JP5580206B2 - レーザ光機械加工 - Google Patents
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Description
最新技術ではさらに、三角形分割方法や、自動焦点機能のための、斜めに位置決めした共焦点スリット膜の手段によるコントラスト評価および位置決定を伴った画像化方法が知られている。三角形分割方法の場合、平行化したレーザ光をレンズの瞳平面内に反射させ、これにより、画像化光路に対するこのレーザ光の前進から、サンプルで反射されたレーザ光のz位置に関する結果を得る。レーザ走査リソグラフィで機械加工する従来サイズの工作物を用いた場合には、こういったシステムの自動焦点の品質では不十分である。さらに、測定結果が、工作物の、あるいはこのために採用した検出器の中心で得られたものか、縁で得られたものかについてはっきりしない可能性もある。そのため、三角形分割方法は通常繰り返し実行することになり、比較的時間がかかってしまう。
さらに、斜めに位置決めした共焦点スリット膜の手段によって位置決定を行うことが先行技術より知られているが、この場合、スリット膜は照明光路の視野絞り面内に位置決めされ、サンプルに投影される(例えば独国特許出願公開第10319182A1号明細書参照)。サンプルから反射された光は、スリット膜に対して傾斜して配置されたCCDラインへ向けられ、次に、このCCDライン上で、反射された光が最大となる位置が決定される。この方法は非常に迅速であるが、サンプルまたはサンプル表面上の不純物のために強度が変動する可能性があるという問題を伴う。さらに、この(スリット膜の)隙間は高精度を達成する目的で非常に狭くなければならないため、隙間をCCDライン上に投影する際に多大な調整が必要になる。特に、レンズの写真フィールドの縁においては、精度を大幅に制限するスリット膜が有効である。したがって、このアプローチはレーザ走査リソグラフィには使用できない。
したがって、本発明は、透明な工作物のレーザ光による機械加工を、高精密な様式の2光子吸収の手段によって行うことができる方法および装置を提供する目的に基づく。
【課題を解決するための手段】
光変調器を、空間的または時間的に強度変調された変調物体を生成するように制御でき、またそのように配置した場合には、各種の工作物への特に優れた適合が得られる。この制御可能性は、照明されたLCDまたはDMD要素を光変調器として使用する方法により達成できる。採用する波長は、顕微鏡における通常の照明照射とは異なるものが好適である。原則的に、自動焦点装置の光変調器および/またはカメラは、機械加工用照射のための光路内に結合させることができる。潜在的に妨害となる顕微鏡からの照射は、適切なスペクトルフィルタによって、自動焦点装置のカメラの前で有効に抑制されたり、自動焦点装置内で消してしまうことが可能である。ビームスプリッタは、例えば、2光子機械加工用照射と交差しない20nmといった狭い波長範囲のみを反射できるように構成されている。原則的に、自動焦点機能には可視範囲全体と、NIRおよびUVとを使用できる。
透過光下での操作中に工作物2を監視するために、既述のカメラ16を使用する。照射23はコンデンサ24の手段によって工作物2内を通り、対物レンズ20の反対側へ案内される。この場合、照射は、ビームスプリッタ19、22の少なくとも一部分を透過するスペクトル範囲内にある。次に、透過光下での操作中に、工作物2が管レンズ25および対物レンズ20の手段によりカメラ16に画像化される。一実施形態では、管レンズ25はフィルタ26と共に上流に設けられ、このフィルタによって、例えば580nmの大部分の透過光照明がカメラ16に確実に到達できるようになる。フィルタ26は、例えばフィルタエッジが750nmといったショート・パス・フィルタとして配置できる。
自動焦点された照明の照射は、照明管光学系27および対物レンズ20を介して工作物2上に結合される。自動焦点光路21は、さらに、透過操作時に光源29によって、あるいは反射操作時に光源30によって照明される光変調器28を備えている。照明された光変調器28は、発光変調物体を生成する。この変調物体は、照明管光学系27、ビームスプリッタ22、対物レンズ20を介して工作物2内に投影され、画像化される。こうして自動焦点照明が実現される。工作物2内に生成されたこの画像は、例えば2次元カメラ15として配置でき、かつ自動焦点装置の光軸OA2上の上流にさらなるビームスプリッタ23と共に設置される自動焦点検出器によって、逆方向において検出される。
或る装置では、ビームスプリッタ22は、既に上述したように2色性のものとして配置され、光源29、30は、例えばあるいは顕微鏡では必要でない波長にて照射する。したがって、自動焦点装置は、工作物2の画像化または機械加工には使用されないスペクトル範囲内で動作する。
図3の構成では、光変調器28と、さらに変調物体とが光軸OA2に対して垂直に位置している。しかし、カメラ15とその像平面とは、光軸に対して斜めに位置している。光変調器28が例えばストリップパターンによって空間変調を実行する際には、図面の平面に対して垂直なカメラ15のライン内に最大コントラストが見られる。カメラ15に沿ったこのラインの位置は、光軸、即ちz方向に沿った焦点面の位置の尺度である。
この目的を果たすべく、顕微鏡光路13に別個のビームスプリッタ32を設けている。
このビームスプリッタは自動焦点照明の波長に応じて選択され、例えばビームスプリッタ22と同等の2色性を持つ。サンプルに投影された変調物体、または反射や後方拡散をカメラ15の手段によって検出できるようにするには、カメラ15の上流にそれぞれ対応するリレー光学系23を設ける。これらのリレー光学系の光学特徴により、カメラ15の像平面が、これと対になっている変調物体の平面と、理想的には光軸付近または光軸上において確実に交差できるようになる(さらに図3にも示す)。
この装置では、2次元光変調器28が光軸OA2と共に0〜90°、好ましくは20〜70°の角度を包囲する。この光変調器28も既に説明した構成と関連しており、したがって、透過型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、DMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)、あるいは、変位装置を装備した振幅格子であってよい。その構造は、やはり淡色、濃色の細片から成って居ることが好ましい。光変調器28は1または複数個の強力LED(発光ダイオード)によって照明されることが好ましい。これは、上述した応用にも適用される。光源29が透過型変調器内に、光源30が反射型変調器内に設けられている。光変調器28を用いて変調物体を生成するために、従来の、光を均質化するための光学装置および中間画像のための光学系を使用することができる。これら従来の装置は、図面を明瞭化する理由から図5(および先行の図面)中には示されていない。
