KR960035741A - 주사형 전자현미경 - Google Patents

주사형 전자현미경 Download PDF

Info

Publication number
KR960035741A
KR960035741A KR1019960008987A KR19960008987A KR960035741A KR 960035741 A KR960035741 A KR 960035741A KR 1019960008987 A KR1019960008987 A KR 1019960008987A KR 19960008987 A KR19960008987 A KR 19960008987A KR 960035741 A KR960035741 A KR 960035741A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sample
electron beam
physical quantity
observation position
focus calibration
Prior art date
Application number
KR1019960008987A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100416200B1 (ko
Inventor
아쯔시 고바루
다다시 오다까
다쯔야 마에다
가쯔히로 사사다
Original Assignee
가나이 쯔도무
가부시키가이샤 히다치 세사쿠쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가나이 쯔도무, 가부시키가이샤 히다치 세사쿠쇼 filed Critical 가나이 쯔도무
Publication of KR960035741A publication Critical patent/KR960035741A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100416200B1 publication Critical patent/KR100416200B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/22Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/21Focus adjustment
    • H01J2237/216Automatic focusing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/248Components associated with the control of the tube
    • H01J2237/2482Optical means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

전자빔이 초점맞춤렌즈에 의해 시료상에 초점이 맞추어진다. 전자빔이 시료에 조사되는 위치에 광빔이입사된다. 검출기의 출력은 전자빔의 조사위치에서 시료의 높이를 측정하는데 이용된다. 시료는 초점맞춤렌즈의 광축에 수직인 평면내에서 이동된다. 시료상에서 관찰위치에 인접한 위치들이 전자빔의 조사위치에 위치하였을때, 시료상의 이러한 위치들에서 시료높이 측정장치는 관찰위치의 시료의 높이측정을 수행한다.
시료높이 측정수단에 의해 측정값의 평균값을 구해서 이를 기초로 초점교정신호를 발생시키고 초점교정신호에 의해 초점맞춤렌즈를 제어한다.

