JPH05215898A - Ｘ線コリメータ - Google Patents
Ｘ線コリメータInfo
- Publication number
- JPH05215898A JPH05215898A JP4017429A JP1742992A JPH05215898A JP H05215898 A JPH05215898 A JP H05215898A JP 4017429 A JP4017429 A JP 4017429A JP 1742992 A JP1742992 A JP 1742992A JP H05215898 A JPH05215898 A JP H05215898A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- collimator
- pinhole
- bases
- drive
- Prior art date
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- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】各々独立して操作できる２個以上の駆動台上
に、ピンホール(又はスリット)を備えたことにより、光
軸合わせを容易にするＸ線コリメータを提供する。 【構成】図１のように入射Ｘ線の光路上に２個以上のコ
リメータ台５，６、Ｘ線検出器１６を設置する。ピンホ
ール(又はスリット)はコリメータ台上の駆動台３，４に
固定する。ピンホール(又はスリット)を通過したＸ線強
度をＸ線検出器１６により測定する。測定したＸ線強度
が最大となるように駆動台をＸ線光軸と垂直な面内で平
行移動させピンホールの位置を調整することによって光
軸を容易に合わせることができる。
に、ピンホール(又はスリット)を備えたことにより、光
軸合わせを容易にするＸ線コリメータを提供する。 【構成】図１のように入射Ｘ線の光路上に２個以上のコ
リメータ台５，６、Ｘ線検出器１６を設置する。ピンホ
ール(又はスリット)はコリメータ台上の駆動台３，４に
固定する。ピンホール(又はスリット)を通過したＸ線強
度をＸ線検出器１６により測定する。測定したＸ線強度
が最大となるように駆動台をＸ線光軸と垂直な面内で平
行移動させピンホールの位置を調整することによって光
軸を容易に合わせることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は微小部Ｘ線回折装置，Ｘ
線顕微鏡，蛍光Ｘ線分析装置等において、試料上のＸ線
照射領域を制限するＸ線コリメータに関する。
線顕微鏡，蛍光Ｘ線分析装置等において、試料上のＸ線
照射領域を制限するＸ線コリメータに関する。
【０００２】
【従来の技術】微小部Ｘ線回折等の装置において、試料
上のＸ線照射領域を制限する目的の為に、Ｘ線光路上に
Ｘ線コリメータを設ける。図２において、光源１１から
出射されたＸ線１２をスリット１３（又はピンホール）
で制限する。しかし、光源が有限の大きさを持つこと
と、スリットと試料間の有限の距離により試料上のＸ線
照射幅はスリットの幅よりも広がる。そこで図３のよう
に円筒形コリメータ１４によりＸ線照射領域を制限する
手法が用いられている。
上のＸ線照射領域を制限する目的の為に、Ｘ線光路上に
Ｘ線コリメータを設ける。図２において、光源１１から
出射されたＸ線１２をスリット１３（又はピンホール）
で制限する。しかし、光源が有限の大きさを持つこと
と、スリットと試料間の有限の距離により試料上のＸ線
照射幅はスリットの幅よりも広がる。そこで図３のよう
に円筒形コリメータ１４によりＸ線照射領域を制限する
手法が用いられている。
【０００３】Ｘ線光軸と円筒形コリメータの中心軸を一
致させるとき、最初から径の小さい円筒形コリメータの
中心軸を合わせるのは難しい。そこで用いる円筒形コリ
メータよりも径が大きく、しかも各中心位置が一致した
円筒形コリメータを多数準備し、径の大きい順に以下の
ように調整する。まず最初に径の大きい円筒形コリメー
タを選びＸ線光路上に入れる。円筒形コリメータを通過
したＸ線強度をＸ線検出器により測定する。測定したＸ
線強度が最大となるように円筒形コリメータを平行移
動、あるいはあおりを調整して中心軸を合わせる。次に
径の小さい円筒形コリメータと差し替えて同様に調整す
る。これを順次繰り返し、所望の径の円筒形コリメータ
を調整した後、実際に用いる。
致させるとき、最初から径の小さい円筒形コリメータの
中心軸を合わせるのは難しい。そこで用いる円筒形コリ
メータよりも径が大きく、しかも各中心位置が一致した
円筒形コリメータを多数準備し、径の大きい順に以下の
ように調整する。まず最初に径の大きい円筒形コリメー
タを選びＸ線光路上に入れる。円筒形コリメータを通過
したＸ線強度をＸ線検出器により測定する。測定したＸ
線強度が最大となるように円筒形コリメータを平行移
