目の平板モノクロメー
タの作用によって、最終的に点状に集束させることがで
きる。
【００１２】ゲルマニウム、シリコン等のようにモザイ
ク角度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成すると、
その分光光学系のエネルギー分解能は高いかもしれな
い。しかしながら、その分光光学系によって得られる回
折Ｘ線は発散角が狭いので、得られるＸ線の強度は低く
なる。これに対し、モザイク角度幅の広い結晶を用いて
分光光学系を構成した本発明によれば、得られる回折Ｘ
線の発散角が広いので、強度の高い集束Ｘ線ビームを得
ることができる。
ク角度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成すると、
その分光光学系のエネルギー分解能は高いかもしれな
い。しかしながら、その分光光学系によって得られる回
折Ｘ線は発散角が狭いので、得られるＸ線の強度は低く
なる。これに対し、モザイク角度幅の広い結晶を用いて
分光光学系を構成した本発明によれば、得られる回折Ｘ
線の発散角が広いので、強度の高い集束Ｘ線ビームを得
ることができる。
【００１３】例えば、「モザイク角度幅の広い結晶」と
して、パイロリテックグラファイトを用いることがで
き、このパイロリテックグラファイトに関しては、図４
におけるモザイク角度幅Ｗが、半価幅で０．３°〜０．
５°程度、裾の領域まで含めると１°程度である。この
ようにモザイク角度幅の広い結晶を用いて分光光学系を
構成すれば、Ｘ線ビームの発散角が大きくなり、それゆ
え、強度の高い集束Ｘ線ビームが得られる。
して、パイロリテックグラファイトを用いることがで
き、このパイロリテックグラファイトに関しては、図４
におけるモザイク角度幅Ｗが、半価幅で０．３°〜０．
５°程度、裾の領域まで含めると１°程度である。この
ようにモザイク角度幅の広い結晶を用いて分光光学系を
構成すれば、Ｘ線ビームの発散角が大きくなり、それゆ
え、強度の高い集束Ｘ線ビームが得られる。
【００１４】また、図７に示すようにコリメータ５１を
用いたＸ線光学系では、Ｘ線源Ｆから発散するＸ線のう
ちコリメータ５１を通過するものだけを取り出すという
構造であるので、取り出されるＸ線はＸ線源Ｆから放射
されたＸ線のうちの極一部であり、よって、得られるＸ
線の強度は非常に低い。これに対し、上記構成の本発明
に係るＸ線集光装置では、Ｘ線ビームを点状に集束させ
ることによって微小断面積のＸ線ビームを形成するの
で、得られるＸ線ビームのＸ線強度は図７の装置に比べ
て非常に高い。
用いたＸ線光学系では、Ｘ線源Ｆから発散するＸ線のう
ちコリメータ５１を通過するものだけを取り出すという
構造であるので、取り出されるＸ線はＸ線源Ｆから放射
されたＸ線のうちの極一部であり、よって、得られるＸ
線の強度は非常に低い。これに対し、上記構成の本発明
に係るＸ線集光装置では、Ｘ線ビームを点状に集束させ
ることによって微小断面積のＸ線ビームを形成するの
で、得られるＸ線ビームのＸ線強度は図７の装置に比べ
て非常に高い。
【００１５】さらに、特開平５−３３２９５４号公報及
び特開平８−１２８９７０号公報に開示されたＸ線集光
装置では、Ｘ線反射面を円筒面形状に形成すると共に、
そのＸ線反射面をＸ線進行方向に対して直角方向に凸に
なるように高精度に湾曲させなければならない。Ｘ線反
射面を円筒面形状に形成することは非常に難しく、さら
に、Ｘ線反射面を高精度に湾曲させることも非常に難し
い。これに対し、上記構成の本発明に係るＸ線集光装置
では、単に、一対の平板形状のモノクロメータを互いに
直角の位置関係に配置するだけ良いので、極めて簡単に
作製することができる。
び特開平８−１２８９７０号公報に開示されたＸ線集光
装置では、Ｘ線反射面を円筒面形状に形成すると共に、
そのＸ線反射面をＸ線進行方向に対して直角方向に凸に
なるように高精度に湾曲させなければならない。Ｘ線反
射面を円筒面形状に形成することは非常に難しく、さら
に、Ｘ線反射面を高精度に湾曲させることも非常に難し
い。これに対し、上記構成の本発明に係るＸ線集光装置
では、単に、一対の平板形状のモノクロメータを互いに
直角の位置関係に配置するだけ良いので、極めて簡単に
作製することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】図２は、本発明に係るＸ線集光装
置を微小領域Ｘ線回折装置に適用した場合の実施形態を
示している。まず、その全体を符号１０で示す微小領域
Ｘ線回折装置の概略について説明すると、Ｘ線管１９内
