JP2008261829A - 表面測定装置 - Google Patents

表面測定装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008261829A
JP2008261829A JP2007127372A JP2007127372A JP2008261829A JP 2008261829 A JP2008261829 A JP 2008261829A JP 2007127372 A JP2007127372 A JP 2007127372A JP 2007127372 A JP2007127372 A JP 2007127372A JP 2008261829 A JP2008261829 A JP 2008261829A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measured
light
objective lens
reflected
brightness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007127372A
Other languages
English (en)
Inventor
Michinobu Mizumura
通伸 水村
Yoshio Watanabe
由雄 渡辺
Makoto Hatanaka
誠 畑中
Teruya Tomioka
照也 冨岡
Atsushi Shimoura
厚志 下浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON GIJUTSU CENTER KK
V Technology Co Ltd
Original Assignee
NIPPON GIJUTSU CENTER KK
V Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON GIJUTSU CENTER KK, V Technology Co Ltd filed Critical NIPPON GIJUTSU CENTER KK
Priority to JP2007127372A priority Critical patent/JP2008261829A/ja
Publication of JP2008261829A publication Critical patent/JP2008261829A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

【課題】反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを高速で測定することができる表面測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系2を有した表面測定装置1であって、この共焦点光学系2の対物レンズ27と結像レンズ25との間に、この対物レンズ27と同軸に設けた遮光板26と、この対物レンズ27と同軸に、被測定面6aにレーザ光を照射するレーザ発振器20と、前記対物レンズ27を介して前記被測定面6aの像の輝度を検出する光検出手段21と、この共焦点光学系2の焦点面を被検物に垂直に相対移動させるピエゾ素子25aとを有することを特徴としている。
【選択図】図2

