JP5587578B2 - 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 - Google Patents
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Description
Claims (17)
- 極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、
チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、
パルスレーザ光を出力するためのレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出力される前記レーザ光を増幅させる少なくとも2つ以上の増幅器と、
前記増幅器により増幅されて出力されるレーザ光を前記チャンバ内の所定位置に集光させることにより、前記増幅後のレーザ光を前記ターゲット物質に照射させる集光光学系と、
前記レーザ発振器と前記所定位置との間の光路中に設けられ、少なくとも所定値以下の光強度のレーザ光を吸収し、透過するのを抑制するための可飽和吸収体装置とを備え、
前記可飽和吸収体装置は、
可飽和吸収体の流通する流通空間を有する本体部と、前記流通空間に前記可飽和吸収体を流入させるための流入口と、前記流通空間から前記可飽和吸収体を流出させるための流出口と、前記レーザ発振器の出力レーザ光の入射する入射側に配置されて前記流通空間に前記レーザ発振器の出力レーザ光を通過させるための入射ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の出射する出射側に配置されて前記流通空間を通過した前記レーザ発振器の出力レーザ光を出射するための出射ウインドウと、を備える可飽和吸収体セルと、
前記流入口と前記流出口とを接続するための管路と、
前記管路の途中に設けられ、前記流出口から流出する前記可飽和吸収体を前記流入口から前記流通空間に流入させるように輸送する輸送部と、
前記管路の途中に設けられ、前記輸送部により輸送される前記可飽和吸収体の温度を調節するための温度調節部と、
を備え、
前記入射ウインドウおよび前記出射ウィンドウは、それぞれ円形状に形成されており、
前記流出口は、前記入射ウインドウの側及び前記出射ウインドウの側のそれぞれの側において、前記各ウインドウ間を通過する前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数ずつ設けられており、
前記流入口は、前記各ウインドウの間に位置して、前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数設けられており、
前記各ウインドウの内面外周側と前記各流出口との間には、前記可飽和吸収体を流通させるための流通孔が複数形成されている流通制御部材が設けられ、
前記流通制御部材は、
前記各ウインドウに同軸に配置される筒状部材であって、その一方の端部が前記各ウインドウの内面側に設けられ、前記各流通孔を有する筒状部材と、
前記可飽和吸収体が前記各流通孔以外から前記各流出口に流れ込まないように、前記筒状部材の他方の端部と前記流通空間の内壁部との間を施蓋する環状の鍔部と、
を備えている、極端紫外光源装置。 - 極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、
チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、
パルスレーザ光を出力するためのレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出力される前記レーザ光を増幅させる少なくとも2つ以上の増幅器と、
前記増幅器により増幅されて出力されるレーザ光を前記チャンバ内の所定位置に集光させることにより、前記増幅後のレーザ光を前記ターゲット物質に照射させる集光光学系と、
前記レーザ発振器と前記所定位置との間の光路中に設けられ、少なくとも所定値以下の光強度のレーザ光を吸収し、透過するのを抑制するための可飽和吸収体装置とを備え、
前記可飽和吸収体装置は、
可飽和吸収体の流通する流通空間を有する本体部と、前記流通空間に前記可飽和吸収体を流入させるための流入口と、前記流通空間から前記可飽和吸収体を流出させるための流出口と、ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の入射する入射側に配置されて前記流通空間に前記レーザ発振器の出力レーザ光を通過させるための入射ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の出射する出射側に配置されて前記流通空間を通過した前記レーザ発振器の出力レーザ光を出射するための出射ウインドウと、を備える可飽和吸収体セルと、
前記流入口と前記流出口とを接続するための管路と、
前記管路の途中に設けられ、前記流出口から流出する前記可飽和吸収体を前記流入口から前記流通空間に流入させるように輸送する輸送部と、
前記管路の途中に設けられ、前記輸送部により輸送される前記可飽和吸収体の温度を調節するための温度調節部と、
を備え、
前記入射ウインドウおよび前記出射ウィンドウは、それぞれ円形状に形成されており、
前記流出口は、前記入射ウインドウの側及び前記出射ウインドウの側のそれぞれの側において、前記各ウインドウ間を通過する前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数ずつ設けられており、
前記流入口は、前記各ウインドウの間に位置して、前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数設けられており、
前記各ウインドウの内面外周側と前記各流出口との間には、前記可飽和吸収体を流通させるための流通孔が複数形成されている流通制御部材が設けられ、
前記可飽和吸収体セルは、複数設けられており、
