JP2002150983A - マニピュレータ - Google Patents
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料を支持するための溝を有するピックアッ
プ用プローブを備えたマニピュレータを提供する。 【解決手段】 先端が曲面状のガラス製プローブを駆動
機構１９に取り付け、プローブと駆動機構１９から成る
マニピュレータを集束イオンビームの加工室１５に取り
付ける。駆動機構１９によりプローブ１８′をイオンビ
ーム光軸下に持って来る。集束イオンビームにより、プ
ローブ１８′の先端に近い部分に、プローブ中心軸Ｏに
垂直な面３０Ｍを有する溝３０を作る。この様なプロー
ブ２８を集束イオンビーム装置の加工室１５に取り付け
られたマニピュレータ１７のプローブし、マニピュレー
タ駆動機構１９を作動させて、ピックアップ用プローブ
２８の先端近くに作製した溝３０に観察試料２６を接触
させ、プローブ２８と観察試料２６との間の静電力によ
り、ピックアップ用プローブ１８の溝の内面３０Ｍに観
察試料２６をくっつける。
プ用プローブを備えたマニピュレータを提供する。 【解決手段】 先端が曲面状のガラス製プローブを駆動
機構１９に取り付け、プローブと駆動機構１９から成る
マニピュレータを集束イオンビームの加工室１５に取り
付ける。駆動機構１９によりプローブ１８′をイオンビ
ーム光軸下に持って来る。集束イオンビームにより、プ
ローブ１８′の先端に近い部分に、プローブ中心軸Ｏに
垂直な面３０Ｍを有する溝３０を作る。この様なプロー
ブ２８を集束イオンビーム装置の加工室１５に取り付け
られたマニピュレータ１７のプローブし、マニピュレー
タ駆動機構１９を作動させて、ピックアップ用プローブ
２８の先端近くに作製した溝３０に観察試料２６を接触
させ、プローブ２８と観察試料２６との間の静電力によ
り、ピックアップ用プローブ１８の溝の内面３０Ｍに観
察試料２６をくっつける。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、荷電粒子ビーム装置等
における試料支持用マニピュレータに関する。
における試料支持用マニピュレータに関する。
【０００２】
【従来の技術】透過型電子顕微鏡は、試料の拡大観察や
試料の構造分析等を行うのに使用される。図１は透過型
電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
試料の構造分析等を行うのに使用される。図１は透過型
電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
【０００３】図中１は電子光学系鏡筒で、その中に、電
子銃２、集束レンズ３、対物レンズ４、中間レンズ５、
投影レンズ６等が設けられている。７は観察室で、蛍光
板８等が設けられている。尚、９Ａは先端部分に試料を
保持した試料ホルダーの本体で、ホルダー駆動機構９Ｂ
によってＸ方向及びＹ方向への移動や、ホルダーの中心
軸に対する回転が出来、又、試料ホルダー自体を鏡体１
に取り付けたり、該鏡体から外したり出来るようになっ
ている。
子銃２、集束レンズ３、対物レンズ４、中間レンズ５、
投影レンズ６等が設けられている。７は観察室で、蛍光
板８等が設けられている。尚、９Ａは先端部分に試料を
保持した試料ホルダーの本体で、ホルダー駆動機構９Ｂ
によってＸ方向及びＹ方向への移動や、ホルダーの中心
軸に対する回転が出来、又、試料ホルダー自体を鏡体１
に取り付けたり、該鏡体から外したり出来るようになっ
ている。
【０００４】この様な透過型電子顕微鏡においては、電
子銃１からの電子ビームが集束レンズ３により集束され
て試料上に照射される。そして、該試料を透過した電子
ビームが対物レンズ４，中間レンズ５及び投影レンズ６
のレンズ作用を受けることにより、蛍光板８上に試料透
過部の拡大像或いは回折像が形成される。
子銃１からの電子ビームが集束レンズ３により集束され
て試料上に照射される。そして、該試料を透過した電子