Description

本発明は、共焦点光学系を有した被測定物の表面測定装置に関し、詳しくは、被測定面の下面に反射率の高い部分を有する被測定物の被測定面の高さを、高速で測定する表面測定装置に係るものである。
従来、微小な被測定物の形状の測定には、共焦点顕微鏡等の形状測定装置が知られている。
この共焦点顕微鏡による微小な被測定物の形状は、共焦点顕微鏡の対物レンズの焦点面と試料との相対的な位置を光軸方向に変化させ、共焦点絞りを介して検出器に入射する被測定物を含む高さ方向の走査画像を取得・保存した後、その走査画像を順に読み出して輝度を検出し、その輝度が最大となる対物レンズと被測定物表面の相対位置から被検部位の高さを求めるものである。(特許文献1)
また、上記装置を用いて、反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さ測定する場合(例えば、反射率の高い金属面上に、反射率の低い透明膜(被測定物)がある場合等)では、前記光軸方向における前記輝度のピークが複数検出されるため、ソフト上の処理等を行って被測定面の輝度のピーク値を算出し、この部分の高さをもとめている。(特許文献2)
特開2006−30039号 特開平08−43018号
ところが、前記被測定物の透明膜の厚みが厚い場合は、前記輝度のピークが複数検出されるが(図4a)、前記透明膜の厚みが薄い場合は、被測定物の表面からの反射光の輝度のピークと、被測定物の裏面からの反射光の輝度のピークが近接し、一つのピークとして観察されてしまう。(図4b)。
その結果、前記裏面からの反射光の強度が、前記表面からの反射光の強度より高い場合は、この裏面からの反射光によって、この表面からの反射光の輝度が正確に測定できず、被測定面の高さ測定が困難となる場合があった。
また、前記被測定物の表面からの反射光の輝度のピークと、被測定物の裏面からの反射光の輝度のピークが近接ししている場合は、測定用の光の波長をより短いものにするか、対物レンズの開口数を大きなものにすることによって、分離可能であるが、被測定物裏面からの反射光の輝度のピーク値が、被測定物の表面からの反射光の輝度のピーク値より大きいため、特許文献2のような処理が必要になり、処理が複雑になる問題がある。
そこで、本発明は、上記問題点を鑑み、反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを、高速で、簡単に測定することができる表面測定装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明は以下の特徴を有している。
即ち、第1の本発明に係る表面測定装置は、共焦点光学系を有した表面測定装置であって、この共焦点光学系の対物レンズと結像レンズの間に、対物レンズと同軸に遮光板を設けたことを特徴としている。
また、第2の発明に係る表面測定装置は、共焦点光学系を有した表面測定装置であって、この共焦点光学系の対物レンズと結像レンズとの間に、この対物レンズと同軸に設けた遮光板と、この対物レンズと同軸に、被測定物に光を照射する光学手段と、前記対物レンズを介して前記被測定物の像の輝度を検出する光検出手段と、この共焦点光学系の焦点面を被検物に垂直に相対移動させる移動手段と、を有することを特徴と表面測定装置。
以上の構成によって、本発明は、以下のような優れた効果を有している。
請求項1または2に係る発明によれば、共焦点光学系の対物レンズと結像レンズの間に、対物レンズと同軸に遮光板を設けているため、対物レンズを経て、被測定物に対物レンズと同軸に照射される光の内、前記遮光板の外縁より内側の光は遮断され、前記被測定物には所定の入射角度以上の光が照射される。 このため、前記遮光板で遮光される光量だけ、前記被測定物からの反射光の輝度が低下するが、反射率の小さい被測定物の表面からの反射光の輝度低下量より、反射率の大きな被測定物の裏面からの反射光の輝度低下量の方が大きくなる。
即ち、図7に示すように、被測定面6a及び金属膜6bで反射されるレーザ光の輝度は被測定面6a及び金属膜6bに対する、そのレーザ光の入射角度によって変化し、入射角度が小さい領域では、金属膜6bからの反射レーザ光の輝度が高く、入射角度の大きな領域では被測定面6aからの反射レーザ光の輝度が高い。(入射角度が小さい領域では、金属膜6bからの反射光のエネルギーが高く、被測定面6aからの反射レーザ光のエネルギーが低い。一方、入射角度の大きい領域では、金属膜6bからの反射レーザ光のエネルギーが低く、被測定面6aからの反射レーザ光のエネルギーが高い。)