Description

주사형 전자현미경
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 전자빔을 발생하는 수단; 상기 전자빔을 시료에 조사하는 수단; 상기 시료에 상기 전자빔의 초점을 맞추는 수단; 상기 시료로부터 신호특성이 발생되도록 시료에 전자빔을 주사하는 수단; 검출신호에 기초하여 시료의 상을 디스플레이할수 있도록 발생된 신호를 검출하는 수단; 상기 전자빔의 가로방향으로 시료를 이동시키는 수단; 시료상의 관찰위치와 상기 관찰위치에 인접한 시료상의 적어도 하나의 위치에서 시료의 높이에 관한 물리량을 측정하는 수단; 및 시료상의 관찰위치에 전자빔이 조사되었을때 시료에 전자빔의 초점이 맞춰지도록, 측정된 상기 물리량에 기초하여 통계적 초점 교정신호를 발생시켜, 발생된 상기 통계적 초점교정신호에 기초하여 상기 초점맞춤수단과 상기 이동수단중의 하나를 제어하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  2. 제1항에 있어서, 상기 통계적 초점교정신호는 상기 측정된 물리량의 평균을 나타내는 것을 특징으로하는 주사형 전자현미경.
  3. 제1항에 있어서, 상기 시료의 관찰위치와 적어도 하나의 시료상의 위치가 상기 이동수단에 의해 측정위치에 위치되었을 때 상기 측정수단이 상기 측정위치에서 상기 물리량을 측정하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  4. 제1항에 있어서, 상기 통계적 초점교정신호는 상기 측정된 물리량의 평균을 나타내고, 시료의 관찰위치와 적어도 하나의 시료상의 위치가 상기 이동수단에 의해 측정위치에 위치되었을때 상기 측정수단이 측정위치에서 상기 물리량을 측정하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  5. 전자빔을 발생하는 수단; 상기 전자빔을 시료에 조사하는 수단; 상기 시료에 상기 전자빔의 초점을 맞추는 수단; 상기 시료로부터 신호특성이 발생되도록 시료에 전자빔을 주사하는 수단; 검출신호에 기초하여 시료의 상을 디스플레이할수 있도록 발생된 신호를 검출하는 수단; 상기 전자빔의 가로방향으로 시료를 이동시키는 수단; 시료상의 관찰위치와 상기 관찰위치에 인접한 시료상의 적어도 하나의 위치에서 시료의 높이에 관한 물리량을 측정위치에서 측정하는 수단; 시료가 이동되어 시료상의 관찰위치에 전자빔이 조사될때 시료에 전자빔의 초점이 맞추어지도록, 측정된 상기 물리량에 기초하여 통계적 초점 교정신호를 발생시켜, 발생된 상기 통계적 초점교정신호에 기초하여 상기 초점맞춤수단과 상기 이동수단중의 하나를 제어하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  6. 제5항에 있어서, 상기 통계적 초점교정신호는 상기 측정된 물리량의 평균을 나타내는 것을 특징으로하는 주사형 전자현미경,
  7. 제5항에 있어서, 상기 시료의 관찰위치와 적어도 하나의 시료상의 위치가 상기 이동수단에 의해 측정위치에 위치되었을때 상기 측정수단이 상기 측정위치에서 상기 물리량을 측정하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  8. 제1항에 있어서, 상기 통계적 초점교정신호는 상기 측정된 물리량의 평균을 나타내고, 시료의 관찰위치와 적어도 하나의 시료상의 위치가 상기 이동수단에 의해 측정위치에 위치되었을때 상기 측정수단이 측정위치에서 상기 물리량을 측정하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  9. 전자빔을 발생하는 수단; 상기 전자빔을 시료에 조사하는 수단; 상기 시료에 상기 전자빔의 초점을 맞추는 수단; 상기 시료로부터 신호특성이 발생되도록 시료에 전자빔을 주사하는 수단; 검출신호에 기초하여 시료의 상을 디스플레이할수 있도록 발생된 신호를 검출하는 수단; 상기 전자빔의 가로방향으로 시료를 이동시키는 수단; 시료가 이동된 때 조사빔이 조사되는 복수의 위치에서의 시료의 높이에 관한 물리량을 측정위치에서 측정하는 수단; 상기 복수의 위치중의 하나로서 시료의 이동이 정지되었을때 상기 전자빔이 시료에 조사되는 위치인 시료상의 관찰위치에 시료가 이동되어져서 전자빔이 조사되도록 한때, 시료상에 전자빔의 초점이 맞추어지도록 상기 측정된 물리량에 기초하여 통계적 초점 교정신호를 발생시키고, 상기 발생된 통계적 초점교정신호에 기초하여 상기 초점맞춤수단을 제어하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
  10. 제9항에 있어서, 상기 통계적 초점교정신호는 상기 측정된 물리량의 평균을 나타내는 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960008987A 1995-03-30 1996-03-29 주사형전자현미경 KR100416200B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07277095A JP3216474B2 (ja) 1995-03-30 1995-03-30 走査型電子顕微鏡
JP95-072770 1995-03-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960035741A true KR960035741A (ko) 1996-10-24
KR100416200B1 KR100416200B1 (ko) 2004-05-10

Family

ID=13498951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960008987A KR100416200B1 (ko) 1995-03-30 1996-03-29 주사형전자현미경

