JP3216474B2 - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
走査型電子顕微鏡Info
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Description
て、ウェーハ等の外観検査等を行う走査型電子顕微鏡に
関するもので、特に全自動で一枚または複数枚のウェー
ハ上の複数個のチップに渡り各測定位置で自動焦点合わ
せを行うに好適な装置に関する。
明に、例えば、特開昭63−254149号がある。
束を照射する手段と、前記試料表面から反射される反射
光の位置を検出する検出器と、前記検出器により検出さ
れた検出結果をもとに試料表面の上下の移動距離または
高さを測定することで高さ方向測定結果を得て、その測
定結果により試料表面に電子ビームの焦点を結ぶ電子レ
ンズ系、特に焦点合わせレンズの制御回路を制御するも
のである。
外乱要因を有するウェーハ等の試料においては、測定結
果に大きい誤差を有する。これは、光束を試料表面に照
射して、その表面の高さを測定する際に、ウェーハ上に
形成されたパターンにより、場所により反射率が異なる
場合に検出器に入る光の強度または強度の分布が変化
し、ウェーハ表面の高さ測定精度を低下させるためであ
る。これに対して特開昭57−139607号において、検出器
に入る光量が常にあらかじめ設定された基準値に等しく
なるように光源に帰還を施し、試料上におけるスポット
の径を絞ることによって強度分布の変化を小さくし、試
料表面高さの測定精度を高めている。
面にパターン等による光学的外乱要因、特に凹凸を有す
るウェーハ等の試料に光束を照射し、試料上にある光学
的外乱要因により前記反射光が散乱し、前記検出器の検
出結果を乱し、前記高さ方向測定結果が乱れて焦点合わ
せレンズ制御を不安定にしていた。
設定された基準値に等しくなるように光源に帰還を施
し、試料上におけるスポットの径を絞ることによって強
度分布の変化を小さくし、試料表面高さの測定結果の精
度を高めても、ウェーハ等にみられるパターン等を表面
に有する試料での表面の凹凸による反射光の散乱によ
り、測定結果に含まれる誤差を防止することは不可能で
ある。
因により前記高さ方向測定結果に乱れが生じても、前記
焦点合わせレンズの制御を安定して行い、高速かつ高精
度な自動焦点合わせを可能とする走査型電子顕微鏡を提
供するものである。
鏡は、高さ計測器による測定結果に基づいて前記電子ビ
ームの焦点を調節する手段を備え、試料駆動機構系によ
り電子ビームの照射点を観察位置に移動する時間に、高
さ測定器によって複数箇所の高さ測定を行い、この複数
箇所の高さと、移動前の電子ビーム照射箇所との高さの
違いに基づいて得られる複数の値の平均値を演算する。
測定を行い試料表面高さを求めるため、外乱および試料
表面上の特徴により前記反射光が一時的に変化しても安
定した焦点合わせレンズの制御を行える。
略構成図である。試料1の表面を観察するために、走査
型電子顕微鏡鏡筒2を持つ。図示外の電子ビーム発生装
置からの電子ビームは、電子顕微鏡鏡筒2によって試料
1の表面に焦点を結ぶ。焦点の電子光学軸AX方向の位
置は、試料1の表面と一致するように焦点合わせレンズ
3により調整する。
するために、試料駆動機構系4によって試料1を電子光
学軸AXとは直角な平面内で移動させる。移動後、試料
1の表面の電子光学軸AX方向の位置が何らかの原因
で、例えば試料1の表面自身の反り、または試料駆動機
構系4のAX方向に直角な平面内からのずれなどにより
変化した時、試料1の表面と電子ビームの焦点とが一致
しなくなる。その差を焦点ずれΔZとする。
自動的に行うために、焦点合わせレンズ3の制御を自動
的に行う必要がある場合、あらかじめ決めておいた複数
の試料1上の観察位置について、試料駆動機構系4を自
動的に移動後、自動焦点合わせを行い、自動的に観察す
る場合に、焦点ずれΔZを知る必要がある。
測定器を備えている。これは、試料1の表面へ入射され