そこで、入射角度の小さい領域(例えば、図7の入射角度Φ以下)のレーザ光を遮断することによって、被測定面6aからの反射レーザ光のエネルギーをあまり減少させず(図7のB)、金属膜6bからの反射レーザ光のエネルギーを大幅に減少させることができる(図7のA)。
そのうえ、被測定物の表面からの反射レーザ光は、前記対物レンズによって捉えられるが、図3に示すごとく、被測定物の表面を透過して被測定物の裏面(金属膜)に達したレーザ光は、その裏面で反射され、再度、前記被測定物の表面に向かい、その一部が被測定物の表面の裏側で、再度裏面側に反射されるため、被測定物の裏面からの反射光の内、前記被測定物の表面を透過できたレーザ光が前記対物レンズで捉えられる。
その結果、前記対物レンズで捉えられる、前記被測定物の裏面からの反射光の輝度がさらに低下し、前記被測定物の表面からの反射レーザ光の輝度測定が容易に測定できる。
以下、添付図面(図1〜8)に基づいて、本発明の一実施の形態に係る表面検査装置ついて説明する。図1は本発明の一実施の形態に係る表面測定装置1を示す概念図である。
この表面測定装置1は、共焦点光学系2を用いて被測定物(以下、「ワーク」という)6の被測定面6aの高さを測定するもので、共焦点光学系2の他、観察光学系3と、フォーカス調整手段4と、制御手段5を備えている。
尚、ワーク6は、被測定面6a(反射率の低い透明膜)と、この透明膜の下側に位置し、この透明膜の反射率より高い反射率を有する金属膜6bとから構成されている(図3)。
共焦点光学系2は、ワーク6を載置しXY軸方向(Y軸は図1の紙面に直角な方向)に移動させるためのXYステージ7の上方に設けられて、XYステージ7に載置されたワーク6の被測定面6aに対向して配置された対物レンズ27と、対物レンズ27の光軸と同軸に配置された結像レンズ25と、対物レンズ27と結像レンズ25との間に、対物レンズ27と同軸に配置された遮光板26と、対物レンズ27を介して被測定面6aにレーザ光(波長408nm)を照射するためのレーザ発振器20と、被測定面6aから反射された前記レーザ光を検知する光検出器21と、を備えると共に、レーザ発振器20と結像レンズ25との間に設けられ、レーザ発振器20から放射されるレーザ光をワーク6の被測定面6a側に反射させる他、被測定面6aの表面にレーザ光を走査させるためのレーザ走査手段24を備えている。
そして、レーザ発振器20とレーザ走査手段24との間には、レーザ発振器20から放射される前記レーザ光をレーザ走査手段24側に向けるためのハーフミラー23が設けられており、レーザ発振器20から放射された前記レーザ光は、ハーフミラー23によってレーザ走査手段24側に向けられてから、結像レンズ25、遮光板26、ハーフミラー28、対物レンズ27を経て、被測定面6aに照射されるようになっている。
尚、ハーフミラー28は、共焦点光学系2の光軸と後述する観察光学系3の光軸を分離するためのものである。
また、ハーフミラー23のレーザ走査手段24と反対側の光軸上にコンデンサーレンズ22と光検出器21が設けられている。
光検出器21は被測定面6aから反射された前記レーザ光の輝度を検出するものであり、多数の受光素子を備えた二次元撮像手段である。
コンデンサーレンズ22は、被測定面6aからの反射レーザ光を前記光検出器21の受光素子上に集光するものである。
レーザ走査手段24は、個々に傾動する複数のマイクロミラー24aを平面状に配列した反射面(例えば、特開2006−266823の測定点選択手段4)を有しており、このマイクロミラー24aのサイズは、例えば、一辺が十数μmの角型である。
そして、マイクロミラー24aは図6のごとく、作動時(以下、「ミラーONの状態」という)に傾くようになっており、このミラーONの状態でレーザ発振器20から放射されたレーザ光が被測定面6aの方向に反射される。一方、マイクロミラー24aが作動していない時(以下、「ミラーOFFの状態」という)は図6の破線で示す状態になっており、このミラーOFFの状態でレーザ発振器20から放射されたレーザ光は、被測定面6aの方向と異なる方向(図6の破線矢印で示される方向)に反射され、図示しないレーザ光吸収体により吸収されるようになっている。
尚、マイクロミラー24aの1つで反射されるレーザ光のサイズは、マイクロミラー24aの前記サイズ(十数μm角)と同程度のレーザ光である。
そして、レーザ走査手段24の少なくとも1つ以上のマイクロミラー24aを作動させることによって、レーザ走査手段24によって被測定面6a側に反射にされる前記レーザ光は、所定のサイズのレーザ光(以下、「レーザスポット光」という)となる。