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5614713A (ko)
EP (1) EP0735563B1 (ko)
JP (1) JP3216474B2 (ko)
KR (1) KR100416200B1 (ko)
DE (1) DE69623841T2 (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6172363B1 (en) * 1996-03-05 2001-01-09 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern
JP3424512B2 (ja) * 1997-07-18 2003-07-07 株式会社日立製作所 粒子ビーム検査装置および検査方法並びに粒子ビーム応用装置
US6107637A (en) * 1997-08-11 2000-08-22 Hitachi, Ltd. Electron beam exposure or system inspection or measurement apparatus and its method and height detection apparatus
WO2007090537A2 (de) * 2006-02-03 2007-08-16 Carl Zeiss Nts Gmbh Fokussier- und positionierhilfseinrichtung für ein teilchenoptisches rastermikroskop
US8314627B2 (en) * 2006-10-13 2012-11-20 Ricoh Company, Limited Latent-image measuring device and latent-image carrier
KR100844280B1 (ko) * 2006-12-26 2008-07-07 한국기초과학지원연구원 투과전자현미경용 홀더의 오차측정 장치 및 방법
DE102008001812B4 (de) * 2008-05-15 2013-05-29 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Positioniereinrichtung für ein Teilchenstrahlgerät
JP4974121B2 (ja) * 2008-09-22 2012-07-11 東芝エレベータ株式会社 昇降機システム
JP5554620B2 (ja) * 2010-04-14 2014-07-23 株式会社ニューフレアテクノロジー 描画装置、描画方法および描画装置の異常診断方法
US9378921B2 (en) * 2012-09-14 2016-06-28 Delmic B.V. Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2116931A5 (fr) * 1970-12-11 1972-07-21 Onera (Off Nat Aerospatiale) Dispositif de protection d'appareillages d'etude d'echantillons a l'aide d'un pinceau d'electrons
FR2498767A1 (fr) * 1981-01-23 1982-07-30 Cameca Micro-analyseur a sonde electronique comportant un systeme d'observation a double grandissement
US4468565A (en) * 1981-12-31 1984-08-28 International Business Machines Corporation Automatic focus and deflection correction in E-beam system using optical target height measurements
US4616209A (en) * 1983-05-18 1986-10-07 Eaton Corporation "Keep warm" control
US4821196A (en) * 1987-02-20 1989-04-11 International Business Machines Corporation High resolution automatic focus correction electronic subsystem for E-beam lithography
JPH077653B2 (ja) * 1987-04-11 1995-01-30 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡による観察装置
JPH0754684B2 (ja) * 1987-08-28 1995-06-07 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
JPH01120749A (ja) * 1987-11-02 1989-05-12 Hitachi Ltd 電子顕微鏡の自動焦点合せ装置
JPH0264643A (ja) * 1988-08-31 1990-03-05 Seiko Instr Inc 集束イオンビーム装置
CA1308203C (en) * 1989-06-01 1992-09-29 Nanoquest (Canada) Inc. Magnification compensation apparatus
JPH0367450A (ja) * 1989-08-07 1991-03-22 Jeol Ltd ウエハ移動時の自動焦点合わせ方法
JP2788091B2 (ja) * 1990-03-02 1998-08-20 株式会社佐竹製作所 無洗米化のための白米処理方法及びその装置
US5216235A (en) * 1992-04-24 1993-06-01 Amray, Inc. Opto-mechanical automatic focusing system and method
JP2875940B2 (ja) * 1993-08-26 1999-03-31 株式会社日立製作所 試料の高さ計測手段を備えた電子ビーム装置
JP3231516B2 (ja) * 1993-10-12 2001-11-26 セイコーインスツルメンツ株式会社 電子線マイクロアナライザ
JPH07139607A (ja) * 1993-11-15 1995-05-30 Smc Corp 回転揺動軸による回転体の間欠回転装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0735563A2 (en) 1996-10-02
KR100416200B1 (ko) 2004-05-10
EP0735563A3 (en) 1997-03-19
EP0735563B1 (en) 2002-09-25
US5614713A (en) 1997-03-25
JP3216474B2 (ja) 2001-10-09
DE69623841D1 (de) 2002-10-31
DE69623841T2 (de) 2003-05-22
JPH08273575A (ja) 1996-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR870700244A (ko) 레이저 웨이퍼 측정시스템
JPH0540035A (ja) 非接触高さ計測装置
KR960035741A (ko) 주사형 전자현미경
CN106052585A (zh) 一种面形检测装置与检测方法
CA2398540A1 (en) Method for generating control output for a position control loop
JPH0623808B2 (ja) 光学器械の自動焦点調節装置
JPH077653B2 (ja) 走査電子顕微鏡による観察装置
CN101738164B (zh) 一种实时标定四象限探测器的方法
JP2011080978A (ja) 測定装置
JPH05332934A (ja) 分光装置
JPH11173821A (ja) 光学式検査装置
JP3510359B2 (ja) 光学測定装置
JP2008261829A (ja) 表面測定装置
WO2019244275A1 (ja) 観察装置
JP3217637B2 (ja) 自動焦点合わせ機構付き電子プローブマイクロアナライザ
KR950019637A (ko) 광학식 측정장치 및 그 측정방법
JPH085798A (ja) X線顕微鏡
JPS5694742A (en) Electronic beam exposure device
JPS61153502A (ja) 高さ検出装置
JPH08106040A (ja) 位置検出装置
JPH0783623A (ja) 厚み計測方法及び装置
JPH06137827A (ja) 光学的段差測定器
JPH06147866A (ja) 光学的表面形状計測装置
JPH055657A (ja) 固体ストリークカメラ
JPH06249648A (ja) 変位計

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131219

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141219

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151217

Year of fee payment: 13