るレーザを発するレーザ光源5を持ち、そのレーザは試
料1の表面上に第一レンズ7により焦点を結ぶ。このレ
ーザを以下では入射光と呼ぶ。原理を図2に示す。い
ま、試料表面高さは図中のZa の位置にある。レーザ光
源5を発した入射光は光軸6を通り、試料1の表面上の
点Pa に当ると反射される。その反射光は光軸8−aを
通りリニアセンサ10へと向かう。この時、試料1の表
面高さΔZだけ変化して図中のZb の位置に変化する
と、その表面は破線のようになる。入射光6は点Pb へ
と反射する位置を変えるので、反射角度θはそのまま
で、反射光8は光軸8−b上を通りリニアセンサ10へ
向かうようになる。光軸8−aと8−bの光軸に垂直な
方向での光路差Δ1がリニアセンサ10上の反射光の焦
点位置ずれ量となる。この光路差Δ1と焦点ずれ量ΔZ
との関係は式(1)で表せ、直線的な関係を持つ。
式(1)によって変換することで焦点ずれ量ΔZを知る
ことが可能となる。
はセンサ出力−試料高さ変換器11により式(1)に従
って焦点ずれ量ΔZへと変換される。この時、試料1の
表面上に光学的外乱要因、例えば凹凸や表面反射率の違
いなどが存在すると、入射光6の光の強度が一定でも反
射光8の光の強度が変化する。また、併せてリニアセン
サ10では、反射光8の焦点上の光の強度分布が入射光
の持つガウス分布から大きく変化する。このような時、
リニアセンサ10では反射光8の焦点位置を示すスポッ
トの位置を反射光8の光軸に垂直な方向に誤って検出す
る。つまり、スポット内の光の強度分布が変化すると、
スポットのリニアセンサ上の検出位置となる重心の位置
が変化し、焦点ずれ量ΔZの測定値に測定誤差を含むこ
とになる。
学軸AXに垂直な面内で移動するので、この間の本実施
例での高さ方向測定器の出力、ここではセンサ出力−試
料高さ変換器11の出力は図3のようになる。つまり、
試料1の表面高さの変化に従った直線または曲線となる
Lに沿って焦点ずれ量ΔZの測定結果は変化するが、試
料表面上の光学的外乱要因の位置と入射光6の焦点位置
であるP−aまたはP−bが一致する時間ta およびt
b で、L上からずれて図中のA部およびB部となって現
れる。
測定値を示すセンサ出力−試料高さ変換器11の出力値
を時間分割スイッチ12により一定時間毎に切り換え
て、複数個の保持器13に時間に従って分配および保存
される。例えば、図1では6個の保持器13を備え、そ
れらは13−aから13−fで表してある。最初のセン
サ出力−試料高さ変換器11の出力は時間分割スイッチ
12により13−aへ入力される。次の出力値は13−
bへ、以下同様に本択された保持器へと逐次的に入力さ
れ、最後の保持器13−fへ入力し終わると時間分割ス
イッチ12は最初の値の入力されている保持器13−a
へ切り換わり、次のセンサ出力−試料高さ変換器11の
出力値を入力する。以下、この動作を繰り返し、常に保
持器13の個数分のみ逆上って、ここでは6個前までの
焦点ずれ量ΔZの測定結果を一時的に保存しているよう
にする。この様子を図4のフローチャートに示す。
察位置から任意の箇所へ観察位置を移動するように試料
駆動系4を駆動する。
を開始すると、本実施例の高さ測定器による試料表面高
さの測定が開始し、センサ出力−試料高さ変換器11か
ら焦点ずれ量ΔZの測定値を得る。この焦点ずれ量ΔZ
の測定値を時間分割スイッチ12に同期して保持器13
へ取り込む。例えば、m回目の測定結果をΔZm とす
る。
高さ変換器11の出力である焦点ずれ量ΔZm を時間分
割スイッチ12により選択された保持器13の内の1つ
に一時的に保存する。 [ステップ18]試料上の観察位置が目的とする位置と
一致すると、試料駆動機構系4の駆動を終了し、本実施
例による高さ方向測定器による焦点ずれ量ΔZの測定
と、時間分割スイッチ12による切り換え動作を終了す
る。一致しない時には、次段のm+1回目の測定を行う
ためにステップ16へ戻る。
測定器の最後の測定結果をΔZm とし、保持器13の個
数をn個と置くと、平均演算器14では式(2)に従
い、試料駆動機構系4の駆動終了後の観察位置での焦点