尚、後述の制御手段5によって、前記平面状に配列された複数のマイクロミラー24aの少なくとも1つ以上のマイクロミラー24aを順次ミラーON、ミラーOFFの状態することにより、被測定面6a上を前記レーザスポット光で走査することができ、被測定面6aのプロファイルの計測も行える。
そして、被測定面6aに照射された前記レーザスポット光うち、対物レンズ27の合焦点位置から反射されたレーザスポット光が、この合焦点位置と光学的に共役な関係にあるマイクロミラー24a上に結像して、ハーフミラー23側に反射されるため、前記マイクロミラー24aはピンホールとしての機能を有するものである。
対物レンズ27は、例えば、開口数(以下、「NA」という)0.92、瞳径略7.6mmのものである。そして、図2のごとく、対物レンズ27と結像レンズ25の間に、直径が数mm(上記瞳径より小さい)の遮光板26が対物レンズ27と同軸に配置されており、被測定面6aに照射される前記レーザスポット光のうち、所定の入射角度Φ以下の前記レーザ光が遮光される。尚、この所定の入射角度Φ以下のレーザ光が遮光された前記レーザスポット光を以下、「限定レーザスポット光」という。
図3に示すように、被測定面6aに照射された、前記限定レーザスポット光は、被測定面6aで一部が反射され、その余が前記透明膜を透過し、金属膜6bで反射される。
そして、金属膜6bで反射された前記限定レーザスポット光は被測定面6aに向かい、一部が被測定面6aと空気(表面測定装置1は大気中に設置され、対物レンズ27とワーク6との間は大気である。)との境界面で再び金属膜6b側に反射され、その余が被測定面6aと空気との境界面を透過し、前記被測定面6aで一部反射された前記限定レーザスポット光と共に、対物レンズ27によって捉えられる。
さらに、前記対物レンズ27で捉えられた前記限定レーザスポット光のうち対物レンズ27の合焦点位置から反射された前記限定レーザスポット光が、レーザ走査手段24のマイクロミラー24a(ピンホールとして機能する)に結像し、光検出器21側に反射され、コンデンサーレンズ22で光検出器21受光素子に結像される。
即ち、前述のごとく、開口数の大きな対物レンズ27を使用することによって、被測定面6aから反射された前記限定レーザスポット光の輝度ピークと、金属膜6bから反射された前記限定レーザスポット光の輝度のピークとを分離することができ、遮光板26を使用することによって、金属膜6bで反射された前記限定レーザスポット光の輝度の最大値(図5のI6b)を、被測定面6aで反射された前記限定レーザスポット光の輝度の最大値(図5のI6a)より小さくすることができる(図5)。
また、結像レンズ25にはピエゾ素子25aが取り付けられている。このピエゾ素子25aは、結像レンズ25を対物レンズ27の光軸方向にステップ移動または連続移動させることにより、共焦点光学系2の焦点面を対物レンズ27の光軸と平行な軸方向(以下、「Z軸方向」という)に移動させるものである。
前記ステップ移動または連続移動する移動量は、後述する制御装置内に設けられているピエゾ素子駆動回路(図示せず)からピエゾ素子25aに印加する電圧によって、調整できるようになっており、その印加電圧から、ピエゾ素子25aによる結像レンズ25のZ軸方向の移動量がわかるようになっている。
観察光学系3は、白色光を照射する白色光源32と、被測定面6aの画像を撮像するCCDカメラ30とを備えている他、白色光を照射する白色光源32からハーフミラー28に至る光路上に配置されたハーフミラー33、ハーフミラー33とCCDカメラ30との間に配置されたコンデンサーレンズ31とを備えている。
白色光源32から被測定面6aにいたる光路のうち、ハーフミラー28、対物レンズ27を経て被測定面6aに至る光路は、共焦点光学系2の光路と共通している。
また、白色光源32からの白色光は、共焦点光学系2によって、高さ測定を行う前に、後述のフォーカス調整手段4によって、CCDカメラ30のフォーカスを被測定面6aに合せる際等に用いられるものである。
フォーカス調整手段4は、ベース41と、ベース41をZ軸方向に移動可能にするベース移動装置40(例えば、図示しない、走行ガイド、ステッピングモータ、駆動用スクリューとナット等で構成されている)を備えており、ベース41には、共焦点光学系2及び観察光学系3が一体的に取り付けられている。
ベース移動装置40の前記ステッピングモータを、後述する制御手段5で作動させることによって、ベース41をZ軸方向に移動させて、観察光学系3のCCDカメラ30のフォーカスを被測定面6a上に合せるものである。