動、あるいはあおりを調整して中心軸を合わせる。次に
径の小さい円筒形コリメータと差し替えて同様に調整す
る。これを順次繰り返し、所望の径の円筒形コリメータ
を調整した後、実際に用いる。
【０００４】コリメータの差し替えについては、特開昭
60−256036号等、コリメータとＸ線との光軸合わせにつ
いては、特開平2−300699号等がある。
60−256036号等、コリメータとＸ線との光軸合わせにつ
いては、特開平2−300699号等がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した技術において
問題となるのは、径の異なるピンホールを設けた多数の
円筒形コリメータの各中心位置が精度良く合わないとい
うことである。又、円筒形コリメータを差し替える際
に、コリメータを取り付ける台がずれる危険性があると
いう問題がある。又、試料上でのＸ線強度の向上を目的
に、Ｘ線光路上に集光光学系を用いた場合、集光ビ−ム
径は微小になるため、更に円筒形コリメータにより集光
ビ−ムを制限する際、径の小さいコリメータの中心軸を
Ｘ線光軸と一致させることは非常に難しい。又、光源と
してＳＲ(Synchrotron Radiation）光を用いる場合に
は、通常のＸ線管を光源とするよりも指向性が強いため
に、円筒形コリメータの中心軸とＸ線光軸とをより精度
良く一致させなければならない。本発明の目的は、コリ
メータとＸ線との光軸あわせが容易となるＸ線コリメー
タを提供することにある。
問題となるのは、径の異なるピンホールを設けた多数の
円筒形コリメータの各中心位置が精度良く合わないとい
うことである。又、円筒形コリメータを差し替える際
に、コリメータを取り付ける台がずれる危険性があると
いう問題がある。又、試料上でのＸ線強度の向上を目的
に、Ｘ線光路上に集光光学系を用いた場合、集光ビ−ム
径は微小になるため、更に円筒形コリメータにより集光
ビ−ムを制限する際、径の小さいコリメータの中心軸を
Ｘ線光軸と一致させることは非常に難しい。又、光源と
してＳＲ(Synchrotron Radiation）光を用いる場合に
は、通常のＸ線管を光源とするよりも指向性が強いため
に、円筒形コリメータの中心軸とＸ線光軸とをより精度
良く一致させなければならない。本発明の目的は、コリ
メータとＸ線との光軸あわせが容易となるＸ線コリメー
タを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＸ線コリメータ
は、各々独立して操作できる２個以上の駆動台上にピン
ホール（又はスリット）を備えたことにより、上記目的
は達成される。又、前記駆動台をステッピングモータに
より駆動制御させることにより精度の高い微調整も可能
となる。
は、各々独立して操作できる２個以上の駆動台上にピン
ホール（又はスリット）を備えたことにより、上記目的
は達成される。又、前記駆動台をステッピングモータに
より駆動制御させることにより精度の高い微調整も可能
となる。
【０００７】
【作用】図１を用いて２個の駆動台上にピンホール（又
はスリット）を備えたときの作用について説明する。光
源１１からの入射Ｘ線１２の光路上にＸ線検出器１６を
設置する。駆動台３，４上に固定されたピンホール（又
はスリット）１，２は、駆動台３，４によりｙ，ｚ方向
に移動する。又駆動台３，４はコリメータ台５，６に取
り付けてある。ピンホール（又はスリット）１，２を通
過したＸ線強度をＸ線検出器１６により測定する。駆動
台３上に固定した第１のピンホール１にＸ線１２を通過
させる。ピンホール１をｙ，ｚ方向に移動させ、測定し
たＸ線強度が最大となるように調整する。次に、第２の
ピンホール２を駆動台４に固定しＸ線１２を通過させ
る。ピンホール２をｙ，ｚ方向に移動させ、測定したＸ
線強度が最大となるように調整する。このような動作に
よりＸ線コリメータとＸ線との光軸合わせが容易とな
る。
はスリット）を備えたときの作用について説明する。光
源１１からの入射Ｘ線１２の光路上にＸ線検出器１６を
設置する。駆動台３，４上に固定されたピンホール（又
はスリット）１，２は、駆動台３，４によりｙ，ｚ方向
に移動する。又駆動台３，４はコリメータ台５，６に取
り付けてある。ピンホール（又はスリット）１，２を通
過したＸ線強度をＸ線検出器１６により測定する。駆動
台３上に固定した第１のピンホール１にＸ線１２を通過
させる。ピンホール１をｙ，ｚ方向に移動させ、測定し
たＸ線強度が最大となるように調整する。次に、第２の
ピンホール２を駆動台４に固定しＸ線１２を通過させ
る。ピンホール２をｙ，ｚ方向に移動させ、測定したＸ
線強度が最大となるように調整する。このような動作に
よりＸ線コリメータとＸ線との光軸合わせが容易とな
る。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例の１つとして、光源にＸ線管