ビームが対物レンズ４，中間レンズ５及び投影レンズ６
のレンズ作用を受けることにより、蛍光板８上に試料透
過部の拡大像或いは回折像が形成される。
【０００５】さて、試料の作成及び該試料の試料ホルダ
ーへの取り付けは、例えば、次の様に行われている。
ーへの取り付けは、例えば、次の様に行われている。
【０００６】図２は、顕微鏡観察用の薄膜試料を作製す
るための集束イオンビーム装置の概略を示したもので、
１０はイオン源、１１はコンデンサレンズ、１２はＸ方
向偏向器、１３はＹ方向偏向器、１４は対物レンズであ
る。又、１５は加工室、１６はＸ及びＹ方向に移動が可
能に、且つ、何れか一方の方向に傾斜可能に構成されて
いるステージである。１７はピックアップ用プローブ１
８と、該プローブをＸ，Ｙ及びＺ方向に駆動させるため
の駆動機構１９から成るマニピュレータである。２０は
ガスノズル２１を備えたガス源、２２は二次電子検出器
である。
るための集束イオンビーム装置の概略を示したもので、
１０はイオン源、１１はコンデンサレンズ、１２はＸ方
向偏向器、１３はＹ方向偏向器、１４は対物レンズであ
る。又、１５は加工室、１６はＸ及びＹ方向に移動が可
能に、且つ、何れか一方の方向に傾斜可能に構成されて
いるステージである。１７はピックアップ用プローブ１
８と、該プローブをＸ，Ｙ及びＺ方向に駆動させるため
の駆動機構１９から成るマニピュレータである。２０は
ガスノズル２１を備えたガス源、２２は二次電子検出器
である。
【０００７】尚、ピックアップ用プローブ１８は、例え
ば、図４に示す様なピックアップ用プローブ作製装置に
より作製している。即ち、ガラス管４０の中間部をヒー
タ４１を通して、上端部を支持体４２に取り付け、下端
部を、重力方向に移動可能に構成された荷重用支持体４
３に取り付ける（該取り付け時は、ネジ４４をねじ込ん
で荷重用支持体４３が移動しないようにしておく）。こ
の状態において、ネジ４４を緩めて、荷重用支持体４３
が重力方向に移動可能な状態にしておき、電源４５を作
動させてヒータ４１によりガラス管４０の中間部を加熱
する。該加熱と荷重用支持体４３の重力方向への移動に
より、該管の中央部が加熱され、細くなって下の方に伸
び、切れてしまう。
ば、図４に示す様なピックアップ用プローブ作製装置に
より作製している。即ち、ガラス管４０の中間部をヒー
タ４１を通して、上端部を支持体４２に取り付け、下端
部を、重力方向に移動可能に構成された荷重用支持体４
３に取り付ける（該取り付け時は、ネジ４４をねじ込ん
で荷重用支持体４３が移動しないようにしておく）。こ
の状態において、ネジ４４を緩めて、荷重用支持体４３
が重力方向に移動可能な状態にしておき、電源４５を作
動させてヒータ４１によりガラス管４０の中間部を加熱
する。該加熱と荷重用支持体４３の重力方向への移動に
より、該管の中央部が加熱され、細くなって下の方に伸
び、切れてしまう。
【０００８】図５はピックアップ用プローブが作製され
る様子を示したもので、図５の（ａ）はガラス管の中間
部が加熱と荷重によって細くなって伸びている様子を示
している。図５の（ｂ）は切れたガラス管の下部を示し
ており、その上端部が、別のヒーター（図示せず）によ
り加熱され、図５の（ｃ）に示す様に、細管部の先端が
丸くなる。この様にして成形されたガラス管をピックア
ップ用プローブとして使用する。
る様子を示したもので、図５の（ａ）はガラス管の中間
部が加熱と荷重によって細くなって伸びている様子を示
している。図５の（ｂ）は切れたガラス管の下部を示し
ており、その上端部が、別のヒーター（図示せず）によ
り加熱され、図５の（ｃ）に示す様に、細管部の先端が
丸くなる。この様にして成形されたガラス管をピックア
ップ用プローブとして使用する。
【０００９】先ず、ステージ１６上の中心部の所定の位
置に、例えば、図３の（ａ）に示す如き試料２３（以
後、原試料と称す）をセットする。そして、イオン源１
０からのイオンビームをコンデンサレンズ１１と対物レ
ンズ１４により原試料上に集束させ、Ｘ，Ｙ方向偏向器