前記複数の可飽和吸収体セルのうち少なくとも1つの可飽和吸収体セル内の前記可飽和吸収体の流通方向は、他の可飽和吸収体セル内の前記可飽和吸収体の流通方向と逆向きになるように設定されている、極端紫外光源装置。 - 前記流通空間内の前記可飽和吸収体の流れが、前記流通空間を通過する前記レーザ光の前記光軸に対して回転対称となるように、前記流入口及び前記流出口が配置されている、請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記流通空間内の前記可飽和吸収体の流れが、前記各ウインドウ間を通過する前記レーザ光の前記光軸に対して回転対称となるように、前記流入口及び前記流出口が配置されている、請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記各ウインドウの内面側を前記可飽和吸収体が流通し、かつ、前記ウインドウ間を前記レーザ光の光軸に沿って前記可飽和吸収体が移動するように、前記流入口または前記流出口が前記各ウインドウの近傍に設けられる、請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記流出口は、前記各ウインドウの内面中心に向けて傾斜して設けられている、請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記可飽和吸収体装置を通過する前記レーザ光の波面を補正するための波面補正装置を備える、請求項1〜6のいずれか一つに記載の極端紫外光源装置。
- 前記波面補正装置は、
前記レーザ光の方向及び波面の形状を直接的または間接的に計測するための波面計測部と、
前記レーザ光の前記方向及び前記波面の形状を所定の方向及び所定の波面の形状に補正させるための波面補正部と、
前記波面計測部からの計測結果に基づいて前記波面補正部を動作させるための波面制御部と、を備えて構成される、請求項7に記載の極端紫外光源装置。 - 前記輸送部及び前記温度調節部を制御するための制御部を備える、請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記温度調節部は、可飽和吸収体が吸収した熱を廃熱するための廃熱装置で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記温度調節部は、可飽和吸収体が吸収した熱を廃熱するための廃熱装置と前記可飽和吸収体の温度を制御するための制御装置で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の極端紫外光源装置。
- 前記各ウィンドウは、ダイヤモンドから形成されるウインドウである請求項1〜11のいずれか一つに記載の極端紫外光源装置。
- パルスレーザ光を出力するためのレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出力される前記レーザ光を増幅させる少なくとも2つ以上の増幅器と、
前記レーザ発振器と前記増幅器との間の光路中または前記各増幅器の間の光路中に設けられ、少なくとも所定値以下の光強度のレーザ光を吸収し、透過するのを抑制するための可飽和吸収体装置とを備え、
前記可飽和吸収体装置は、
可飽和吸収体の流通する流通空間を有する本体部と、前記流通空間に前記可飽和吸収体を流入させるための流入口と、前記流通空間から前記可飽和吸収体を流出させるための流出口と、前記レーザ発振器の出力レーザ光の入射する入射側に配置されて前記流通空間に前記レーザ発振器の出力レーザ光を通過させるための入射ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の出射する出射側に配置されて前記流通空間を通過した前記レーザ発振器の出力レーザ光を出射するための出射ウインドウと、を備える可飽和吸収体セルと、
前記流入口と前記流出口とを接続するための管路と、
前記管路の途中に設けられ、前記流出口から流出する前記可飽和吸収体を前記流入口から前記流通空間に流入させるように輸送する輸送部と、
前記管路の途中に設けられ、前記輸送部により輸送される前記可飽和吸収体の温度を調節するための温度調節部と、
を備え、
前記入射ウインドウおよび前記出射ウィンドウは、それぞれ円形状に形成されており、
前記流出口は、前記入射ウインドウの側及び前記出射ウインドウの側のそれぞれの側において、前記各ウインドウ間を通過する前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数ずつ設けられており、
前記流入口は、前記各ウインドウの間に位置して、前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数設けられており、
前記各ウインドウの内面外周側と前記各流出口との間には、前記可飽和吸収体を流通させるための流通孔が複数形成されている流通制御部材が設けられ、
前記流通制御部材は、
前記各ウインドウに同軸に配置される筒状部材であって、その一方の端部が前記各ウインドウの内面側に設けられ、前記各流通孔を有する筒状部材と、
前記可飽和吸収体が前記各流通孔以外から前記各流出口に流れ込まないように、前記筒状部材の他方の端部と前記流通空間の内壁部との間を施蓋する環状の鍔部と、
を備えている、パルスレーザ装置。 - パルスレーザ光を出力するためのレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出力される前記レーザ光を増幅させる少なくとも2つ以上の増幅器と、
前記レーザ発振器と前記増幅器との間の光路中または前記各増幅器の間の光路中に設けられ、少なくとも所定値以下の光強度のレーザ光を吸収し、透過するのを抑制するための可飽和吸収体装置とを備え、
前記可飽和吸収体装置は、
可飽和吸収体の流通する流通空間を有する本体部と、前記流通空間に前記可飽和吸収体を流入させるための流入口と、前記流通空間から前記可飽和吸収体を流出させるための流出口と、ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の入射する入射側に配置されて前記流通空間に前記レーザ発振器の出力レーザ光を通過させるための入射ウインドウと、前記レーザ発振器の出力レーザ光の出射する出射側に配置されて前記流通空間を通過した前記レーザ発振器の出力レーザ光を出射するための出射ウインドウと、を備える可飽和吸収体セルと、