を用いて蛍光Ｘ線分析を行う場合の実験配置を図４に示
す。光源１１からの入射Ｘ線１２はピンホール１，２を
通過し、試料１５に入射する。試料１５からの蛍光Ｘ線
を半導体検出器１９により測定し、試料上のＸ線強度は
Ｘ線検出器１６により測定する。試料上の特定部位での
蛍光Ｘ線分析のために、ピンホールを２枚用いてＸ線照
射領域を制限する。駆動台３，４上に固定されたピンホ
ール１，２は、駆動台３，４によりｙ，ｚ方向に移動す
る。また駆動台３，４はコリメータ台５，６に取り付け
てある。ピンホール１，２を通過したＸ線強度をＸ線検
出器により測定する。駆動台３上に固定した第１のピン
ホール１にＸ線１２を通過させる。ピンホール１をｙ，
ｚ方向に移動させ測定したＸ線強度が最大となるように
調整する。次に第２のピンホール２を駆動台４に固定
し、Ｘ線１２を通過させる。ピンホール２をｙ，ｚ方向
に移動させ測定したＸ線強度が最大となるように調整し
た後、試料の蛍光Ｘ線分析を行う。これにより円筒形コ
リメータの中心軸とＸ線光軸を一致させるよりも容易に
光軸を合わせることができる。
を用いて蛍光Ｘ線分析を行う場合の実験配置を図４に示
す。光源１１からの入射Ｘ線１２はピンホール１，２を
通過し、試料１５に入射する。試料１５からの蛍光Ｘ線
を半導体検出器１９により測定し、試料上のＸ線強度は
Ｘ線検出器１６により測定する。試料上の特定部位での
蛍光Ｘ線分析のために、ピンホールを２枚用いてＸ線照
射領域を制限する。駆動台３，４上に固定されたピンホ
ール１，２は、駆動台３，４によりｙ，ｚ方向に移動す
る。また駆動台３，４はコリメータ台５，６に取り付け
てある。ピンホール１，２を通過したＸ線強度をＸ線検
出器により測定する。駆動台３上に固定した第１のピン
ホール１にＸ線１２を通過させる。ピンホール１をｙ，
ｚ方向に移動させ測定したＸ線強度が最大となるように
調整する。次に第２のピンホール２を駆動台４に固定
し、Ｘ線１２を通過させる。ピンホール２をｙ，ｚ方向
に移動させ測定したＸ線強度が最大となるように調整し
た後、試料の蛍光Ｘ線分析を行う。これにより円筒形コ
リメータの中心軸とＸ線光軸を一致させるよりも容易に
光軸を合わせることができる。
【０００９】次に試料上でのＸ線強度の向上を目的に、
Ｘ線光路上に集光光学系を備えたＸ線回折測定の実験配
置を図５に示す。Ｘ線光路上に集光光学系１８を設置
し、集光光学系１８から反射されたＸ線１２の光路上に
Ｘ線検出器１６を設置する。集光ビ−ム径を更に小さく
すると共に、集光光学系からの散乱Ｘ線を除去する目的
で集光光学系と試料との間にピンホールを挿入する。駆
動台３，４上に固定されたピンホール１，２は駆動台
３，４によりｙ，ｚ方向に移動する。また駆動台３，４
はコリメータ台５，６に取り付けてあり、ステッピング
モータにより制御する。ピンホール１，２を通過したＸ
線強度をＸ線検出器１６により測定する。ピンホールと
して図６で示すようなピンホール板２６を用いる。ピン
ホールの径の大きい順に２１，２２，２３，２４，２５
とする。ピンホール２１，２２，２４の中心位置はｙ軸
上に、ピンホール２１，２３，２５の中心位置はｚ軸上
に精度良くあけておく。又、各ピンホールの中心位置間
隔はあらかじめ決めておく。ピンホール板２６をＸ線光
路に挿入した時、集光ビ−ム径は一般にはピンホールを
通過しない。そこで、駆動台３によりピンホール板２６
をｙ，ｚ方向に移動させると、より高い確立で容易に径
の大きなピンホール２１を通過させることができる。こ
の後ピンホール板２６をｙ，ｚ方向に移動させ、ピンホ
ール２１を通過したＸ線強度が最大となるように調整
し、Ｘ線光軸に対するピンホール２１の中心位置を決め
る。決定した中心位置には決定誤差が存在するため、径
の大きい順にピンホールを順次置き換えて徐々に精度の
高い中心位置を決めていく。即ち、ピンホール板２６を
ｙ方向に所定量平行移動させ、ピンホール２１の中心位
置とピンホール２２の中心位置とを置き換え、同様にし
て通過したＸ線強度が最大となるように調整する。この
時決定したピンホール２２の中心位置はピンホール２１
の中心位置よりも精度良くなっている。ピンホール２
３，２４，２５と続けて調整し、ピンホール２５の中心
位置を決めて第１のピンホールの調整を終える。次に、
第２のピンホールについても同様に調整を行う。第１，
第２のピンホールの調整後、Ｘ線回折を測定する。これ
により、円筒形コリメータの使用に生じたコリメータの
差し替えによる中心位置のずれもなくなり、容易に光軸
を合わせることができる。
Ｘ線光路上に集光光学系を備えたＸ線回折測定の実験配
置を図５に示す。Ｘ線光路上に集光光学系１８を設置
し、集光光学系１８から反射されたＸ線１２の光路上に
Ｘ線検出器１６を設置する。集光ビ−ム径を更に小さく
すると共に、集光光学系からの散乱Ｘ線を除去する目的
で集光光学系と試料との間にピンホールを挿入する。駆