に設けたＸ線源Ｆから出たＸ線Ｒが集光する集光点Ｏの
所に、互いに直交して３次元に交わるχ（カイ）軸線、
ω軸線、φ軸線が設定される。ω軸線上にはホルダ１１
が設けられ、このホルダ１１の端部を通るχ軸線上に他
のホルダ１３が設けられ、さらにそのホルダ１３の端部
を通るφ軸線上に試料ホルダ１５が設けられる。
置を微小領域Ｘ線回折装置に適用した場合の実施形態を
示している。まず、その全体を符号１０で示す微小領域
Ｘ線回折装置の概略について説明すると、Ｘ線管１９内
に設けたＸ線源Ｆから出たＸ線Ｒが集光する集光点Ｏの
所に、互いに直交して３次元に交わるχ（カイ）軸線、
ω軸線、φ軸線が設定される。ω軸線上にはホルダ１１
が設けられ、このホルダ１１の端部を通るχ軸線上に他
のホルダ１３が設けられ、さらにそのホルダ１３の端部
を通るφ軸線上に試料ホルダ１５が設けられる。
【００１７】ω軸回りのホルダ１１はパルスモータ１２
によって駆動されて回転し、χ軸回りのホルダ１３はパ
ルスモータ１４によって駆動されて回転し、そして試料
ホルダ１５はパルスモータ１６によって駆動されて回転
する。測定対象である試料Ｓは、試料ホルダ１５の先端
のＸ線集光点Ｏに取り付けられる。３つのパルスモータ
１２，１４，１６を駆動して各ホルダ１１，１３，１５
を回転させることにより、試料Ｓを３次元的に回転さ
せ、その結果、試料Ｓの表面の種々の領域をＸ線Ｒの集
光点Ｏに持ち運ぶことが可能になっている。
によって駆動されて回転し、χ軸回りのホルダ１３はパ
ルスモータ１４によって駆動されて回転し、そして試料
ホルダ１５はパルスモータ１６によって駆動されて回転
する。測定対象である試料Ｓは、試料ホルダ１５の先端
のＸ線集光点Ｏに取り付けられる。３つのパルスモータ
１２，１４，１６を駆動して各ホルダ１１，１３，１５
を回転させることにより、試料Ｓを３次元的に回転さ
せ、その結果、試料Ｓの表面の種々の領域をＸ線Ｒの集
光点Ｏに持ち運ぶことが可能になっている。
【００１８】試料Ｓに関して上述の各ホルダ１１，１
３，１５の反対側には、Ｘ線検出器としてのＰＳＰＣ
（ Position Sensitive Proportional Counter）１７が
配設される。ＰＳＰＣ１７は、位置感応型Ｘ線検出器と
も呼ばれるものであって、その具体的な構造は広く知ら
れているので詳しい説明は省略するが、基本的には、円
弧状に延びる開口１８を通して内部に取り込まれるＸ線
に関して、回折角度２θ方向の位置情報及びＸ線強度を
同時に測定するＸ線検出器である。試料Ｓで回折したＸ
線は開口１８を介してＰＳＰＣ１７の内部に取り込ま
れ、そのＸ線に関する位置情報及びＸ線強度が同時に測
定される。この測定結果に基づいて試料Ｓの内部の結晶
構造が判定される。
３，１５の反対側には、Ｘ線検出器としてのＰＳＰＣ
（ Position Sensitive Proportional Counter）１７が
配設される。ＰＳＰＣ１７は、位置感応型Ｘ線検出器と
も呼ばれるものであって、その具体的な構造は広く知ら
れているので詳しい説明は省略するが、基本的には、円
弧状に延びる開口１８を通して内部に取り込まれるＸ線
に関して、回折角度２θ方向の位置情報及びＸ線強度を
同時に測定するＸ線検出器である。試料Ｓで回折したＸ
線は開口１８を介してＰＳＰＣ１７の内部に取り込ま
れ、そのＸ線に関する位置情報及びＸ線強度が同時に測
定される。この測定結果に基づいて試料Ｓの内部の結晶
構造が判定される。
【００１９】以上のような微小領域Ｘ線回折装置１０に
おいて、Ｘ線管１９と試料Ｓとの間のＸ線光軸上にＸ線
集光装置１が配設される。このＸ線集光装置１は、図１
に示すように、Ｘ線源Ｆから放射されて進行するＸ線Ｒ
の進行経路上に配設されていて平板形状の第１平板モノ
クロメータ２ａと、Ｘ線進行経路に関してその第１平板
モノクロメータ２ａの下流位置に配設されていて平板形
状の第２平板モノクロメータ２ｂとを有する。
おいて、Ｘ線管１９と試料Ｓとの間のＸ線光軸上にＸ線
集光装置１が配設される。このＸ線集光装置１は、図１
に示すように、Ｘ線源Ｆから放射されて進行するＸ線Ｒ
の進行経路上に配設されていて平板形状の第１平板モノ
クロメータ２ａと、Ｘ線進行経路に関してその第１平板
モノクロメータ２ａの下流位置に配設されていて平板形
状の第２平板モノクロメータ２ｂとを有する。
【００２０】これらのモノクロメータ２ａ及び２ｂは、
いずれも、パイロリテックグラファイト、すなわちグラ
ファイトを熱合成によって希望の平板形状に形成した結
晶物質によって形成される。このパイロリテックグラフ
ァイトは、図４に符号Ｐで示すようなモザイク角度幅の