によりイオンビーム２４で原試料上の矩形領域ＰとＱで
走査し、図３の（ｂ）に示す様に、原試料に２つの直方
体状の穴２５Ｐ，２５Ｑを形成する。
置に、例えば、図３の（ａ）に示す如き試料２３（以
後、原試料と称す）をセットする。そして、イオン源１
０からのイオンビームをコンデンサレンズ１１と対物レ
ンズ１４により原試料上に集束させ、Ｘ，Ｙ方向偏向器
によりイオンビーム２４で原試料上の矩形領域ＰとＱで
走査し、図３の（ｂ）に示す様に、原試料に２つの直方
体状の穴２５Ｐ，２５Ｑを形成する。
【００１０】次に、穴２５Ｐと２５Ｑに挟まれた厚さの
薄い直方体状部分２６（以後、観察試料と称す）のエッ
ジ部２６Ａをイオンビームで走査することにより、前記
両穴に面していない部分の一方側に前記穴と同じ深さの
溝を形成する。更に、ステージ１６を傾斜させることに
より、原試料２３を時計方向に、例えば７０度程度傾
け、その状態において、前記観察試料２６の穴底に沿っ
た部分２６Ｂをイオンビームで走査することにより、前
記観察試料２６に前記両穴２５Ｐと２５Ｑとが通じる底
穴を形成する。
薄い直方体状部分２６（以後、観察試料と称す）のエッ
ジ部２６Ａをイオンビームで走査することにより、前記
両穴に面していない部分の一方側に前記穴と同じ深さの
溝を形成する。更に、ステージ１６を傾斜させることに
より、原試料２３を時計方向に、例えば７０度程度傾
け、その状態において、前記観察試料２６の穴底に沿っ
た部分２６Ｂをイオンビームで走査することにより、前
記観察試料２６に前記両穴２５Ｐと２５Ｑとが通じる底
穴を形成する。
【００１１】次に、マニピュレータ駆動機構１９を作動
させて、穴の中で支持されている状態になっている観察
試料２６に、ピックアップ用プローブ１８の先端部を近
づけ、ピックアップ用プローブ１８の先端部を観察試料
２６に接触させる。この状態において、観察試料２６の
他のエッジ部２６Ｃをイオンビームで走査することによ
り、前記両穴に面していない部分の他方側に前記穴と同
じ深さの溝を形成する。すると、観察試料２６が原試料
２３から完全に切り離されると同時に、ピックアップ用
プローブ１８の先端部と観察試料２６との間の静電力に
より、図６に示す様に、ピックアップ用プローブ１８の
先端部に観察試料２６がくっつく。
させて、穴の中で支持されている状態になっている観察
試料２６に、ピックアップ用プローブ１８の先端部を近
づけ、ピックアップ用プローブ１８の先端部を観察試料
２６に接触させる。この状態において、観察試料２６の
他のエッジ部２６Ｃをイオンビームで走査することによ
り、前記両穴に面していない部分の他方側に前記穴と同
じ深さの溝を形成する。すると、観察試料２６が原試料
２３から完全に切り離されると同時に、ピックアップ用
プローブ１８の先端部と観察試料２６との間の静電力に
より、図６に示す様に、ピックアップ用プローブ１８の
先端部に観察試料２６がくっつく。
【００１２】次に、駆動機構１９によりピックアップ用
プローブ１８を移動させ、加工室１５に予め取り付けら
れている試料ホルダー本体９Ａの先端部に形成されてい
る観察試料取り付け部に前記観察試料２６を接近させ
る。この際、試料ホルダ本体９Ａの先端部に形成されて
いる観察試料取り付け部には試料支持膜（試料メッシュ
にカーボンなどの膜が張られたもの）が設けられてお
り、該支持膜と極めて薄い観察試料２６との間の静電力
は、ピックアップ用プローブ１８と観察試料２６との間
の静電力より大きく、その為に、該支持膜上に観察試料
２６が付着する。
プローブ１８を移動させ、加工室１５に予め取り付けら
れている試料ホルダー本体９Ａの先端部に形成されてい
る観察試料取り付け部に前記観察試料２６を接近させ
る。この際、試料ホルダ本体９Ａの先端部に形成されて
いる観察試料取り付け部には試料支持膜（試料メッシュ
にカーボンなどの膜が張られたもの）が設けられてお
り、該支持膜と極めて薄い観察試料２６との間の静電力
は、ピックアップ用プローブ１８と観察試料２６との間
の静電力より大きく、その為に、該支持膜上に観察試料
