JPH03273200A - 端部放出型x線顕微鏡 - Google Patents

端部放出型x線顕微鏡

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JPH03273200A
JPH03273200A JP2072195A JP7219590A JPH03273200A JP H03273200 A JPH03273200 A JP H03273200A JP 2072195 A JP2072195 A JP 2072195A JP 7219590 A JP7219590 A JP 7219590A JP H03273200 A JPH03273200 A JP H03273200A
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JP
Japan
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target
electron beam
ray
end part
secondary electron
Prior art date
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Pending
Application number
JP2072195A
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English (en)
Inventor
Susumu Ono
進 小野
Masanao Hotta
昌直 堀田
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Elionix Kk
Original Assignee
Elionix Kk
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は走査電子顕微鏡などの電子線走査装置を用い
る端部放出型X線顕微鏡に関するものである。
[従来の技術] 第2図は本願と同1コ出願された本願出願人と同一出願
人の特許出願〈以下、同日出願という)「微小X線発生
装置」の概要を示す断面図で、図に13いて(2)は電
子線、(5)は薄膜ターゲット、〈5a〉は保持基板、
(8)は観察試料、(11〉は透過X線、(12)はX
線フィルム、(20)は電子線の拡散領域、<21)は
透過電子を示す。
この同日出願の要旨は薄膜ターゲットを用いた、いわゆ
る薄膜型のx ii発生装置を投影X@顕微鏡などに用
いる場合の問題点となる、薄膜ターゲットを透過して試
料に到達する電子線やターゲットで発生ずる熱により、
試料がダメージを受けないように、薄膜ターゲット〈5
〉の端部に電子線(2)を照射し、この端部側面から発
生するX線をX線源に用いることとした発明である。
[発明が解決しようとする課題] 上述のように同日出願にかかる発明では、Hflターゲ
ットの端部を捜し出し、そこに1確に電子線を照射する
必要がある。また長時間の使用により端部がダメージを
受けてしまった場合には、新しい端部を捜し出し、電子
線の照射位置を新しい端部に正確に持っていく必要があ
るが、このような動作を機械的に行わせる装置を精成す
ることは、扱歯的に大変難しいという問題点があった。
この発明はかかる課題を解決するためになされたもので
、いつでも容易に薄膜ターゲットの端部に電子線を照射
することができる端部放出型X線顕微鏡を得ることを目
的としている。
[課題を解決するための手段] この発明にかかる端部放出型X線顕微鏡は、電子線走査
装置を用い、薄膜ターゲットを二次電子像で観察しなが
らその端部を捜し出すこととしたものである。
[作用] この発明においては、電子線走査装置を用い、薄膜ター
ゲラ1〜を二次電子像で観察しながら端部を捜し出すこ
ととしたので、適当な倍率に拡大した薄膜ターゲットの
二次電子像を目で観察しながらターゲット駆動機構を操
作して端部を捜し出すことができ、この場合二次電子像
のスポット位置がX線発生源となるので、操作性を著し
く向上させることが可能となる。
E実施例] 以下、この発明の一実施例を図面を用いて説明する。第
1図はこの発明の一実施例を示す断面図で、第2図と同
一符号は同−又は相当部分を示し、図において(1)は
電子銃、(3)は電子レンズ、(4〉は偏向器、(6)
はターゲット駆動8!楕、(7)はアパーチャ、(9)
は試料駆動機構、(10)はターゲラ1〜(5)から発
生した二次電子、(11)はターゲット〈5〉の端部側
面から発生しアパーチャ(7)を介して試料り8)を透
過した透過X線、(12)はXIIAフィルム、(13
〉はX線フィルム(12)のフィルム交換機構、(14
)は二次電子検出器、 (15)はX線シャッタ、(1
6)は排気装置を示す。
この実施例にかかる端部放出型X線顕微鏡は、第1図に
示すように走査電子顕微鏡に代表される電子線走査装置
を用い、電子線走査装置における観察試料を置く部分に
薄膜ターゲット(5)を配置し、この薄膜ターゲット(
5)の端部に垂直な方向から電子線(2)を照射し、こ
の薄膜ターゲラ)−(5)の端部側面から発生するX線
をX線源としている。
従って既存の電子線走査装置に、アパーチャ〈7〉観察
試料(8)を配置してそれを駆動する試料駆動機tM(
9) 、 X線フィルム〈12〉およびフィルJい交換
機構(13〉などを設けることで構成することができ、
従って既存の電子線走査装置へ容易に組み込むことがで
き、或は既存の電子線走査装置のアタッチメントとして
精成することも可能となる。
次に動作について説明する。薄膜ターゲット(5)の上
を偏向器(4)を用いて電子線(2〉を走査し、発生し
た二次電子〈10)を二次電子検出器(14)で受け、
ターゲット(5)の表面の二次電子像を観察装置(図示
せず〉で観察する。この場合、所望の倍率に拡大して観
察を行うと良い、そしてターゲット駆動機構(6)を操
作し、薄膜ターゲット〈5)を移動させながら二次電子
像でターゲット(5)の端部を捜し出し、ここに電子線
(2)をスポットで照射する。この場合二次電子像の観
察スポットとX線発生源とは、ともに電子線(2〉の照
射位置となるので、いつでも容易に所望の端部にX線発
生源をもって行くことができる。
ターゲラ!−(5)の端部側面より発生したX線は、ア
パーチャ(7〉で制限され、観察試料(8〉に照射され
、試料(8)を透過した透過X線(11)がX線フィル
ム(12)へ露光する。X線フィルム(12)/\の露
先時間はX線シャッタ(15)により行う。
第3図はターゲット駆動機構〈6)を用いて薄膜ターゲ
ット(5)を傾斜させた例を示す断面図で、このように
薄膜ターゲット(5)を傾斜させることにより、保護基
板(5a)からのX線の発生を防止して更にX線源を微
小にすることができ、このような方法も二次電子像を観
察しながらターゲット駆動機構〈6)を操作することで
容易に実施できることになる。
第4図は、例えば極細線状の繊維などの観察を行う場合
に、比較的強度の強いライン状のX線源を得る方法を示
す斜視図で、図に示すようにアパーチャ(7〉をスリッ
ト状のものと交換し、偏向器(4)を用いて電子線(2
〉を薄膜ターゲット(5)の端部で同一線状に繰り返し
走査させることで容易に実施できることになる。
[発明の効果] この発明は以上説明したように、電子線走査装置を用い
、薄膜ターゲットを二次電子像で観察しながらその端部
を捜し出すこととしたので、いつでも容易に薄膜ターゲ
ットの端部に電子線を照射することができ、さらに薄膜
ターゲットを傾斜させて、より微小なX線源を得たり、
繊維などの観察を行う場合に比較的強度の強いライン状
X線源を得たりすることが容易にできるようになる。
また既存の電子線走査装置へ容易に組み込むことができ
、電子線走査装置のアタッチメントとして構成すること
もできる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図は同
日出願の構成を示す断面図、第3図は薄層ターゲットを
傾斜させた例を示す断面図、第4FA!よライン状のX
線源を得る方法を示す斜視図である。 図において(1)は電子銃、(2)は電子線、(3)は
電子レンズ、(4)は偏向器、(5)は薄膜ターゲット
、(6)はターゲット駆動機構、(7)はアパーチャ、
(8〉は観察試料、〈す〉は試料駆動!!1m、(lO
)は二次電子、〈11)は透過X線、(12)はX線フ
ィルム、(13)はフィルム交換機構、(14)は二次
電子検出器、(15)はX線シャッタ、(16)は排気
装置。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示すものと
する。 第1図 第2図 16 排気装置 2:電子線 5:薄膜ターゲット 20、電子線の拡散領域 21、透過電子 5a:護持基板 8:観察試料 11:透過X線 12・ X線フィルム