動台３，４上に固定されたピンホール１，２は駆動台
３，４によりｙ，ｚ方向に移動する。また駆動台３，４
はコリメータ台５，６に取り付けてあり、ステッピング
モータにより制御する。ピンホール１，２を通過したＸ
線強度をＸ線検出器１６により測定する。ピンホールと
して図６で示すようなピンホール板２６を用いる。ピン
ホールの径の大きい順に２１，２２，２３，２４，２５
とする。ピンホール２１，２２，２４の中心位置はｙ軸
上に、ピンホール２１，２３，２５の中心位置はｚ軸上
に精度良くあけておく。又、各ピンホールの中心位置間
隔はあらかじめ決めておく。ピンホール板２６をＸ線光
路に挿入した時、集光ビ−ム径は一般にはピンホールを
通過しない。そこで、駆動台３によりピンホール板２６
をｙ，ｚ方向に移動させると、より高い確立で容易に径
の大きなピンホール２１を通過させることができる。こ
の後ピンホール板２６をｙ，ｚ方向に移動させ、ピンホ
ール２１を通過したＸ線強度が最大となるように調整
し、Ｘ線光軸に対するピンホール２１の中心位置を決め
る。決定した中心位置には決定誤差が存在するため、径
の大きい順にピンホールを順次置き換えて徐々に精度の
高い中心位置を決めていく。即ち、ピンホール板２６を
ｙ方向に所定量平行移動させ、ピンホール２１の中心位
置とピンホール２２の中心位置とを置き換え、同様にし
て通過したＸ線強度が最大となるように調整する。この
時決定したピンホール２２の中心位置はピンホール２１
の中心位置よりも精度良くなっている。ピンホール２
３，２４，２５と続けて調整し、ピンホール２５の中心
位置を決めて第１のピンホールの調整を終える。次に、
第２のピンホールについても同様に調整を行う。第１，
第２のピンホールの調整後、Ｘ線回折を測定する。これ
により、円筒形コリメータの使用に生じたコリメータの
差し替えによる中心位置のずれもなくなり、容易に光軸
を合わせることができる。
【００１０】次にＳＲ光を光源とし集光光学系を備えた
Ｘ線回折測定を行う場合、ＳＲ光の指向性が強いのでＸ
線管を光源としたときよりもより精度良くＸ線コリメー
タの中心軸とＸ線光軸を一致させなければならない。実
験配置図を図５に示す。集光ビ−ム径を更に小さくする
と共に、集光光学系による散乱Ｘ線を除去するために図
７，図８のような２枚のスリット３１，３２を用いる。
ピンホールと異なりスリットを用いると１方向だけ移動
させて調整すれば良いので調整手順が簡素化できる。ス
リット３１，３２を駆動台３，４上に固定する。駆動台
３はｙ方向，駆動台４はｚ方向に移動する。また駆動台
３，４はコリメータ台５，６にとりつけてあり、ステッ
ピングモータにより制御する。スリット３１，３２を通
過したＸ線強度をＸ線検出器により測定する。第１のス
リット３１を駆動台３に固定しＸ線を通過させる。スリ
ット３１をｙ方向に移動させ、測定したＸ線強度が最大
となるように調整する。次に、第２のスリット３２を駆
動台４に固定しＸ線１２を通過させる。スリット３２を
ｚ方向に移動させ、測定したＸ線強度が最大となるよう
に調整後、Ｘ線回折を測定する。２枚のスリットを用い
ることにより容易にコリメータとＸ線との光軸を合わせ
ることができる。本実施例においては駆動台をステッピ
ングモータにより駆動制御できるので精度の高い微調整
が可能となる。
Ｘ線回折測定を行う場合、ＳＲ光の指向性が強いのでＸ
線管を光源としたときよりもより精度良くＸ線コリメー
タの中心軸とＸ線光軸を一致させなければならない。実
験配置図を図５に示す。集光ビ−ム径を更に小さくする
と共に、集光光学系による散乱Ｘ線を除去するために図
７，図８のような２枚のスリット３１，３２を用いる。
ピンホールと異なりスリットを用いると１方向だけ移動
させて調整すれば良いので調整手順が簡素化できる。ス
リット３１，３２を駆動台３，４上に固定する。駆動台
３はｙ方向，駆動台４はｚ方向に移動する。また駆動台
３，４はコリメータ台５，６にとりつけてあり、ステッ
ピングモータにより制御する。スリット３１，３２を通
過したＸ線強度をＸ線検出器により測定する。第１のス
リット３１を駆動台３に固定しＸ線を通過させる。スリ
ット３１をｙ方向に移動させ、測定したＸ線強度が最大
となるように調整する。次に、第２のスリット３２を駆
動台４に固定しＸ線１２を通過させる。スリット３２を
ｚ方向に移動させ、測定したＸ線強度が最大となるよう
に調整後、Ｘ線回折を測定する。２枚のスリットを用い
ることにより容易にコリメータとＸ線との光軸を合わせ
ることができる。本実施例においては駆動台をステッピ
ングモータにより駆動制御できるので精度の高い微調整
が可能となる。
【００１１】
【発明の効果】本発明のＸ線コリメータは、２枚のピン
ホール（又はスリット）を各々独立して駆動させる機構
を備えることにより、円筒形コリメータの使用に生じた
コリメータの差し替えによる中心位置のずれの問題もな
く、円筒形コリメータの中心軸とＸ線光軸を一致させる