２６が付着する。
【００１３】そして、この様な試料ホルダー本体９Ａ及
び駆動機構９Ｂから成る試料ホルダーを加工室１５から
外し、図１に示す如き透過電子顕微鏡の鏡筒１に取り付
け、観察試料２６の観察が行われる。尚、前記各加工等
の操作は、原試料２３等の表面から発生した二次電子を
二次電子検出器２２により検出し、該検出信号に基づく
画像を表示装置（図示せず）に表示させ、該像を観察し
ながら行うようにしている。
び駆動機構９Ｂから成る試料ホルダーを加工室１５から
外し、図１に示す如き透過電子顕微鏡の鏡筒１に取り付
け、観察試料２６の観察が行われる。尚、前記各加工等
の操作は、原試料２３等の表面から発生した二次電子を
二次電子検出器２２により検出し、該検出信号に基づく
画像を表示装置（図示せず）に表示させ、該像を観察し
ながら行うようにしている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】さて、前述の如く観察
試料２６をピックアップ用プローブ１８の先端にくっつ
けることにより観察試料２６をトラップした場合、プロ
ーブ１８に対し観察試料２６がどのような角度でトラッ
プされたのか全く分からないので、トラップした観察試
料他の場所（例えば、試料ホルダーの観察試料取り付け
部）に移す時の位置制御や姿勢制御が困難である。
試料２６をピックアップ用プローブ１８の先端にくっつ
けることにより観察試料２６をトラップした場合、プロ
ーブ１８に対し観察試料２６がどのような角度でトラッ
プされたのか全く分からないので、トラップした観察試
料他の場所（例えば、試料ホルダーの観察試料取り付け
部）に移す時の位置制御や姿勢制御が困難である。
【００１５】本発明はこの様に問題を解決することを目
的としたもので、新規なマニピュレータを提供するもの
である。
的としたもので、新規なマニピュレータを提供するもの
である。
【００１６】
【課題を解決するための手段】 本発明に基づくマニピ
ュレータは、先端部近傍に、その中心軸に対して所定の
角度を成す試料付着用の面が形成されたプローブを備え
たことを特徴とする。
ュレータは、先端部近傍に、その中心軸に対して所定の
角度を成す試料付着用の面が形成されたプローブを備え
たことを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１８】図７は本発明に基づくマニピュレータの主
要部を成すプローブ２８の１概略例を表したものであ
る。
要部を成すプローブ２８の１概略例を表したものであ
る。
【００１９】このプローブ２８を作製する場合、例え
ば、前記図４に示したピックアップ用プローブ作製装置
により作製した図５の（ｃ）に示す如き先端が曲面状の
プローブを利用する。
ば、前記図４に示したピックアップ用プローブ作製装置
により作製した図５の（ｃ）に示す如き先端が曲面状の
プローブを利用する。
【００２０】即ち、この様な先端が曲面状のガラス製プ
ローブを、図２に示す如き集束イオンビームの加工室１
５に取り付けられているピツクアップ用プローブ１８の
代わりに駆動機構１９に取り付ける。そして、駆動機構
１９により該プローブ１８′をイオンビーム光軸下に持
って来る。尚、この時には原試料２３はステージ上に置
かれていないとする。
ローブを、図２に示す如き集束イオンビームの加工室１
５に取り付けられているピツクアップ用プローブ１８の
代わりに駆動機構１９に取り付ける。そして、駆動機構
１９により該プローブ１８′をイオンビーム光軸下に持
って来る。尚、この時には原試料２３はステージ上に置
かれていないとする。
【００２１】そして、集束イオンビームにより、プロー
ブ１８′の先端に近い部分に図７に示す様に、プローブ
の中心軸Ｏに対して垂直な側面（３０Ｍ）を有する溝３
０を作る。この様な溝３０が形成されたプローブを図７
では２８で示している。
ブ１８′の先端に近い部分に図７に示す様に、プローブ
の中心軸Ｏに対して垂直な側面（３０Ｍ）を有する溝３
０を作る。この様な溝３０が形成されたプローブを図７