制御手段5は、演算制御装置50と、メモリ51と、表示器52と、演算制御装置50にデータ入出力等を行うコンピュータ(以下、「外部PC」という)53と、を備えている。
そして、演算制御装置50には、レーザ発振器20と、光検出器21と、レーザ走査手段24と、ピエゾ素子25aと、白色光源32と、CCDカメラ30と、ベース移動装置40が接続されている。
この演算制御装置50は、レーザ走査手段24の複数のマイクロミラー24a群の中から所定のマイクロミラー24aを選択して作動させると共に、光検出器21で検出された前記限定レーザスポット光の輝度及び前記ピエゾ素子25aへの印加電圧から最大輝度を示す結像レンズ25のZ軸方向の位置から基準面または被測定面6aのZ軸方向の位置データを求め、基準面のZ軸方向の位置データ及び被測定面6aのZ軸方向の位置データから、被測定面6aの高さを検出するものである。
前記基準面または被測定面6aの最大輝度は、前記基準面または被測定面6aから反射される前記限定レーザスポット光の輝度を、結像レンズ25をZ軸方向に移動させる毎に、光検出器21で検出し、この検出した輝度を夫々一つ前に検出されメモリ51に記憶されている輝度と比較し、前記検出された輝度が前記記憶された輝度より高い場合は、前記記憶された輝度を更新し、前記検出された輝度が前記記憶された輝度より低い場合は、前記記憶された輝度は更新しないことにより、輝度の更新が行われなくなったときに、記憶されている輝度を、前記基準面のまたは被測定面6aの最大輝度と定めることによりおこなうものである。
演算制御装置50は、外部PC53から予め設定された作動パターンにしたがってレーザ走査手段24のマイクロミラー24a群のうち所定のマイクロミラー24aを選択して作動させるほか、外部PC53から予め設定された結像レンズ25の移動条件(ステップ送りの場合は、送り速度及び送り量を、連続送り場合は送り速度)にしたがって、ピエゾ素子25aを作動させるものである。さらに、白色光源32のON−OFFを行う他、ベース移動装置40を作動させて、CCDカメラ30のフォーカスを被測定面6aに合せると共に、CCDカメラ30で撮像した被測定面6aの画像を表示器52に表示させるものである。
次に前記構成の表面測定装置の動作について図8のフローチャートを参照して説明する。まず、ステップ1(S1)において、ベース41および結像レンズ25を、夫々のZ軸方向の所定の位置にセットしてから、CCDカメラ30を作動させて、観察光学系3の白色光源32をONし、ワーク6が載置された前記測定装置のXYステージ7の駆動手段を作動し、予め設定してある、ワーク6の基準面が対物レンズ27の直下に位置するように移動させた後,CCDカメラ30のフォーカスをワーク6の被測定面6aに合わせてから、観察光学系3の白色光源32をOFFさせる。
ステップ2(S2)において、共焦点光学系2の、レーザ発振器20を作動させ、レーザ光を放射し、レーザ走査手段24の所定のマイクロミラー24aを作動させて、前記基準面に対物レンズ27を介して、前記限定レーザスポット光を照射する。
その後、ピエゾ素子25aを作動させることにより、結像レンズ25をZ軸方向に移動させながら、前記基準面から反射される限定レーザスポット光の輝度を光検出器21で連続的に検出し、結像レンズ25のZ軸方向の位置毎の輝度データを、演算制御装置50に入力する。
この結像レンズ25のZ軸方向の位置毎の輝度を夫々一つ前に検出されメモリ51に記憶されている輝度と比較し、前記検出された輝度が、前記記憶された輝度より高い場合は、前記記憶された輝度を更新し、前記検出された輝度、前記記憶された輝度より低い場合は、前記記憶された輝度は更新しないことにより、輝度の更新が行われなくなったときに、記憶されている輝度を最大輝度と定め、その最大輝度が検出された結像レンズ25のZ軸方向の位置データを、基準面のZ軸方向の位置データとして、メモリ51に記憶する。
ステップ3(S3)において、その他のマイクロミラー24aを作動させて被測定面6aに限定レーザスポット光を照射した後、ピエゾ素子25aを再度作動(Z軸方向上向きに)させて、結像レンズ25をZ軸方向に移動させながら、被測定面6aから反射される限定レーザスポット光の輝度を光検出器21で連続的に検出し、結像レンズ25のZ軸方向の位置毎の輝度データを、演算制御装置50に入力する。