ずれ量を得る。
保存している測定値の平均値とする。
15では、ステップ19で得られた焦点ずれ量ΔZの値
を0とする方向に電子光学軸AX方向に電子ビームの焦
点を変えるように、焦点合わせレンズ3の制御を行う。
この様にすることで、焦点合わせレンズ3の制御は、図
5の様に試料表面上の光学的外乱要因の位置と入射光6
の焦点位置が一致する時間taおよびtbでL上からずれ
ない焦点ずれ量ΔZの測定結果により行うことと等価と
なる。
軸AX方向に動かす方法によらず、試料駆動機構系4を
軸AX方向に移動させることで電子ビームの焦点位置と
試料表面高さの差である焦点ずれ量ΔZを0としても良
い。
焦点と試料1の表面とが、試料1表面の光学的外乱要因
に影響を受けることなく、一致させることが可能とな
る。
をレーザを用いて高速かつ高精度に行う方法において、
その表面にパターン等による光学的外乱要因、特に凹凸
の有するウェーハ等の試料であっても安定に焦点合わせ
を行うものである。
の焦点合わせが安定的に高速かつ高精度に行うことがで
き、半導体産業等における検査装置として使用されてい
る走査型電子顕微鏡においてスループットを向上させる
ことができる。
装置の一実施例を示すブロック図。
結果を示す図。
の流れを表す図。
レンズ、4…試料駆動機構系、5…レーザ光源、6…入
射光光軸、7…第一レンズ、8…反射光光軸、9…第二
レンズ、10…リニアセンサ、11…センサ出力−試料
高さ変換器、12…時間分割スイッチ、13…保持器、
14…平均演算器、15…焦点合わせレンズ制御器、A
X…走査型電子顕微鏡電子光学軸、θ…入射光入射角
度、P…入射光の反射点、Z…試料表面高さ方向位置、
ΔZ…焦点ずれ、Δ1…反射光光路差、tAおよびtB…
試料表面上の光学的外乱要因の位置と入射光6の焦点位
置が一致する時間、AおよびB…時間tAおよびtBでセ
ンサ出力−試料高さ変換器の出力値に現われる外乱。
Claims (3)
- 【請求項1】電子ビームの走査により試料像を得る走査
型電子顕微鏡であって、試料に焦点を結ぶための焦点合
わせレンズと、前記試料を移動させるための試料駆動機
構系と、光束を前記試料に照射する手段と前記光束の前
記試料の上面での反射光を検出する検出手段を含む高さ
測定器と、当該高さ計測器による測定結果に基づいて前
記電子ビームの焦点を調節する手段を備えた走査型電子
顕微鏡において、 前記試料駆動機構系により前記電子ビームの照射点を観
察位置に移動する時間に、前記高さ測定器によって複数
箇所の高さ測定を行い、当該複数箇所の高さと、移動前
の電子ビーム照射箇所との高さの違いに基づいて得られ
る複数の値の平均値を演算する手段を備えたことを特徴
とする走査型電子顕微鏡。 - 【請求項2】請求項1において、前記高さ測定の結果を
基に、前記試料駆動機構系を電子レンズ系の電子光学軸
方向に移動させることにより焦点合わせを行うことを特
徴とする走査型電子顕微鏡。 - 【請求項3】 電子ビームの走査により試料像を得る走査
型電子顕微鏡であって、試料に焦点を結ぶための焦点合
わせレンズと、前記試料を移動させるための試料駆動機
構系と、光束を前記試料に照射する手段と前記光束の前
記試料の上面での反射光を検出する検出手段を含む高さ
測定器と、当該高さ計測器による測定結果に基づいて前
記電子ビームの焦点を調節する手段を備えた走査型電子
顕微鏡において、 前記試料駆動機構系により前記電子ビームの照射点を観
察位置への移動を開始した後、前記観察位置を含む複数
箇所の高さ測定を行い、当該高さ測定で得られる焦点位
置と、移動前の電子ビーム焦点位置との焦点ずれΔZを
前記複数箇所で測定し、前記複数箇所でのΔZの平均値
に基づいて前記観察位置の焦点補正を行う手段を備えた
ことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
Priority Applications (5)
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