では２８で示している。
【００２２】この様なプローブ２８を図２に示す集束イ
オンビーム装置の加工室１５に取り付けられたマニピュ
レータ１７のプローブとし、次の様にして観察試料２６
をトラップする。
オンビーム装置の加工室１５に取り付けられたマニピュ
レータ１７のプローブとし、次の様にして観察試料２６
をトラップする。
【００２３】即ち、ステージ１６上の中心部の所定の位
置にセットされた図３の（ａ）に示す如き原試料２３中
に、イオンビーム２４により図３の（ｂ）の２６に示す
如き観察試料を作る。そして、穴２５Ｐ，２５Ｑに面し
ていない部分の一方側に前記穴と同じ深さの溝を形成す
る。次に、ステージ１６を傾斜させることにより、原試
料２３を時計方向に、例えば７０度程度傾け、その状態
において、前記観察試料２６の穴底に沿った部分２６Ｂ
をイオンビームで走査することにより、前記観察試料２
６に前記両穴２５Ｐと２５Ｑとが通じる底穴を形成す
る。
置にセットされた図３の（ａ）に示す如き原試料２３中
に、イオンビーム２４により図３の（ｂ）の２６に示す
如き観察試料を作る。そして、穴２５Ｐ，２５Ｑに面し
ていない部分の一方側に前記穴と同じ深さの溝を形成す
る。次に、ステージ１６を傾斜させることにより、原試
料２３を時計方向に、例えば７０度程度傾け、その状態
において、前記観察試料２６の穴底に沿った部分２６Ｂ
をイオンビームで走査することにより、前記観察試料２
６に前記両穴２５Ｐと２５Ｑとが通じる底穴を形成す
る。
【００２４】次に、マニピュレータ駆動機構１９を作動
させて、穴の中で支持されている状態になっている観察
試料２６に、ピックアップ用プローブ２８の先端を近づ
けて行き、ピックアップ用プローブ２８の先端近くに作
成した溝３０に観察試料２６を接触させる。この際、溝
３０の底面３０Ｌに対して直角を成す面３０Ｍが観察試
料２６の一方の広い面に接触するようにする。
させて、穴の中で支持されている状態になっている観察
試料２６に、ピックアップ用プローブ２８の先端を近づ
けて行き、ピックアップ用プローブ２８の先端近くに作
成した溝３０に観察試料２６を接触させる。この際、溝
３０の底面３０Ｌに対して直角を成す面３０Ｍが観察試
料２６の一方の広い面に接触するようにする。
【００２５】この状態において、観察試料２６の他のエ
ッジ部２６Ｃをイオンビームで走査することにより、前
記両穴に面していない部分の他方側に前記穴と同じ深さ
の溝を形成する。すると、観察試料２６が原試料２３か
ら完全に切り離されると同時に、プローブ２８と観察試
料２６との間の静電力により、図８の（ａ），（ｂ）に
示す様に、ピックアップ用プローブ１８の溝の内面３０
Ｍに観察試料２６がくっつく。尚、図８の（ｂ）は斜視
図である。
ッジ部２６Ｃをイオンビームで走査することにより、前
記両穴に面していない部分の他方側に前記穴と同じ深さ
の溝を形成する。すると、観察試料２６が原試料２３か
ら完全に切り離されると同時に、プローブ２８と観察試
料２６との間の静電力により、図８の（ａ），（ｂ）に
示す様に、ピックアップ用プローブ１８の溝の内面３０
Ｍに観察試料２６がくっつく。尚、図８の（ｂ）は斜視
図である。
【００２６】次に、駆動機構１９によりピックアップ用
プローブ２８を試料ホルダー本体９Ａの先端部の方に移
動させ、該試料ホルダー本体９Ａの先端部に形成されて
いる観察試料取り付け部に設けられた試料支持膜上に付
着させる。
プローブ２８を試料ホルダー本体９Ａの先端部の方に移
動させ、該試料ホルダー本体９Ａの先端部に形成されて
いる観察試料取り付け部に設けられた試料支持膜上に付
着させる。
【００２７】そして、この様な試料ホルダー本体９Ａ及
び駆動機構９Ｂから成る試料ホルダーを加工室１５から
外し、図１に示す如き透過電子顕微鏡の鏡筒１に取り付
け、観察試料２６の観察が行われる。
び駆動機構９Ｂから成る試料ホルダーを加工室１５から
外し、図１に示す如き透過電子顕微鏡の鏡筒１に取り付
け、観察試料２６の観察が行われる。
【００２８】この様なピックアップ用プローブを備えた