広い特性を有し、従って、回折Ｘ線の発散角が大きくて
回折Ｘ線強度が高いという特性を有している。
いずれも、パイロリテックグラファイト、すなわちグラ
ファイトを熱合成によって希望の平板形状に形成した結
晶物質によって形成される。このパイロリテックグラフ
ァイトは、図４に符号Ｐで示すようなモザイク角度幅の
広い特性を有し、従って、回折Ｘ線の発散角が大きくて
回折Ｘ線強度が高いという特性を有している。
【００２１】第１平板モノクロメータ２ａと第２平板モ
ノクロメータ２ｂとは互いに交わる位置関係で配置され
ている。本実施形態では、第１平板モノクロメータ２ａ
が上下縦方向に配置され、第２平板モノクロメータ２ｂ
が左右横方向に配置される。両モノクロメータ２ａ及び
２ｂの間の相対角度は略直角になると考えられるが、状
況に応じて種々の値をとることも考えられる。重要なこ
とは、Ｘ線Ｒが目標となる集光点Ｏに点状に集光できる
ような適当な相対角度に両モノクロメータ２ａ及び２ｂ
を設定するということである。
ノクロメータ２ｂとは互いに交わる位置関係で配置され
ている。本実施形態では、第１平板モノクロメータ２ａ
が上下縦方向に配置され、第２平板モノクロメータ２ｂ
が左右横方向に配置される。両モノクロメータ２ａ及び
２ｂの間の相対角度は略直角になると考えられるが、状
況に応じて種々の値をとることも考えられる。重要なこ
とは、Ｘ線Ｒが目標となる集光点Ｏに点状に集光できる
ような適当な相対角度に両モノクロメータ２ａ及び２ｂ
を設定するということである。
【００２２】本実施形態のＸ線集光装置１は以上のよう
に構成されているので、点状のＸ線源Ｆから発生したＸ
線は、第１平板モノクロメータ２ａ及び第２平板モノク
ロメータ２ｂの２枚のモノクロメータで回折した後、集
光点Ｏに点状に集光する。第１平板モノクロメータ２ａ
を構成するパイロリテックグラファイトのモザイク角度
幅は半価幅で０．３°〜０．５°程度であるので、第１
平板モノクロメータ２ａで回折したＸ線は、そのモノク
ロメータ２ａを中心としてＸ線源Ｆに対称の位置Ｑに線
状に集光する。そのときの回折Ｘ線の角度幅はモザイク
角度幅に相当する。線状に集光するＸ線を第２平板モノ
クロメータ２ｂによって回折させることにより、Ｘ線Ｒ
を最終的に目標の集光点Ｏに集光させることができる。
この集光点Ｏに試料を置けば、その試料の微小領域に強
度の高いＸ線を照射することができる。
に構成されているので、点状のＸ線源Ｆから発生したＸ
線は、第１平板モノクロメータ２ａ及び第２平板モノク
ロメータ２ｂの２枚のモノクロメータで回折した後、集
光点Ｏに点状に集光する。第１平板モノクロメータ２ａ
を構成するパイロリテックグラファイトのモザイク角度
幅は半価幅で０．３°〜０．５°程度であるので、第１
平板モノクロメータ２ａで回折したＸ線は、そのモノク
ロメータ２ａを中心としてＸ線源Ｆに対称の位置Ｑに線
状に集光する。そのときの回折Ｘ線の角度幅はモザイク
角度幅に相当する。線状に集光するＸ線を第２平板モノ
クロメータ２ｂによって回折させることにより、Ｘ線Ｒ
を最終的に目標の集光点Ｏに集光させることができる。
この集光点Ｏに試料を置けば、その試料の微小領域に強
度の高いＸ線を照射することができる。
【００２３】本実施形態のＸ線集光装置によれば、図７
に示すようにコリメータ５１を用いてＸ線光学系を構成
する場合や、ゲルマニウム、シリコン等のようにモザイ
ク角度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成する場合
等に比べて、強度の高い集束Ｘ線ビームを得ることがで
きる。また、本実施形態のＸ線集光装置では、Ｘ線反射
面を円筒面形状等に加工する必要も無く、また、平板モ
ノクロメータ２ａ及び２ｂを湾曲させる必要も無いの
で、このＸ線集光装置は極めて簡単に作製することがで
きる。
に示すようにコリメータ５１を用いてＸ線光学系を構成
する場合や、ゲルマニウム、シリコン等のようにモザイ
ク角度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成する場合
等に比べて、強度の高い集束Ｘ線ビームを得ることがで
きる。また、本実施形態のＸ線集光装置では、Ｘ線反射
面を円筒面形状等に加工する必要も無く、また、平板モ
ノクロメータ２ａ及び２ｂを湾曲させる必要も無いの
で、このＸ線集光装置は極めて簡単に作製することがで
きる。
【００２４】第１平板モノクロメータ２ａと第２平板モ
ノクロメータ２ｂとの間には機械的な距離が存在するの
で、Ｘ線源Ｆと集光点Ｏは厳密には対称にはならない