よりも容易に光軸合わせができるという効果がある。
又、駆動台をパルスモータで駆動制御することにより精
度の高い微調整が可能となるという効果がある。
ホール（又はスリット）を各々独立して駆動させる機構
を備えることにより、円筒形コリメータの使用に生じた
コリメータの差し替えによる中心位置のずれの問題もな
く、円筒形コリメータの中心軸とＸ線光軸を一致させる
よりも容易に光軸合わせができるという効果がある。
又、駆動台をパルスモータで駆動制御することにより精
度の高い微調整が可能となるという効果がある。
【図１】２個の駆動台上のピンホール（又はスリット）
をＸ線が通過する様子を示す図である。
をＸ線が通過する様子を示す図である。
【図２】Ｘ線照射領域を１枚のスリットで制限した様子
を示す図である。
を示す図である。
【図３】Ｘ線照射領域を円筒形コリメータで制限した様
子を示す図である。
子を示す図である。
【図４】蛍光Ｘ線分析装置に本コリメータを備えた実施
例を示す図である。
例を示す図である。
【図５】集光光学系を用いたＸ線回折装置に本コリメー
タを備えた実施例を示す図である。
タを備えた実施例を示す図である。
【図６】ピンホールの例を示す図である。
【図７】スリットの例を示す図である。
【図８】スリットの例を示す図である。
１，２…ピンホール、３，４…駆動台、５，６…コリメ
ータ台、１１…光源、１２…Ｘ線、１３…スリット、１
４…円筒形コリメータ、１５…試料、１６…Ｘ線検出
器、１７…試料台、１８…集光光学系、１９…半導体検
出器、２１，２２，２３，２４，２５…ピンホール、２
６…ピンホール板、３１，３２…スリット。
ータ台、１１…光源、１２…Ｘ線、１３…スリット、１
４…円筒形コリメータ、１５…試料、１６…Ｘ線検出
器、１７…試料台、１８…集光光学系、１９…半導体検
出器、２１，２２，２３，２４，２５…ピンホール、２
６…ピンホール板、３１，３２…スリット。
Claims (2)
- 【請求項１】試料上のＸ線照射領域を制限するＸ線コリ
メータにおいて、各々独立して操作することのできる２
個以上の駆動台上にピンホール（又はスリット）を備え
たことを特徴とするＸ線コリメータ。 - 【請求項２】請求項１において、駆動台をパルスモータ
で駆動制御し、前記駆動台上のピンホール板の微調整を
可能とする構成を備えたことを特徴とするＸ線コリメー
タ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4017429A JPH05215898A (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | Ｘ線コリメータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4017429A JPH05215898A (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | Ｘ線コリメータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215898A true JPH05215898A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=11943778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4017429A Pending JPH05215898A (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | Ｘ線コリメータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05215898A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19954661A1 (de) * | 1999-11-13 | 2001-05-31 | Heimann Systems Gmbh & Co | Vorrichtung und Verfahren zur Justage eines Kollimators |
| US6483894B2 (en) | 1999-11-13 | 2002-11-19 | Heimann Systems Gmbh | Apparatus and method for adjusting a collimator |
| JP2006071651A (ja) * | 1999-12-17 | 2006-03-16 | Osmic Inc | 高線束低バックグラウンド２次元小角ｘ線散乱用光学系 |
| KR100659736B1 (ko) * | 2006-08-23 | 2006-12-20 | 김은주 | 갠트리크레인용 직선레일의 측량방법 |