光変調器28とさらに変調物体とは光軸に対して垂直に位置していないため、変調物体(例えば交互に配置された淡色/濃色細片)は光軸に対して斜めに、したがって工作物の深さで投影される。
これで較正が実行され、カバーガラスから染料を含有した媒体内までの境界面付近において、機械加工レーザ照射14の焦点を段階的に合わせながら、カメラ15で一連の写真が撮影される。説明したカメラ15の上流に配置したフィルタによって、機械加工用レーザ照射の波長よりも長い波長を持った、この場合には、励起レーザ放射として働く光のみが吸収される。カバーガラスと蛍光溶液との間の境界面の平面はこの一連の写真から決定される。測定の精密度を高めるには、任意で焦点スポット周囲の適切な画像領域にかけてカメラ15で取った信号を平均化することができる。こうして、図6中で光軸OA1に沿って延びているz座標の関数としての信号の例証が得られた。これによれば、縦軸上で信号強度I(ランダム単位)を示している。横軸上の軸座標zの単位はマイクロメートルである。曲線34は、z座標の関数としての強度信号である。曲線34の導出から測定点35が得られるか、または測定点からこの曲線が生成される。測定点35に変位が生じた場合でも、補間36によって精密度を高めることができる。補間36の最大位置または測定点35は、カバーガラスとサンプルとの間の境界のz座標を精密に表している。次に、このz位置が自動焦点装置のそれぞれのデータと比較され、基準化点として決定される。
不可避であるAFビームスプリッタ23から拡散した光は、複数の反射を介することによってのみ、即ち強力に減衰させた方法でカメラ15に到達する。これに加え、AFビームスプリッタ23の右手に位置する光学系から発せられ、カメラ15へ向かう全ての反射光は、中間画像と結合することで防止できる。
この目的を果たすべく、ビームスプリッタ22は干渉層を備えており、この干渉層は、例えば800nm未満の照射を45°の入射角で実質的に伝播させ、IR LEDの中心波長を持つ照射を実質的に反射する。ビームスプリッタ22は帯域に似たスペクトル挙動を行うこともできるため、自動焦点スペクトル範囲よりも上(例えば840nmよりも上)の波長も、45°の入射角で実質的に伝播させることができる。これらのビームスプリッタ特徴は他の実施形態でも使用可能である点を理解されるべきである。
サンプル内に配置された変調物体の投影またはその中間画像30の上流には遮断フィルタ50が設けられており、このフィルタにより、それぞれの自動焦点スペクトル範囲の照射のみがカメラ15に到達できる。したがって、サンプルの画像化から生じたこれ以外の照射は再び抑制される。
2.コントラスト信号は、雑音レベルを遥かに超える十分な信号レベルを持っていなければならない。
これにより、自動焦点対物レンズ52とカメラ15との間の距離は一定に保ったままで、zドライブ41による焦点ぼかしが全て補正される。自動焦点機能が働くことで、コントラストの中心は、自動焦点対物レンズ52の像平面の中間、したがってカメラ15の中間に保たれる。
そのため、自動焦点装置は以下の原理に従って動作する。光変調器は、中心波長840nmのIR LEDのような光源を設けた細片状の変調透過格子によって照明される。こうして生成された発光変調物体が顕微鏡の対物レンズ20の物体平面内に投影される。反射性の境界面が物体平面またはその周囲環境に配置されている場合には、格子構造が反射によって戻され、これらの反射光が2次元自動焦点カメラ15上に画像化される。カメラは投影の光軸に対して傾斜しているので、格子はカメラ表面の狭い領域内のみに集束されている形に見える。背景雑音を排除するために、2次元自動焦点カメラ上の強度分布をライン内で区別することができる。こうして、ライン毎にコントラストの中心が決定される。自動焦点信号の品質を向上させるには、任意で数本のラインのコントラストの中心の平均を取り、この平均したコントラストの中心の位置を、顕微鏡の対物レンズ20の焦点面に対して物体側の反射性境界面の位置と相関させ、これを自動焦点信号として使用する。直接レーザ光書き込みの最中には常に必要であるように、特に高い精密さが要求される場合には、コントラストの中心を可能な限り画像フィールドの中心に接近して置く必要がある。これは、機械加工用レーザ14の焦点もこの場所になるためである。これを行わないと、工作物2の屈曲部分、例えば上にポリマー(レジスト)が配置されるガラス板によって、較正測定に関して焦点がずれる可能性がある。
zドライブ41、縦方向調整機構(在る場合のみ)、任意の(x、y、z)アクチュエータの較正は、既述の蛍光サンプル較正の実行に基づいて行うことができる。
軸走査の場合、境界面に対して垂直な平面にて、望ましいレーザ光の移動が行われる。3次元容量の全体の処理が未完了であれば、各平面、即ち境界面上の新規の点にレーザ光が到達した後に、側方への移動が生じる。この新規の点が実際に境界面上に存在するかどうかを、自動焦点の手段によって任意にチェックすることができ、さらに、必要であれば修正が加えられる。この修正は、プレ走査中に決定した傾斜と基準化されるか、または(平面ではなく曲線とのフィッティングを行った場合には)工作物2のワーピングと基準化される形で行うこともできる。この新たな側部点のために、再度、サンプル面/境界面に対して垂直な走査が実施される。こうして、次の平面の処理が完了する。
以下は、自動焦点装置を設けた顕微鏡1の全ての実施形態または動作モードに当てはまる。
オンラインでのトラッキング中に、構造された照明によって生じる影響、即ち変調物体の画像を可能な限り低く抑えるために、ストリップパターンをサンプル上に変調物体として投影し、これを、交互様式で迅速に(>30Hz)にて側方へ変位させることができる。2つの位置の場合は、これは180°の位相シフトとなり、3つの位置の場合は、120°の位相シフトとなる。電子的な光変調器をトリガリングの最中に使用すれば、格子構造(即ち格子定数、デューティーサイクル)を非常に簡単に調整することができるので、時間平均的に均質な照明が得られる。最良の格子構造を、使用の各対物レンズ20、そのNA、拡大に合わせて調整することが可能である。
