JP3231516B2 - 電子線マイクロアナライザ - Google Patents
電子線マイクロアナライザInfo
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 60
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 38
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/226—Optical arrangements for illuminating the object; optical arrangements for collecting light from the object
- H01J37/228—Optical arrangements for illuminating the object; optical arrangements for collecting light from the object whereby illumination or light collection take place in the same area of the discharge
-
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- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
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Description
簡便を図った電子線マイクロアナライザに関する。
てられた電子線照射系に設けられた対物レンズ11内
に、光学反射ミラ−212と光学対物レンズ213が配
置され、その中心には電子線によるガラスへの帯電を防
止するキャピラリ214が設けられている。光源から発
っせられた入射光215は、ハ−フミラ−216を透過
し光学反射ミラ−212にて90°曲げられ光学対物レ
ンズ213を経て被測定物面217を照射する。同時に
電子線照射系より発っせられた電子ビ−ム軸218が光
学像中心になるよう光学系の機械的調整を行う。この例
の場合、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせは機械的調
整を行う為面倒。光学レンズ中心に穴があいているため
輝度が取れず分解能が悪い。そして明るさムラ、視野欠
け等が低倍率で発生する。また、構成が複雑、取付が面
倒、かつコスト高になる。
射系と光学顕微鏡が間隔を持って垂直に立てられている
場合、電子ビ−ム軸と光学軸の同時観察が不可能であ
り、従って位置合わせの確認が難しい。また試料室内で
被測定物を搭載して移動出きるステ−ジの移動分解能が
要求され、更に光学顕微鏡像の画像メモリ−機能が有さ
れていなければならない。そのためコスト高になってし
まう。
系と光学顕微鏡のどちらかが単に斜め入射をしている場
合において、被測定物に凸凹があったり、作動距離が変
化した場合には、電子ビ−ム軸と光学軸は一致しない。
このため被測定物の形状・寸法が制限され装置の汎用性
が失われる。
線マイクロアナライザでは、前記に述べた機構の複雑、
分解能の低下、視野欠け、コスト高という課題があっ
た。そこで、本発明の目的は、従来のこのような課題を
解決するため、垂直に立てられた光学顕微鏡の光学軸と
斜入射の電子ビ−ム軸の位置合わせに電子線偏向コイル
を用い、分析性能を向上させ装置の単純化を可能とした
電子線マイクロアナライザを提供することを目的とす
る。
に、本発明は電子ビ−ムを照射する電子線照射系と真空
試料室内の被測定物を観察できる光学顕微鏡を有する、
電子線マイクロアナライザにおいて、前記電子線照射位
置を、電子線偏向コイルを用いることで、光学軸と電子
線軸の位置合わせを行う調整手段が設けられ、この調整
手段は、前記試料室に垂直にもうけられて被測定物を観
察する光学顕微鏡と、前記試料室に斜めに設けられて電
子ビ−ムを照射する電子線照射系と、前記試料室内に設
けられて電子線ビ−ム軸を偏向する偏向コイル、とを有
することを特徴としている。
イザにおいては、電子線照射系および光学顕微鏡をそれ
ぞれ単独に組み立てられ、かつ電子ビ−ム軸と光学軸の
同時観察を行いながら電子線偏向コイルを調整すること
によって電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせを行うこと
ができる。従って、電子線照射系に設けられた対物レン
ズ内に余計な光学レンズ等が無いため、構造が単純で分
解能を妨げない。また偏向コイルに流す電流量を可変す
る電気調整のため、位置合わせが簡単で確実である。
する。図1において、本発明の一実施例に係る電子線マ
イクロアナライザ装置の概略構成である。光学顕微鏡
は、CCDカメラ1、ズ−ムレンズ2、コンバ−ジョン
レンズ3からなる。電子線照射系は、電子銃4、電子レ
ンズ5、軸合わせコイル6からなる。光学顕微鏡、電子
線照射系は真空試料室7に組み込まれ、真空試料室内に
は、X,Y、Z三軸方向に移動可能なステ−ジ8が設け
られ、この上に被測定物9が載置される。電子ビ−ム軸
と光学軸の位置合わせを行う為の偏向コイル10が被測
定物9の真上に設けられている。真空試料室の側面に
は、エネルギ−分散X線型検出ユニット11、ステ−ジ
駆動装置12、真空排気系13が設けられている。制御
・駆動回路14はシステム全体を制御・駆動するもので
あり、CPU15はシステムの操作を行う。CRT16
は、光学像・分析結果等を表示するものである。
せを行う為の調整手段のステ−ジ上の部分と、電子線照
射系Aや光学顕微鏡B、偏向コイル10との関係を示し
ている。電子線電流をステ−ジ8上に設けられたファラ
ディカップ17で測定しながら、電流値が最大になるよ
う軸合わせコイル6で合わせる。ズ−ムレンズ2を操作
して最低倍率にして、電磁レンズ5の電流を変化させ電
子線照射点径が最も小さくなるように合わせる。偏向コ
イル10に電流を流し、CRT16の中心に電子線照射
点を近ずける。偏向コイル10電流を初期設定電流値
(設計値)にする。CRT16の中心より電子線照射点
が逃げるようであれば、光学顕微鏡Bを移動させる。こ
れらの動作を繰り返しながら、最高倍率まで行う。最高
倍率で電子線照射点がCRT16からはずれるようであ
れば、偏向コイル10の電流を変化させ中心に合わせ
る。さらにステ−ジ8を上下方向に微小に動かし、CR
T16上の電子線照射点が同心円かつ移動しないように
偏向コイル10電流を合わせる。最後に光学顕微鏡B全
体が微小移動させ電子線照射点に一致させる。これによ
り、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせができる。
び光学顕微鏡をそれぞれ単独に組み立てられ、かつ電子
ビ−ム軸と光学軸の同時観察を行いながら電子線偏向コ
イルを調整することによって電子ビ−ム軸と光学軸の位
置合わせを行うことを可能とし、もって分析位置精度が
高くかつ装置の単純化を可能とした電子線マイクロアナ
ライザを提供することができる。
イザの概略構成を示す図である。
明図である。
方を説明するための図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 電子線を発する電子銃と前記電子線を絞
る為の電子レンズとからなり前記電子線を被測定物に照
射する電子線照射装置と、真空試料室内の被測定物を観
察できる光学顕微鏡と、前記電子線を前記被測定物に照
射したことにより発生するX線を分析するエネルギー分
散型X線分析器とを有する電子線マイクロアナライザに