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 電子線走査装置の観察試料を配設する位置に、この試料
    に代えて配置されるX線発生用のターゲット、 上記電子線走査装置を用いて上記ターゲット上に電子線
    を走査し、該ターゲットの二次電子像を得る電子線走査
    手段、 上記手段により得られた上記ターゲットの二次電子像を
    観察しながら上記ターゲットの端部を探索し、この端部
    に電子線を照射する電子線照射手段、 上記手段により上記端部側面から放出されるX線をX線
    源とするX線源設定手段、 を備えた端部放出型X線顕微鏡。
JP2072195A 1990-03-23 1990-03-23 端部放出型x線顕微鏡 Pending JPH03273200A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011007766A (ja) * 2009-05-22 2011-01-13 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology X線顕微鏡用試料支持部材、試料収容セル、x線顕微鏡、およびx線顕微鏡像の観察方法
JP2016090486A (ja) * 2014-11-07 2016-05-23 浜松ホトニクス株式会社 X線像撮像用ユニット、電子顕微鏡及び試料像取得方法
CN109243947A (zh) * 2017-07-11 2019-01-18 Fei 公司 用于x射线生成的薄片状靶

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011007766A (ja) * 2009-05-22 2011-01-13 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology X線顕微鏡用試料支持部材、試料収容セル、x線顕微鏡、およびx線顕微鏡像の観察方法
JP2016090486A (ja) * 2014-11-07 2016-05-23 浜松ホトニクス株式会社 X線像撮像用ユニット、電子顕微鏡及び試料像取得方法
CN109243947A (zh) * 2017-07-11 2019-01-18 Fei 公司 用于x射线生成的薄片状靶
JP2019021625A (ja) * 2017-07-11 2019-02-07 エフ イー アイ カンパニFei Company X線生成のための薄片成形されたターゲット
CN109243947B (zh) * 2017-07-11 2023-05-02 Fei 公司 用于x射线生成的薄片状靶

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