自動焦点装置によってサンプル内部を可能な限り深く測定できるようにするために、カメラ15を各光軸(例えば図7中の光軸OA2)に対して非対称に配置し、非対称な捕捉範囲を得るようにすることが可能である。例えば、境界面と対物レンズ20の設定した焦点面とが接合している場合、最初は捕捉範囲の縁付近でコントラストが最大である。これによって、捕捉範囲のこれ以外の縁は、境界面から設定した焦点面までの最大距離と関連し、また、この焦点面にはまだ集束を固定することができ、即ち最大保持範囲である。
Claims (13)
- 工作物(2)をレーザ光機械加工する方法であって、焦点面を有する対物レンズ(20)によって、レーザ光(14)が反射面を有する前記工作物(2)内または前記工作物(2)の表面上の焦点に集束されることで、2光子吸収の手段による機械的効果を生み出し、前記焦点の前記工作物(2)に対する位置は移動され、前記焦点の位置の基準を得るために、照明光が、変調器および前記対物レンズ(20)を介して前記工作物(2)へ投影され、さらに前記焦点面の中へ投影され、さらに、前記反射面で生じる前記投影の反射が自動焦点画像化光学系(27、43)により自動焦点像平面内に画像化され、該反射がカメラ像平面を有するカメラ(15)によって検出され、
前記反射面の位置は、前記レーザ光機械加工の最中に断続的に決定され、かつ焦点位置設定のための基準として使用されることを特徴とする方法。 - カバーガラス(38)が前記工作物(2)の上に配置され、前記工作物とカバーガラスとの間の境界が反射面として使用されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記変調器を通過した前記照明光は、前記レーザ光(14)のスペクトル範囲とは異なるスペクトル範囲の光を発し、前記レーザ光(14)の前記スペクトル範囲は前記検出にてフィルタリング除去されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 2光子吸収の手段により反射面を有する工作物(2)をレーザ光機械加工するための顕微鏡であって、工作物空間に配置される焦点面を有する対物レンズ(20)と、前記対物レンズ(20)によって前記工作物空間内に集束される機械加工用レーザ照射(14)を発する機械加工用レーザ光源(42)と、光変調器(28、29)を備えた自動焦点装置と、前記対物レンズ(20)と組み合わせて前記変調器を通過した照明光を前記工作物(2)へ投影し、さらに前記焦点面の中に投影する自動焦点光学系(27)と、2次元写真を撮影するとともに、カメラ像平面を具備したカメラ(15)と、前記対物レンズ(20)と共に前記反射面で生じる前記投影の反射を自動焦点像平面内に画像化する自動焦点画像化光学系(27、43)とを備え、
前記反射面の位置は、前記レーザ光機械加工の最中に断続的に決定され、かつ焦点位置設定のための基準として使用されることを特徴とする顕微鏡。 - 前記光変調器(28)は調節可能であり、かつ空間的または時間的に強度変調された照明光であって、変調されることによりコントラストを有する該照明光を生成するように調節され、前記カメラ(15)は、コントラストを検出することを特徴とする、請求項4に記載の顕微鏡。
- 前記変調器を通過した照明光の投影は、ビームスプリッタ(22)によって反射され、前記対物レンズ(20)に導く光路(13)内に入ることを特徴とする、請求項4または5に記載の顕微鏡。
- 前記自動焦点画像化光学系(27,43)は、前記機械加工用レーザ照射(14)のスペクトル成分を抑制またはフィルタリング除去する少なくとも1つのフィルタ(50)を備えることを特徴とする、請求項4乃至6のいずれか一項に記載の顕微鏡。
- 前記自動焦点画像化光学系は複数の光学系(43)を備え、前記光学系(43)は前記カメラよりも上流に配置され、前記変調器を通過した照明光の投影を前記カメラ(15)上に画像化し、前記自動焦点画像化光学系は中間画像(44)を生成することを特徴とする、請求項4乃至7のいずれか一項に記載の顕微鏡。
- 前記カメラ(15)と前記自動焦点画像化光学系(43)との間の距離を調整路に沿って調整するための長さ方向調整機構(54)によって特徴付けられ、前記長さ方向調整機構(54)は、調整路の長さを示す位置フィードバック信号を出力する、請求項4乃至8のいずれか一項に記載の顕微鏡。
- 前記カメラ像平面と前記変調器を通過した照明光の画像との間の傾斜角を調整するとともに、角度信号を出力する角度調整装置(55)によって特徴付けられ、顕微鏡は更に前記角度信号を受信し、前記角度調整装置(55)を動作させて自動焦点解像度を設定する制御装置(26)を備えることを特徴とする、請求項4乃至9のいずれか一項に記載の顕微鏡。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に従って顕微鏡内の動作を制御するように配置された制御ユニット(18)を備えることを特徴とする、請求項4乃至10のいずれか一項に記載の顕微鏡。
- 前記光変調器(28)は、照明光により照明されるLCD要素またはDMD要素、または、少なくとも1つの周期的構造を備えていることを特徴とする、請求項5に記載の顕微鏡。
- 前記少なくとも1つの周期的構造は、ストリップ格子構造であることを特徴とする、請求項12に記載の顕微鏡。
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JP5456510B2 (ja) * | 2010-02-23 | 2014-04-02 | 株式会社ディスコ | レーザ加工装置 |
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NL2008292A (en) * | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, method for measuring radiation beam spot focus and device manufacturing method. |
DE102011077236A1 (de) * | 2011-06-08 | 2012-12-13 | Carl Zeiss Microlmaging Gmbh | Autofokusverfahren für Mikroskop und Mikroskop mit Autofokuseinrichtung |
