JP4772770B2 - デブリ低減システム及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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- デブリを生成する放射源から出た汚染材料をトラップするためのデブリ低減システムであって、
軸を中心に回転するように構成され、放射の伝搬方向と平行な面にそれぞれ位置付けられた複数のフォイルプレートを備えるコンタミバリア、及び
前記放射源からの荷電デブリを偏向させるための磁場を提供するように構成された磁石構造であって、前記コンタミバリアを通して磁場を提供するように構成されており、前記磁場が、前記コンタミバリアを通過する際に、前記コンタミバリアの回転軸とほぼ一致する面に沿って配向される、磁石構造、
を備え、
前記磁石構造は、
前記放射に通路を提供し得る中空構造の外側磁石構造と、
前記中空構造の内部において前記コンタミバリアの前記回転軸に設けられ、前記外側磁石構造の磁極とは逆の磁極を有する中央磁石構造と、
を有し、
前記外側磁石構造は、
前記コンタミバリアを囲む静止リングと、
前記静止リングに取り付けられ、前記コンタミバリアの回転軸に対して半径方向に位置合わせされた磁軸を有する複数の線形磁石と、
を備えるデブリ低減システム。 - 前記中央磁石構造は、前記コンタミバリアの回転軸から半径方向に広がる磁軸を有する複数の線形磁石を備える
請求項1に記載のデブリ低減システム。 - 前記磁石構造を冷却するための冷却装置をさらに有する、
請求項1又は2に記載のデブリ低減システム。 - 前記中央磁石構造は、前記コンタミバリアに対して静止している、
請求項1〜3のいずれかに記載のデブリ低減システム。 - 前記中央磁石構造が前記コンタミバリアと共に回転する、
請求項1〜3のいずれかに記載のデブリ低減システム。 - 前記フォイルプレートが前記磁場と平行に配向されている、
請求項1〜5のいずれかに記載のデブリ低減システム。 - コレクタエレメントをさらに備える、
請求項1〜6のいずれかに記載のデブリ低減システム。 - 前記コレクタエレメントは、前記コンタミバリアの回転軸に対して対称的な円筒状のものであり、かつ、同心円状で湾曲した反射表面を備える、
請求項7に記載のデブリ低減システム。 - 放射ビームにパターンを付与するように構成されたパターニングデバイス、
前記パターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システム、及び
デブリを生成する放射源によって生成された汚染材料をトラップするように構成されたデブリ低減システム、
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記デブリ低減システムは、
軸を中心に回転するように構成され、放射の伝搬方向と平行な面にそれぞれ位置付けられた複数のフォイルプレートを備えるコンタミバリア、及び
前記放射源からの荷電デブリを偏向させるための磁場を提供するように構成された磁石構造であって、前記コンタミバリアを通して磁場を設けるように構成されており、前記磁場が、前記コンタミバリアを通過する際に、前記コンタミバリアの回転軸とほぼ一致する面に沿って配向される、磁石構造、
を備え、
前記磁石構造は、
前記放射に通路を提供し得る中空構造の外側磁石構造と、
前記中空構造の内部において前記コンタミバリアの前記回転軸に設けられ、前記外側磁石構造の磁極とは逆の磁極を有する中央磁石構造と、
を有し、
前記外側磁石構造は、
前記コンタミバリアを囲む静止リングと、
前記静止リングに取り付けられ、前記コンタミバリアの回転軸に対して半径方向に位置合わせされた磁軸を有する複数の線形磁石と、
を備えるリソグラフィ装置。
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