この結像レンズ25の位置毎の輝度を夫々一つ前に検出されメモリ51に記憶されている輝度と比較し、前記検出された輝度が、前記記憶された輝度より高い場合は、前記記憶された輝度を更新し、前記検出された輝度、前記記憶された輝度より低い場合は、前記記憶された輝度は更新しないことにより、輝度の更新が行われなくなったときに、記憶されている輝度を最大輝度と定め、その最大輝度が検出された結像レンズ25のZ軸方向の位置データを、被測定面6aのZ軸方向の位置データとして、メモリ51に記憶する。
ステップ4(S4)において、メモリ51に記憶されている、前記基準面のZ軸方向の位置データ及び前記被測定面6aのZ軸方向の位置データを演算制御装置50に取り込み、両者の差を演算し、被測定面6aの高さを検出し、外部PC53に出力し、被測定面6aの高さ測定を終了する。
ステップ5(S5)において、その他の被測定面6aがあれば、その被測定面6aについて前記ステップ1〜4を繰り返し、その他の被測定面6aがなければ、ワーク6の表面測定を終了する。
尚、上述の実施の形態に係る表面測定装置1では、共焦点光学系2において、NA0.92、瞳径略7.6mmの対物レンズ27、直径が数mm(対物レンズ27の瞳径より小さい)の遮光板26を使用しているが、対物レンズ27及び遮光板26の条件は、これに限らず、対物レンズ27のNAは被測定面6aから反射された限定レーザスポット光の輝度ピークと、金属膜6bから反射されたレーザスポット光の輝度のピークとを分離することができるものであればよく、また、遮光板25のサイズは、金属膜6bで反射された前記レーザスポット光の輝度の最大値(図5のI6b)を、被測定面6aで反射されたレーザスポット光の輝度の最大値(図5のI6a)より小さくすることができるものであればよい。
さらに、図1において、遮光板26がハーフミラー28と結像レンズ25との間に位置する場合について示しているが、遮光板26を設ける位置は、対物レンズ27と結像レンズ25との間であればよく、例えば、図1のハーフミラー28と対物レンズ27との間に設けてもよい。
尚、遮光板26の径の対物レンズ27の瞳径に対する比率を大きくすることによって、金属膜6bから反射される限定レーザスポット光の輝度をさらに低下させることが可能であるが、遮光板26の径をあまり大きくすると、被測定面6aから反射される限定レーザスポット光の輝度も低下し、高さ測定の精度が低下するため、遮光板26の径の対物レンズ27の瞳径に対する比率は、被測定面6aから反射される限定レーザスポット光の輝度ピーク値を、あまり低下させず、且つ、金属膜6bから反射される限定レーザスポット光の輝度ピーク値が、被測定面6aから反射される限定レーザスポット光の輝度ピーク値より低くなる比率にするのがよい。
尚、本実施の形態に係る表面測定装置1では、対物レンズ25のZ軸方向の移動手段にピエゾ素子25aを用いているが、その他の移動手段、たとえば、走行用ガイドと、ステッピングモータと、ボールネジ及びナットから構成されるフォーカス調整手段4のベース移動装置40のような移動手段を用いてもよい。
また、本実施の形態に係る表面測定装置1では、輝度測定にあたって、結像レンズ25をZ軸方向に移動させる方法を採用しているが、結像レンズ25と対物レンズ27のZ軸方向の間隔を変化させず、共焦点光学系2が取り付けられているベース41を被測定表面6aに対し接近離間させる方法や、対物レンズ27のみをZ軸方向に上下させてもよい。
さらに、ステージ7をZ軸方向に移動させることにより、被測定面6aを対物レンズ27に接近離間させるようにしてもよい。
さらに、また、レーザ走査手段24には、ニポウディスクを用いてもよい。
本発明に係る表面測定装置の実施の形態を示す概念図である。 上記表面測定装置の遮光板によるレーザ光の作用を説明する説明図である。 ワークに対するレーザ光の入射と反射の関係を説明する説明図である。 透明膜と金属面から構成されるワークの輝度に関する説明図であって、(a)は透明膜が厚い場合の反射光の輝度を説明する概念図であり、(b)は透明膜が薄い場合の輝度を説明する概念である。 遮光板の効果を説明する説明図であり、(a)は遮光板がない場合を示し、(b)は遮光板がある場合を示している。 レーザ走査手段の作用を説明する概略図である。 被測定面及び金属膜に対するレーザ光の入射角度による、夫々の反射光の輝度変化を説明する概念図 本発明に係る表面測定装置の動作を説明するフローチャートである。
符号の説明
1 表面測定装置
2 共焦点光学系
3 観察光学系
4 フォーカス手段
5 制御手段
6 ワーク
20 レーザ発振器
21 光検出器
24 レーザ走査手段
25 結像レンズ
25a ピエゾ素子
26 遮光板
27 対物レンズ
30 CCDカメラ
32 白色光源
50 演算制御装置