マニピュレータは、観察試料２６のトラップを、ピック
アップ用プローブ１８の先端に形成された既知の形状の
溝内にくっつけることにより行っているので、プローブ
１８に対し観察試料２６がどのような角度でトラップさ
れているのかが分かるので、トラップした観察試料を他
の場所（例えば、試料ホルダーの観察試料取り付け部）
に移す時の位置制御や姿勢制御が容易となる。
マニピュレータは、観察試料２６のトラップを、ピック
アップ用プローブ１８の先端に形成された既知の形状の
溝内にくっつけることにより行っているので、プローブ
１８に対し観察試料２６がどのような角度でトラップさ
れているのかが分かるので、トラップした観察試料を他
の場所（例えば、試料ホルダーの観察試料取り付け部）
に移す時の位置制御や姿勢制御が容易となる。
【００２９】尚、ピックアップ用プローブ２８の先端部
に形成される溝は、図７に示す如き例に限定されない。
例えば、図９の（ａ），（ｂ）に示す様に、コの字状の
溝，Ｖ字状の溝でも良い。各図中Ｓは溝に静電力に基づ
いて該溝の内面に支持された試料を示す。尚、コの字状
の溝を有するピックアップ用プローブにおいては、溝を
成す底面に垂直な面に試料Ｓの一方の面をくっつける様
にし、Ｖ字状の溝を有するピックアップ用プローブにお
いては、観察試料がプローブの中心軸Ｏに対して垂直に
なるように溝を成す二面で挟むようにする。
に形成される溝は、図７に示す如き例に限定されない。
例えば、図９の（ａ），（ｂ）に示す様に、コの字状の
溝，Ｖ字状の溝でも良い。各図中Ｓは溝に静電力に基づ
いて該溝の内面に支持された試料を示す。尚、コの字状
の溝を有するピックアップ用プローブにおいては、溝を
成す底面に垂直な面に試料Ｓの一方の面をくっつける様
にし、Ｖ字状の溝を有するピックアップ用プローブにお
いては、観察試料がプローブの中心軸Ｏに対して垂直に
なるように溝を成す二面で挟むようにする。
【００３０】又、本発明のピックアップ用プローブで
は、試料を、例えば、プローブの中心軸に対し既知の角
度を成す面に付着させることが出来れば良いので、その
様な面を有するものは前記各溝に限定されない。即ち、
図１０の（ａ），（ｂ）に示す様に、断面がＬ字状の切
り欠き及び逆方向にＬ字状の切り欠きをプローブの先端
部に形成するようにしても良い。各図中Ｓは切り欠きに
静電力に基づいて該切り欠きの内面に支持された試料を
示す。尚、断面がＬ字状の切り欠き及び逆方向にＬ字状
の切り欠きを有するピックアップ用プローブにおいて
は、切り欠きを成す底面に垂直な面に試料Ｓの一方の面
をくっつける様にする。尚、試料付着面が、例えば、プ
ローブの中心軸に対し既知の角度を成していれば、前記
断面がＬ字状の切り欠き等に限定されず、図１１
（ａ），（ｂ）に示す様に、１つの試料付着面だけを有
する切り欠きをプローブの先端部に形成するようにして
も良い。
は、試料を、例えば、プローブの中心軸に対し既知の角
度を成す面に付着させることが出来れば良いので、その
様な面を有するものは前記各溝に限定されない。即ち、
図１０の（ａ），（ｂ）に示す様に、断面がＬ字状の切
り欠き及び逆方向にＬ字状の切り欠きをプローブの先端
部に形成するようにしても良い。各図中Ｓは切り欠きに
静電力に基づいて該切り欠きの内面に支持された試料を
示す。尚、断面がＬ字状の切り欠き及び逆方向にＬ字状
の切り欠きを有するピックアップ用プローブにおいて
は、切り欠きを成す底面に垂直な面に試料Ｓの一方の面
をくっつける様にする。尚、試料付着面が、例えば、プ
ローブの中心軸に対し既知の角度を成していれば、前記
断面がＬ字状の切り欠き等に限定されず、図１１
（ａ），（ｂ）に示す様に、１つの試料付着面だけを有
する切り欠きをプローブの先端部に形成するようにして
も良い。
【００３１】又、前記例では、ピックアップ用プローブ
２８の試料支持用溝を集束イオンビーム装置で作製する
用にしたが、レーザー加工装置等、他の放射線ビーム装
置で作製する様にしても良い。
２８の試料支持用溝を集束イオンビーム装置で作製する