| NL1031800C2 (nl) * | 2006-05-11 | 2007-11-13 | Milabs B V | Detectieinrichting. |
| JP2010230481A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | 試料分析装置及び試料分析方法 |
| JP2014085267A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
| JP2014109579A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Anton Paar Gmbh | 中性子またはｘ線ビーム源から放射されるビームによって試料を検査する方法および装置 |
| CN107315022A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 中国地质大学（武汉） | 一种x射线准直定位调节装置及系统 |
-
1992
- 1992-02-03 JP JP4017429A patent/JPH05215898A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19954661A1 (de) * | 1999-11-13 | 2001-05-31 | Heimann Systems Gmbh & Co | Vorrichtung und Verfahren zur Justage eines Kollimators |
| GB2359717A (en) * | 1999-11-13 | 2001-08-29 | Heimann Systems Gmbh & Co | Collimator adjustment apparatus |
| DE19954661C2 (de) * | 1999-11-13 | 2001-12-06 | Heimann Systems Gmbh & Co | Vorrichtung und Verfahren zur Justage eines Kollimators |
| US6483894B2 (en) | 1999-11-13 | 2002-11-19 | Heimann Systems Gmbh | Apparatus and method for adjusting a collimator |
| GB2359717B (en) * | 1999-11-13 | 2003-10-08 | Heimann Systems Gmbh & Co | Apparatus and method for adjusting a collimator |
| JP2006071651A (ja) * | 1999-12-17 | 2006-03-16 | Osmic Inc | 高線束低バックグラウンド２次元小角ｘ線散乱用光学系 |
| WO2007133068A3 (en) * | 2006-05-11 | 2008-01-24 | Milabs Bv | A radiation detection device comprising two split plates |
| NL1031800C2 (nl) * | 2006-05-11 | 2007-11-13 | Milabs B V | Detectieinrichting. |
| WO2007133068A2 (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Milabs B.V. | A radiation detection device comprising two split plates |
| KR100659736B1 (ko) * | 2006-08-23 | 2006-12-20 | 김은주 | 갠트리크레인용 직선레일의 측량방법 |
| JP2010230481A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | 試料分析装置及び試料分析方法 |
| JP2014085267A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
| JP2014109579A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Anton Paar Gmbh | 中性子またはｘ線ビーム源から放射されるビームによって試料を検査する方法および装置 |
| CN107315022A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 中国地质大学（武汉） | 一种x射线准直定位调节装置及系统 |
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