前記流入口と前記流出口とを接続するための管路と、
前記管路の途中に設けられ、前記流出口から流出する前記可飽和吸収体を前記流入口から前記流通空間に流入させるように輸送する輸送部と、
前記管路の途中に設けられ、前記輸送部により輸送される前記可飽和吸収体の温度を調節するための温度調節部と、
を備え、
前記入射ウインドウおよび前記出射ウィンドウは、それぞれ円形状に形成されており、
前記流出口は、前記入射ウインドウの側及び前記出射ウインドウの側のそれぞれの側において、前記各ウインドウ間を通過する前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数ずつ設けられており、
前記流入口は、前記各ウインドウの間に位置して、前記レーザ光の光軸に対して回転対称となるように複数設けられており、
前記各ウインドウの内面外周側と前記各流出口との間には、前記可飽和吸収体を流通させるための流通孔が複数形成されている流通制御部材が設けられ、
前記可飽和吸収体セルは、複数設けられており、
前記複数の可飽和吸収体セルのうち少なくとも1つの可飽和吸収体セル内の前記可飽和吸収体の流通方向は、他の可飽和吸収体セル内の前記可飽和吸収体の流通方向と逆向きになるように設定されている、パルスレーザ装置。 - 前記温度調節部は、可飽和吸収体が吸収した熱を廃熱するための廃熱装置で構成されていることを特徴とする請求項13または14に記載のパルスレーザ装置。
- 前記温度調節部は、可飽和吸収体が吸収した熱を廃熱するための廃熱装置と前記可飽和吸収体の温度を制御するための制御装置で構成されていることを特徴とする請求項13または14に記載のパルスレーザ装置。
- 前記各ウィンドウは、ダイヤモンドから形成されるウインドウである、請求項13〜16のいずれか一つに記載のパルスレーザ装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009216203A JP5587578B2 (ja) | 2008-09-26 | 2009-09-17 | 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 |
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008249186 | 2008-09-26 | ||
JP2008249186 | 2008-09-26 | ||
JP2009216203A JP5587578B2 (ja) | 2008-09-26 | 2009-09-17 | 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010103104A JP2010103104A (ja) | 2010-05-06 |
JP5587578B2 true JP5587578B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=42056377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009216203A Active JP5587578B2 (ja) | 2008-09-26 | 2009-09-17 | 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8093571B2 (ja) |
JP (1) | JP5587578B2 (ja) |
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JP5179776B2 (ja) | 2007-04-20 | 2013-04-10 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源用ドライバレーザ |
JP5179793B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-04-10 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源用ドライバレーザ |
JP2009246345A (ja) | 2008-03-12 | 2009-10-22 | Komatsu Ltd | レーザシステム |
JP5758569B2 (ja) | 2008-06-12 | 2015-08-05 | ギガフォトン株式会社 | スラブ型レーザ装置 |
JP5833806B2 (ja) | 2008-09-19 | 2015-12-16 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置用レーザ光源装置及び極端紫外光源装置用レーザ光源の調整方法 |
-
2009
- 2009-09-17 JP JP2009216203A patent/JP5587578B2/ja active Active
- 2009-09-25 US US12/566,865 patent/US8093571B2/en active Active
-
2011
- 2011-11-29 US US13/306,358 patent/US8476609B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120068091A1 (en) | 2012-03-22 |
US8093571B2 (en) | 2012-01-10 |
US20100078580A1 (en) | 2010-04-01 |
JP2010103104A (ja) | 2010-05-06 |
US8476609B2 (en) | 2013-07-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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