WO2013001805A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 株式会社ニコン | 構造化照明光学系および構造化照明顕微鏡装置 |
JP5293782B2 (ja) * | 2011-07-27 | 2013-09-18 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 合焦位置調整方法、合焦位置調整装置、およびレーザー加工装置 |
JP5788749B2 (ja) * | 2011-09-15 | 2015-10-07 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
DE102012103459B4 (de) * | 2011-10-19 | 2016-03-31 | National Synchrotron Radiation Research Center | Optisches abbildungs-oder bildgebungssystem mit strukturierter beleuchtung |
US9599805B2 (en) | 2011-10-19 | 2017-03-21 | National Synchrotron Radiation Research Center | Optical imaging system using structured illumination |
US8903205B2 (en) | 2012-02-23 | 2014-12-02 | Karlsruhe Institute of Technology (KIT) | Three-dimensional freeform waveguides for chip-chip connections |
US9034222B2 (en) | 2012-02-23 | 2015-05-19 | Karlsruhe Institut Fuer Technologie | Method for producing photonic wire bonds |
US8687180B2 (en) * | 2012-06-07 | 2014-04-01 | Molecular Devices, Llc | System, method, and device for determining a focal position of an objective in a microscopy imaging system |
DE102012107827A1 (de) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | Sandvik Surface Solutions Division Of Sandvik Materials Technology Deutschland Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Glanzeffekten auf Presswerkzeugen |
US9023257B2 (en) | 2012-11-14 | 2015-05-05 | Perfect Ip, Llc | Hydrophilicity alteration system and method |
US9925621B2 (en) | 2012-11-14 | 2018-03-27 | Perfect Ip, Llp | Intraocular lens (IOL) fabrication system and method |
DE102012223128B4 (de) | 2012-12-13 | 2022-09-01 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Autofokusverfahren für Mikroskop und Mikroskop mit Autofokuseinrichtung |
JP6101569B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2017-03-22 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
DE102013019347A1 (de) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Hochauflösende Scanning-Mikroskopie |
CN104155851B (zh) * | 2014-08-01 | 2017-11-07 | 南方科技大学 | 一种飞秒激光双光子聚合微纳加工系统及方法 |
CN105643110B (zh) * | 2014-11-14 | 2018-04-06 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种精密激光切割系统 |
DE102016108226A1 (de) * | 2016-05-03 | 2017-11-09 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop |
DE102016113068A1 (de) * | 2016-07-15 | 2018-01-18 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Lage einer optischen Grenzfläche entlang einer ersten Richtung |
CN106773538A (zh) * | 2016-11-25 | 2017-05-31 | 天津津芯微电子科技有限公司 | 主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机 |
EP3330775B1 (de) * | 2016-12-01 | 2024-02-07 | Multiphoton Optics Gmbh | Autofokussystem zur detektion von grenzflächen |