Claims (2)

  1. 共焦点光学系を有した表面測定装置であって、この共焦点光学系の対物レンズと結像レンズとの間に、この対物レンズと同軸に遮光板を設けたことを特徴とする表面測定装置。
  2. 共焦点光学系を有した表面測定装置であって、この共焦点光学系の対物レンズと結像レンズとの間に、この対物レンズと同軸に設けた遮光板と、この対物レンズと同軸に、被測定物に光を照射する光学手段と、前記対物レンズを介して前記被測定物の像の輝度を検出する光検出手段と、この共焦点光学系の焦点面を被検物に垂直に相対移動させる移動手段と、を有することを特徴と表面測定装置。
JP2007127372A 2007-04-12 2007-04-12 表面測定装置 Pending JP2008261829A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007127372A JP2008261829A (ja) 2007-04-12 2007-04-12 表面測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007127372A JP2008261829A (ja) 2007-04-12 2007-04-12 表面測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008261829A true JP2008261829A (ja) 2008-10-30

Family

ID=39984401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007127372A Pending JP2008261829A (ja) 2007-04-12 2007-04-12 表面測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008261829A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103105143A (zh) * 2013-01-29 2013-05-15 哈尔滨工业大学 基于被测表面荧光激发的差动共焦显微测量装置
JP2017090634A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 株式会社ミツトヨ 光ピックアップ装置
EP3712669A4 (en) * 2017-11-17 2021-04-07 FUJIFILM Corporation OBSERVATION DEVICE AND METHOD, AND OBSERVATION DEVICE CONTROL PROGRAM

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0771911A (ja) * 1993-09-06 1995-03-17 Nikon Corp 位置検出装置
JP2001059712A (ja) * 1999-08-24 2001-03-06 Hitachi Ltd 立体形状検出方法及びその装置並びに共焦点検出装置
JP2006139181A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Olympus Corp 顕微鏡装置
JP2006266823A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 V Technology Co Ltd 微小高さ測定方法及びそれに用いる微小高さ測定装置並びに変位ユニット
JP2006337113A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Sunx Ltd 光学測定装置
JP2006343596A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 共焦点型検査装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0771911A (ja) * 1993-09-06 1995-03-17 Nikon Corp 位置検出装置
JP2001059712A (ja) * 1999-08-24 2001-03-06 Hitachi Ltd 立体形状検出方法及びその装置並びに共焦点検出装置
JP2006139181A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Olympus Corp 顕微鏡装置
JP2006266823A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 V Technology Co Ltd 微小高さ測定方法及びそれに用いる微小高さ測定装置並びに変位ユニット
JP2006337113A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Sunx Ltd 光学測定装置
JP2006343596A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 共焦点型検査装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103105143A (zh) * 2013-01-29 2013-05-15 哈尔滨工业大学 基于被测表面荧光激发的差动共焦显微测量装置
CN103105143B (zh) * 2013-01-29 2015-07-29 哈尔滨工业大学 基于被测表面荧光激发的差动共焦显微测量装置
JP2017090634A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 株式会社ミツトヨ 光ピックアップ装置
CN106908386A (zh) * 2015-11-09 2017-06-30 株式会社三丰 光学拾取装置
US10620418B2 (en) 2015-11-09 2020-04-14 Mitutoyo Corporation Optical pickup device
EP3712669A4 (en) * 2017-11-17 2021-04-07 FUJIFILM Corporation OBSERVATION DEVICE AND METHOD, AND OBSERVATION DEVICE CONTROL PROGRAM
US11402607B2 (en) 2017-11-17 2022-08-02 Fujifilm Corporation Observation device, observation method, and observation device control program

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6636104B2 (ja) 検出感度改善のための検査ビームの成形
JP5580206B2 (ja) レーザ光機械加工
US9606071B2 (en) Defect inspection method and device using same
TWI464362B (zh) 用於測量物體高度及獲得其對焦圖像的裝置與方法
TW201604609A (zh) 自動聚焦系統
JP2006084794A (ja) 焦点位置制御機構付き観察装置
KR100679643B1 (ko) 자동초점 조절패턴을 채택하는 자동초점 조절장치 및그것을 사용한 자동초점 조절방법
JP7097934B2 (ja) カソードルミネッセンス光学部品の軸合わせのための系および方法
JP2018516380A (ja) 光学機器の連続非同期オートフォーカスのためのシステムおよび方法
JP5973756B2 (ja) 焦点位置変更装置およびこれを用いた共焦点光学装置
JP2010121960A (ja) 測定装置及び被検物の測定方法
JP2010216880A (ja) 変位センサ
KR20190077490A (ko) 투명 기판 상의 결함 검사 방법 및 장치, 및 입사광 조사 방법
JP2010217124A (ja) 形状測定装置及び方法
JP2018032005A (ja) オートフォーカスシステム、方法及び画像検査装置
JP2008261829A (ja) 表面測定装置
JP5576195B2 (ja) オートフォーカス装置
JPH05332934A (ja) 分光装置
JP2008046362A (ja) 光学装置
JP7034280B2 (ja) 観察装置
JPH09230250A (ja) 光学顕微鏡自動合焦点装置
JP2004102032A (ja) 走査型共焦点顕微鏡装置
JP2000193434A (ja) 異物検査装置
JP2006162462A (ja) 画像測定装置
KR101138648B1 (ko) 고속기판검사장치 및 이를 이용한 고속기판검사방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111129

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120127

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20120410

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20120807

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02