用にしたが、レーザー加工装置等、他の放射線ビーム装
置で作製する様にしても良い。
【図１】 透過型電子顕微鏡の一概略例を示している。
【図２】 集束イオンビーム装置の一概略例を示してい
る。
る。
【図３】 集束イオンビームによる原試料の加工の例を
示している。
示している。
【図４】 ピックアップ用プローブ作製装置の概略例を
示している。
示している。
【図５】 ピックアップ用プローブの作製の様子を示し
ている。
ている。
【図６】 従来のピックアップ用プローブが観察試料を
くっつけた状態を示している。
くっつけた状態を示している。
【図７】 本発明の主要部を成すピックアップ用プロー
ブの概略を示す。
ブの概略を示す。
【図８】 本発明のピックアップ用プローブが観察試料
をくっつけた状態の一例を示している。
をくっつけた状態の一例を示している。
【図９】 本発明の主要部を成すピックアップ用プロー
ブの他の概略例を示している。
ブの他の概略例を示している。
【図１０】 本発明の主要部を成すピックアップ用プロ
ーブの他の概略例を示している。
ーブの他の概略例を示している。
【図１１】 本発明の主要部を成すピックアップ用プロ
ーブの他の概略例を示している。
ーブの他の概略例を示している。
１…電子光学系鏡筒 ２…電子銃 ３…集束レンズ ４…対物レンズ ５…中間レンズ ６…投影レンズ ７…観察室 ８…蛍光板 ９Ａ…試料ホルダー本体 ９Ｂ…ホルダー駆動機構 １０…イオン源 １１…コンデンサレンズ １２…Ｘ方向偏向器 １３…Ｙ方向偏向器 １４…対物レンズ １５…加工室 １６…ステージ １７…マニピュレータ １８…ピックアップ用プローブ １９…駆動機構 ２０…ガス源 ２１…ガスノズル ２２…二次電子検出器 ２３…原試料 ２４…イオンビーム ２５Ｐ，２５Ｑ…穴 ２６，Ｓ…観察試料 ２８…ピックアップ用プローブ ３０…溝 ４０…ガラス管 ４１…ヒーター ４２…支持体 ４３…荷重用支持体 ４４…ネジ ４５…電源 Ｏ…プローブ中心軸
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA11 BA18 CA03 GA01 GA06 HA13 JA02 PA01 PA30 RA04 3C007 DS01 FS00 FT01 NS09 3F061 AA01 CA00 CB01 DB04 5C001 AA08 CC01 CC04 CC08
Claims (6)
- 【請求項１】 先端部近傍に、その中心軸に対して所定
の角度を成す試料付着用の面が形成されたプローブを備
えたマニピュレータ。 - 【請求項２】 プローブに、少なくとも１つの試料付着
用の面を有する切り欠きが形成されている請求項１記載
のマニピュレータ。 - 【請求項３】 プローブに、少なくとも１つの試料付着
用の面を有する溝が形成されている請求項１記載のマニ
ピュレータ。 - 【請求項４】 試料との間の静電力に基づいて試料付着
面に試料を付着させる様に成した請求項１記載のマニピ
ュレータ。 - 【請求項５】 前記試料付着面はプローブの中心軸に対
して垂直を成している請求項１記載のマニピュレータ。 - 【請求項６】 前記溝は楔状の形状を成しており、該溝
の両面に試料を挟む様に成した請求項３記載のマニピュ
レータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000342425A JP2002150983A (ja) | 2000-11-09 | 2000-11-09 | マニピュレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000342425A JP2002150983A (ja) | 2000-11-09 | 2000-11-09 | マニピュレータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002150983A true JP2002150983A (ja) | 2002-05-24 |
Family