WO2018118487A1 (en) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | Cambridge Research & Instrumentation, Inc. | Surface sensing in optical microscopy and automated sample scanning systems |
US10413167B2 (en) | 2017-05-30 | 2019-09-17 | Synaptive Medical (Barbados) Inc. | Micro-optical surgical probes and micro-optical probe tips and methods of manufacture therefor |
DE102017115021A1 (de) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Digitale Bestimmung der Fokusposition |
GB201712639D0 (en) | 2017-08-07 | 2017-09-20 | Univ Oxford Innovation Ltd | Method for laser machining inside materials |
KR102019488B1 (ko) * | 2017-09-07 | 2019-09-06 | 경북대학교 산학협력단 | 레이저 가공 장치 및 레이저 가공 방법 |
CN107876998B (zh) * | 2017-11-23 | 2023-08-25 | 佛山科学技术学院 | 一种基于宽带激光频域三维切割装置和方法 |
CN108287021B (zh) * | 2018-04-02 | 2023-07-07 | 福建师范大学 | 一种双通道超光谱显微成像装置及获取不同阶段光谱信息方法 |
US11269168B2 (en) | 2018-07-24 | 2022-03-08 | King Abdullah University Of Science And Technology | Printed catadioptric high numerical aperture lens and method |
EP3857284B1 (en) * | 2018-09-27 | 2023-12-27 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method of and apparatus for forming and shifting a light intensity distribution in a focal area of an objective lens |
DE102019102215B3 (de) | 2019-01-29 | 2020-06-25 | Nanoscribe Gmbh | System zum Aufbau einer Laserlithografievorrichtung und Modulträger hierfür |
US11592653B2 (en) * | 2019-04-05 | 2023-02-28 | Kla Corporation | Automated focusing system for tracking specimen surface with a configurable focus offset |
DE102019113975B4 (de) * | 2019-05-24 | 2023-10-19 | Abberior Instruments Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Überwachen des Fokuszustands eines Mikroskops sowie Mikroskop |
DE102020115869A1 (de) | 2020-06-16 | 2021-12-16 | RUHR-UNIVERSITäT BOCHUM | Herstellung eines Objekts mittels Zwei-Photonen-Polymerisation |
FR3119339B1 (fr) * | 2021-02-01 | 2024-01-12 | Safran | Dispositif et procédé associé pour fabrication additive |
WO2022178426A1 (en) * | 2021-02-21 | 2022-08-25 | The Regents Of The University Of California | Roll-to-roll based 3d printing through computed axial lithography |
CN113206950B (zh) * | 2021-04-12 | 2022-05-31 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 微纳结构图形试样的高速跟踪方法 |
EP4074492B1 (de) * | 2021-04-13 | 2023-09-20 | Leister Technologies AG | System zum fügen von werkstücken aus thermoplastischem kunststoff mittels laserdurchstrahlschweissen |
CN113985566B (zh) * | 2021-09-10 | 2023-09-12 | 西南科技大学 | 一种基于空间光调制及神经网络的散射光聚焦方法 |
CN114147354B (zh) * | 2021-12-01 | 2024-08-27 | 海目星激光科技集团股份有限公司 | 一种激光焊接系统及方法 |
CN114721085B (zh) * | 2022-04-13 | 2024-05-07 | 长飞光坊(武汉)科技有限公司 | 一种超快激光加工光纤光栅的焦点定位系统 |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3828381C2 (de) * | 1988-08-20 | 1997-09-11 | Zeiss Carl Fa | Verfahren und Einrichtung zur automatischen Fokussierung eines optischen Systems |