が、実用上は問題とはならない。また、パイロリテック
グラファイトによって構成されるモノクロメータ２ａ及
び２ｂに関しては、それらの内部へＸ線が侵入すること
によってそれらのモノクロメータの厚さ方向に回折Ｘ線
ビームが広がり、その結果、Ｘ線の集光点にボケが生じ
るおそれがある。しかしながらそのボケは、モノクロメ
ータ２ａ及び２ｂの厚さを薄くすることによって小さく
することができる。具体的な厚さ寸法はＸ線源Ｆと同程
度の寸法が望ましく、例えば０．１ｍｍ程度に設定す
る。
ノクロメータ２ｂとの間には機械的な距離が存在するの
で、Ｘ線源Ｆと集光点Ｏは厳密には対称にはならない
が、実用上は問題とはならない。また、パイロリテック
グラファイトによって構成されるモノクロメータ２ａ及
び２ｂに関しては、それらの内部へＸ線が侵入すること
によってそれらのモノクロメータの厚さ方向に回折Ｘ線
ビームが広がり、その結果、Ｘ線の集光点にボケが生じ
るおそれがある。しかしながらそのボケは、モノクロメ
ータ２ａ及び２ｂの厚さを薄くすることによって小さく
することができる。具体的な厚さ寸法はＸ線源Ｆと同程
度の寸法が望ましく、例えば０．１ｍｍ程度に設定す
る。
【００２５】なお、図１に示す第１平板モノクロメータ
２ａ及び２ｂは、図５に示すように、それらのＸ線入射
面が平面状態であった。しかしながらこれらのモノクロ
メータ２ａ及び２ｂは、図６に示すように、Ｘ線入射面
が凹面となるように湾曲させることもできる。図６に示
す湾曲状態のときにモノクロメータ２ａ及び２ｂに取り
込むことのできる入射Ｘ線Ｒの発散角θ２は、図５に示
す平面状態のときの発散角θ１よりも大きくとることが
でき、その結果、モノクロメータ２ａ及び２ａを湾曲さ
せたときに得られる特性Ｘ線のＸ線強度は平面状態のと
きの強度よりも強くすることができる。すなわち、平板
クロメータ２ａ及び２ｂを湾曲させることにより、パイ
ロリテックグラファイトのモザイク角度幅よりも広い角
度のＸ線ビームを得ることができる。
２ａ及び２ｂは、図５に示すように、それらのＸ線入射
面が平面状態であった。しかしながらこれらのモノクロ
メータ２ａ及び２ｂは、図６に示すように、Ｘ線入射面
が凹面となるように湾曲させることもできる。図６に示
す湾曲状態のときにモノクロメータ２ａ及び２ｂに取り
込むことのできる入射Ｘ線Ｒの発散角θ２は、図５に示
す平面状態のときの発散角θ１よりも大きくとることが
でき、その結果、モノクロメータ２ａ及び２ａを湾曲さ
せたときに得られる特性Ｘ線のＸ線強度は平面状態のと
きの強度よりも強くすることができる。すなわち、平板
クロメータ２ａ及び２ｂを湾曲させることにより、パイ
ロリテックグラファイトのモザイク角度幅よりも広い角
度のＸ線ビームを得ることができる。
【００２６】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。例えば、上記実施形態ではモザイク角度幅が広
い結晶としてパイロリテックグラファイトを用いたが、
ゲルマニウム、シリコン等の単結晶から成る完全結晶に
比べてモザイク角度幅が広い結晶でありさえすれば、そ
の他の結晶を用いることもできる。また、上記実施形態
では本発明のＸ線集光装置を微小領域Ｘ線回折装置に適
用したが、本発明は、Ｘ線を集光させる必要があるその
他の任意のＸ線装置に適用することができる。
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。例えば、上記実施形態ではモザイク角度幅が広
い結晶としてパイロリテックグラファイトを用いたが、
ゲルマニウム、シリコン等の単結晶から成る完全結晶に
比べてモザイク角度幅が広い結晶でありさえすれば、そ
の他の結晶を用いることもできる。また、上記実施形態
では本発明のＸ線集光装置を微小領域Ｘ線回折装置に適
用したが、本発明は、Ｘ線を集光させる必要があるその
他の任意のＸ線装置に適用することができる。
【００２７】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線集光装置によれば、
モザイク角度幅の広い結晶によって形成された一対の平
板モノクロメータによってＸ線を回折させることによ
り、Ｘ線源から発生したＸ線を点状に集束させることが
できる。また、コリメータを用いたＸ線光学系を用いる
場合や、ゲルマニウム、シリコン等のようにモザイク角
度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成する場合等に
比べて、強度の高い集束Ｘ線ビームを得ることができ
る。また、Ｘ線反射面を円筒面形状に加工したり、モノ