おいて、前記光学顕微鏡の光軸に対し斜めに入射した前
記電子線軸を前記光軸に一致させるための電子線偏向器
を設けたことを特徴とする電子線マイクロアナライザ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25448393A JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
US08/321,676 US5483065A (en) | 1993-10-12 | 1994-10-12 | Electron beam microanalyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25448393A JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07110310A JPH07110310A (ja) | 1995-04-25 |
JP3231516B2 true JP3231516B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=17265685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25448393A Expired - Fee Related JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5483065A (ja) |
JP (1) | JP3231516B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3216474B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | 走査型電子顕微鏡 |
US6184526B1 (en) * | 1997-01-08 | 2001-02-06 | Nikon Corporation | Apparatus and method for inspecting predetermined region on surface of specimen using electron beam |
JP3500264B2 (ja) * | 1997-01-29 | 2004-02-23 | 株式会社日立製作所 | 試料分析装置 |
US5920073A (en) * | 1997-04-22 | 1999-07-06 | Schlumberger Technologies, Inc. | Optical system |
WO1999009582A1 (fr) | 1997-08-19 | 1999-02-25 | Nikon Corporation | Dispositif et procede servant a observer un objet |
EP0917177A1 (de) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Korpuskularstrahlgerät |
FR2792077B1 (fr) * | 1999-04-09 | 2001-06-29 | Centre Nat Etd Spatiales | Installation et procede d'observation microscopique d'un circuit electronique a semi-conducteur |
DE10301579A1 (de) * | 2003-01-16 | 2004-07-29 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Elektronenstrahlgerät und Detektoranordnung |
CN100341260C (zh) * | 2003-11-12 | 2007-10-03 | 大连理工大学 | 一种用于激光波带板准直系统的激光接收装置 |
DE102009041993B4 (de) * | 2009-09-18 | 2020-02-13 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Beobachtungs- und Analysegerät |
NL1039512C2 (en) * | 2012-04-02 | 2013-10-03 | Univ Delft Tech | Integrated optical and charged particle inspection apparatus. |
US9378921B2 (en) * | 2012-09-14 | 2016-06-28 | Delmic B.V. | Integrated optical and charged particle inspection apparatus |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3209146A (en) * | 1961-12-09 | 1965-09-28 | Akashi Seisakusho Kk | Apparatus for adjusting position of a sample for electron probe x-ray microanalyzer |
FR2498767A1 (fr) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Cameca | Micro-analyseur a sonde electronique comportant un systeme d'observation a double grandissement |
DE3904032A1 (de) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Max Planck Gesellschaft | Elektronenmikroskop zur untersuchung von festkoerperoberflaechen |
JPH0487148A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-19 | Shimadzu Corp | 試料移動経路指定自動分析装置 |
-
1993
- 1993-10-12 JP JP25448393A patent/JP3231516B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-10-12 US US08/321,676 patent/US5483065A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5483065A (en) | 1996-01-09 |
JPH07110310A (ja) | 1995-04-25 |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070914 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 9 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 9 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 9 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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