US5034613A (en) * | 1989-11-14 | 1991-07-23 | Cornell Research Foundation, Inc. | Two-photon laser microscopy |
DE69226511T2 (de) | 1992-03-05 | 1999-01-28 | Micronic Laser Systems Ab, Taeby | Verfahren und Vorrichtung zur Belichtung von Substraten |
US5434632A (en) * | 1993-03-22 | 1995-07-18 | U.S. Philips Corporation | Image projection apparatus with a autofocusing system |
JPH0787378A (ja) * | 1993-09-09 | 1995-03-31 | Topcon Corp | 合焦検出装置 |
US5469259A (en) * | 1994-01-03 | 1995-11-21 | International Business Machines Corporation | Inspection interferometer with scanning autofocus, and phase angle control features |
CH689703A5 (de) * | 1994-05-18 | 1999-08-31 | Zeiss Carl Fa | Photomikroskop. |
IL111229A (en) | 1994-10-10 | 1998-06-15 | Nova Measuring Instr Ltd | Autofocusing microscope |
US5751585A (en) * | 1995-03-20 | 1998-05-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | High speed, high accuracy multi-stage tool positioning system |
US5986781A (en) * | 1996-10-28 | 1999-11-16 | Pacific Holographics, Inc. | Apparatus and method for generating diffractive element using liquid crystal display |
JP3917731B2 (ja) * | 1996-11-21 | 2007-05-23 | オリンパス株式会社 | レーザ走査顕微鏡 |
US6248988B1 (en) * | 1998-05-05 | 2001-06-19 | Kla-Tencor Corporation | Conventional and confocal multi-spot scanning optical microscope |
US6410213B1 (en) | 1998-06-09 | 2002-06-25 | Corning Incorporated | Method for making optical microstructures having profile heights exceeding fifteen microns |
CA2344530A1 (en) | 1998-09-21 | 2000-03-30 | Alexandr Akhatovich Ganeev | Method for the thermionic atomisation of a sample and device for realising the same |
US6640014B1 (en) | 1999-01-22 | 2003-10-28 | Jeffrey H. Price | Automatic on-the-fly focusing for continuous image acquisition in high-resolution microscopy |
JP3688185B2 (ja) * | 2000-05-08 | 2005-08-24 | 株式会社東京精密 | 焦点検出装置及び自動焦点顕微鏡 |
US6720522B2 (en) * | 2000-10-26 | 2004-04-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Apparatus and method for laser beam machining, and method for manufacturing semiconductor devices using laser beam machining |
DE10112639A1 (de) * | 2001-03-16 | 2002-09-19 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Mikroskop mit Autofokussiereinrichtung |
DE10127284A1 (de) | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Autofokussiereinrichtung für ein optisches Gerät |
US7105795B2 (en) * | 2001-07-06 | 2006-09-12 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design |
DK1441640T3 (da) * | 2001-10-16 | 2013-09-08 | Univ Indiana Res & Tech Corp | Billeddannelsesanordning til afbildning af et fokalplan af et mål inden i øjet gennem pupillen af øjet |
WO2003060610A1 (de) | 2002-01-16 | 2003-07-24 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verfahren und anordnungen zur mikroskopischen abbildung |