クロメータ全体を高精度に湾曲させる必要が無く、単に
平板状のモノクロメータを用いるだけなので、構造が非
常に簡単で、しかも簡単に作製できる。
モザイク角度幅の広い結晶によって形成された一対の平
板モノクロメータによってＸ線を回折させることによ
り、Ｘ線源から発生したＸ線を点状に集束させることが
できる。また、コリメータを用いたＸ線光学系を用いる
場合や、ゲルマニウム、シリコン等のようにモザイク角
度幅が狭い結晶を用いて分光光学系を構成する場合等に
比べて、強度の高い集束Ｘ線ビームを得ることができ
る。また、Ｘ線反射面を円筒面形状に加工したり、モノ
クロメータ全体を高精度に湾曲させる必要が無く、単に
平板状のモノクロメータを用いるだけなので、構造が非
常に簡単で、しかも簡単に作製できる。
【００２８】請求項２記載のＸ線集光装置は、現状にお
いて容易に入手できるパイロリテックグラファイトを用
いて形成できる。この結晶は、モザイク角度幅が単結晶
モノクロメータに比べて大きいので強度の強い回折Ｘ線
を得ることができる。
いて容易に入手できるパイロリテックグラファイトを用
いて形成できる。この結晶は、モザイク角度幅が単結晶
モノクロメータに比べて大きいので強度の強い回折Ｘ線
を得ることができる。
【００２９】請求項３記載のＸ線集光装置によれば、単
結晶モノクロメータに比べて広いモザイク角度幅を得る
ことができ、従って強度の強い回折Ｘ線を得ることがで
きる。
結晶モノクロメータに比べて広いモザイク角度幅を得る
ことができ、従って強度の強い回折Ｘ線を得ることがで
きる。
【００３０】請求項４記載のＸ線集光装置によれば、モ
ノクロメータに取り込むことのできる入射Ｘ線の発散角
を大きくとることができ、よって、モノクロメータで回
折するＸ線の強度を高めることができる。
ノクロメータに取り込むことのできる入射Ｘ線の発散角
を大きくとることができ、よって、モノクロメータで回
折するＸ線の強度を高めることができる。
【００３１】
【図１】本発明に係るＸ線集光装置の一実施形態を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】同Ｘ線集光装置の使用例の一例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図３】結晶に関するモザイク角度幅を測定するための
Ｘ線測定系の一例を模式的に示す図である。
Ｘ線測定系の一例を模式的に示す図である。
【図４】結晶に関するモザイク角度幅を示すグラフであ
る。
る。
【図５】平面状の平板モノクロメータが取り込むことの
できる入射Ｘ線の発散角を示す図である。
できる入射Ｘ線の発散角を示す図である。
【図６】湾曲形状の平板モノクロメータが取り込むこと
のできる入射Ｘ線の発散角を示す図である。
のできる入射Ｘ線の発散角を示す図である。
【図７】Ｘ線ビームの断面形状を狭めるための従来のＸ
線光学系の一例を示す斜視図である。
線光学系の一例を示す斜視図である。
【図８】従来のＸ線集光装置の一例を示す斜視図であ
る。
る。
１ Ｘ線集光装置 ２ａ 第１平板モノクロメータ ２ｂ 第２平板モノクロメータ １０ 微小領域Ｘ線回折装置 １１，１３，１５ ホルダ １２，１４，１６ パルスモータ １７ ＰＳＰＣ １８ 開口 １９ Ｘ線管 Ｆ Ｘ線源 Ｌ 試料軸線 Ｒ Ｘ線 Ｓ 試料 Ｗ モザイク角度幅 Ｏ Ｘ線集光点
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｘ線源から放射されたＸ線を集光するＸ
線集光装置において、 Ｘ線源から放射されて進行するＸ線の進行経路上に配設
されていて平板形状の第１平板モノクロメータと、 Ｘ線進行経路に関してその第１平板モノクロメータの下
流位置に配設されていて平板形状の第２平板モノクロメ
ータとを有し、 前記第１平板モノクロメータと前記第２平板モノクロメ
ータとは互いに交わる位置関係で配置され、さらに前記
第１平板モノクロメータ及び第２平板モノクロメータ
は、モザイク角度幅の広い結晶によって形成されること
を特徴とするＸ線集光装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線集光装置において、
モザイク角度幅は０．３°〜１°の範囲にあることを特
徴とするＸ線集光装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線集光装
置において、前記第１平板モノクロメータ及び第２平板
モノクロメータは、パイロリテックグラファイトによっ