ID=18816987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000342425A Withdrawn JP2002150983A (ja) | 2000-11-09 | 2000-11-09 | マニピュレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002150983A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007316073A (ja) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Fei Co | サンプルの作製 |
| JP2010133710A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小試料採取装置 |
| JP2010230612A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
| WO2011129315A1 (ja) * | 2010-04-16 | 2011-10-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置およびイオンビーム加工方法 |
| JP2014190892A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料観察方法、試料前処理方法、および荷電粒子線装置 |
-
2000
- 2000-11-09 JP JP2000342425A patent/JP2002150983A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007316073A (ja) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Fei Co | サンプルの作製 |
| JP2010133710A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小試料採取装置 |
| JP2010230612A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
| WO2010116428A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
| US8710464B2 (en) | 2009-03-30 | 2014-04-29 | Hitachi High-Technologies Corporation | Specimen preparation device, and control method in specimen preparation device |
| WO2011129315A1 (ja) * | 2010-04-16 | 2011-10-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置およびイオンビーム加工方法 |
| JP5537653B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置およびイオンビーム加工方法 |
| US9202672B2 (en) | 2010-04-16 | 2015-12-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus and method for probe shape processing by ion beam |
| JP2014190892A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料観察方法、試料前処理方法、および荷電粒子線装置 |
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