US7756305B2 (en) * | 2002-01-23 | 2010-07-13 | The Regents Of The University Of California | Fast 3D cytometry for information in tissue engineering |
JP2004119971A (ja) * | 2002-09-04 | 2004-04-15 | Sharp Corp | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
US7525659B2 (en) * | 2003-01-15 | 2009-04-28 | Negevtech Ltd. | System for detection of water defects |
JP4381687B2 (ja) * | 2003-01-24 | 2009-12-09 | 株式会社島津製作所 | 全反射蛍光顕微測定装置 |
DE10319182B4 (de) | 2003-04-29 | 2008-06-12 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verfahren und Anordnung zur Bestimmung der Fokusposition bei der Abbildung einer Probe |
JP4048280B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-02-20 | 国立大学法人 北海道大学 | レーザ加工方法および装置 |
JP2006123004A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
US7366378B2 (en) * | 2004-10-29 | 2008-04-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ultrafast laser machining system and method for forming diffractive structures in optical fibers |
US7725169B2 (en) * | 2005-04-15 | 2010-05-25 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Contrast enhanced spectroscopic optical coherence tomography |
JP2006305608A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Toshiba Corp | レーザ加工装置、及びレーザ加工方法 |
DE102005022125A1 (de) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Carl Zeiss Microlmaging Gmbh | Lichtrastermikroskop mit Autofokusmechanismus |
DE102005028887A1 (de) | 2005-06-22 | 2007-01-04 | Tutogen Medical Gmbh | Implantat |
JP2007014990A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Aisin Seiki Co Ltd | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
WO2007044725A2 (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microscopy arrangements and approaches |
US8120996B2 (en) * | 2006-04-04 | 2012-02-21 | Tesa Scribos Gmbh | Device and method for microstructuring a storage medium and storage medium comprising a microstructured region |
JP5025158B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2012-09-12 | 日立造船株式会社 | レーザ加工方法及び装置 |
US8488895B2 (en) * | 2006-05-31 | 2013-07-16 | Indiana University Research And Technology Corp. | Laser scanning digital camera with pupil periphery illumination and potential for multiply scattered light imaging |
BRPI0711977B8 (pt) * | 2006-05-31 | 2021-06-22 | Aeon Imaging Llc | dispositivo de formação de imagem retinal digital |
DE102006027836B4 (de) * | 2006-06-16 | 2020-02-20 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop mit Autofokuseinrichtung |
JP2008068270A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
WO2008061259A2 (en) * | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Celloptic, Inc. | System, apparatus and method for extracting three-dimensional information of an object from received electromagnetic radiation |
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