て形成されることを特徴とするＸ線集光装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線集光装置において、前記第
１平板モノクロメータ及び前記第２平板モノクロメータ
は、Ｘ線入射面が凹面となるように湾曲することを特徴
とするＸ線集光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30978797A JP3923151B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | Ｘ線集光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30978797A JP3923151B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | Ｘ線集光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11133191A true JPH11133191A (ja) | 1999-05-21 |
| JP3923151B2 JP3923151B2 (ja) | 2007-05-30 |
Family
ID=17997245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30978797A Expired - Fee Related JP3923151B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | Ｘ線集光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3923151B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
| JP2009503546A (ja) * | 2005-08-01 | 2009-01-29 | ザ リサーチ ファウンデーション オブ ステート ユニバーシティ オブ ニューヨーク | 点焦点湾曲モノクロメータ光学体を使用するｘ線結像系 |
| JP2013210377A (ja) * | 2003-06-13 | 2013-10-10 | Osmic Inc | ビーム調整システム |
| US8767918B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-07-01 | Rigaku Corporation | X-ray scattering measurement device and X-ray scattering measurement method |
-
1997
- 1997-10-24 JP JP30978797A patent/JP3923151B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
| JP4514982B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2010-07-28 | 株式会社リガク | 小角散乱測定装置 |
| JP2013210377A (ja) * | 2003-06-13 | 2013-10-10 | Osmic Inc | ビーム調整システム |
| JP2009503546A (ja) * | 2005-08-01 | 2009-01-29 | ザ リサーチ ファウンデーション オブ ステート ユニバーシティ オブ ニューヨーク | 点焦点湾曲モノクロメータ光学体を使用するｘ線結像系 |
| US8767918B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-07-01 | Rigaku Corporation | X-ray scattering measurement device and X-ray scattering measurement method |
| DE112010001832B4 (de) * | 2009-04-30 | 2015-06-25 | Rigaku Corp. | Röntgenstreuungsmessverfahren |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3923151B2 (ja) | 2007-05-30 |
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