JP2009500796A - Lpp、euv光源駆動レーザシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】駆動レーザビームを生成する駆動レーザと、第1軸線を有する駆動レーザビーム第1経路と、第1経路から第2軸線を有する第2経路に駆動レーザビームを移送する駆動レーザ方向変換機構と、中央に位置する開口を有するEUV集光装置光学要素と、第2経路内にあり、開口内に位置決めされ、かつ第2軸線に沿って位置するプラズマ開始サイト上に駆動レーザビームを集束させる集束ミラーとを含むことができるレーザ生成プラズマEUVシステムを含むことができる装置及び方法。装置及び方法は、駆動レーザビームが、関連する幾何学形状の制限において実際的ではない場合に有効プラズマ生成エネルギで約100μm未満のEUVターゲット液滴上に集束させることが集束レンズを利用するような波長を有する駆動レーザによって生成されることを含むことができる。駆動レーザは、CO2レーザを含むことができる。駆動レーザ方向変換機構は、ミラーを含むことができる。
【選択図】図4
Description
関連出願
本出願は、2005年8月31日出願の「LPP、EUV光源駆動レーザシステム」という名称の米国特許出願出願番号第11/217、161号に対する優先権を請求するものであり、代理人整理番号第2004−0023−01号である、2004年12月22日出願の「EUV光源光学要素」という名称の米国特許出願出願番号第11/021、261号と、代理人整理番号第2004−0008−01号である、2005年2月25日出願の「EUVプラズマ源ターゲット送出の方法及び装置」という名称の第11/067、124号と、代理人整理番号第2004−0088−01号である、2004年11月1日出願の「EUV集光装置デブリ管理」という名称の第10/979、945号と、代理人整理番号第2004−0064−01号である、2004年11月1日出願の「EUV光源」という名称の第10/979、919号と、代理人整理番号第2003−0125−01号である、2004年3月17日出願の「高繰返し数レーザ生成プラズマEUV光源」という名称の第10/803、526号と、代理人整理番号第2004−0044−01号である、2004年7月27日出願の「EUV光源」という名称の第10/900、839号と、代理人整理番号第2004−0117−01号である、2005年2月25日出願の「EUV光源内部構成要素をプラズマ生成デブリから保護するためのシステム」という名称の第11/067、099号と、代理人整理番号第2004−0107−01号である、2005年2月28日出願の「EUV、LPP駆動レーザ」という名称の第60/657、606号と、代理人整理番号第2004−0086−01号とに関連する2005年6月29日出願の米国特許出願出願番号第11/174、299号の一部継続出願であり、これらの特許の全ての開示内容は、この記載により引用によって組み込まれる。
R≒1−2/√(S*T)
ここで、Sは、金属の導電率(CGSシステムにおいて)、Tは、放射線の発振周期である。銅の場合、この式では、10.6μmに対しては約98.5%の反射率の推定値が得られる。Snの場合、反射率推定値は、96%である。
172 レーザ放射線
176 集束ビーム
180 集束ミラー
Claims (44)
- 駆動レーザビームを生成する駆動レーザと、
第1の軸線を有する駆動レーザビーム第1経路と、
前記第1経路から第2の軸線を有する第2経路に前記駆動レーザビームを移送する駆動レーザ方向変換機構と、
中央に位置する開口を有するEUV集光装置光学要素と、
前記第2経路内にあり、前記開口内に位置決めされ、かつ前記第2の軸線に沿って位置するプラズマ開始サイト上に前記駆動レーザビームを集束させる集束ミラーと、
を含むことを特徴とするレーザ生成プラズマEUVシステム。 - 前記駆動レーザビームは、関連する幾何学形状の制限において実際的ではない場合に有効プラズマ生成エネルギで約100μm未満のEUVターゲット液滴上に集束させることが集束レンズを利用するような波長を有する駆動レーザによって生成されることを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記駆動レーザは、CO2レーザを含むことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記駆動レーザは、CO2レーザを含むことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記駆動レーザ方向変換機構は、ミラーを含むことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記駆動レーザ方向変換機構は、ミラーを含むことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記駆動レーザ方向変換機構は、ミラーを含むことを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記駆動レーザ方向変換機構は、ミラーを含むことを更に含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、前記プラズマ開始サイトで生成されたプラズマに発生したEUV光を前記開口の外側の前記集光装置光学要素から遮断しないように位置決めされ、かつそのような大きさにされることを更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項12に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項14に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 前記方向変換機構は、回転されることを更に含むことを特徴とする請求項16に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項18に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項19に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項21に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項22に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項23に記載の装置。
- 前記集束ミラーは、加熱されることを更に含むことを特徴とする請求項24に記載の装置。
- 予備パルス部分と主パルス部分とを有する結合出力パルスを発生するシードレーザシステムと、
前記予備パルス部分と前記主パルス部分とを該記予備パルス部分がレーザの利得を飽和させることなく同時に増幅する増幅レーザと、
を含むことを特徴とするレーザ生成プラズマEUV光源。 - 前記増幅レーザは、CO2レーザを含むことを更に含むことを特徴とする請求項33に記載の装置。
- 前記結合パルスの前記予備パルス部分は、第1シードレーザ内で生成され、該結合パルスの前記主パルス部分は、第2シードレーザ内で生成されることを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。
- 前記結合パルスの前記予備パルス部分は、第1シードレーザ内で生成され、該結合パルスの前記主パルス部分は、第2シードレーザ内で生成されることを更に含むことを特徴とする請求項33に記載の装置。
- 前記結合パルスの前記予備パルス及び主パルス部分は、単一のシードレーザ内で生成されることを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。
- 前記結合パルスの前記予備パルス及び主パルス部分は、単一のシードレーザ内で生成されることを更に含むことを特徴とする請求項33に記載の装置。
- 前記単一のシードレーザは、q−スイッチ発振空洞を含むことを更に含むことを特徴とする請求項37に記載の装置。
- 前記単一のシードレーザは、q−スイッチ発振空洞を含むことを更に含むことを特徴とする請求項38に記載の装置。
- 少なくとも12kHzのパルス繰返し数Xでシードレーザパルスを生成するシードレーザと、
各々がX/Nの繰返し数で発射され、前記シードレーザパルスの光路に直列に位置決めされ、かつ各々がX/Nのパルス繰返し数でそれぞれのN番目のシードパルスを交互タイミング方式で増幅する複数のN個の増幅レーザと、
を含むことを特徴とするレーザ生成プラズマEUV光源。 - 各それぞれの増幅レーザは、前記シード生成レーザの前記それぞれのN番目の出力が該それぞれの増幅レーザ内であるように、該シード生成レーザの前記発射に合わせて発射されることを更に含むことを特徴とする請求項41に記載の装置。
- 前記シードレーザパルスは、予備パルス部分と主パルス部分を含むことを更に含むことを特徴とする請求項41に記載の装置。
- 前記シードレーザパルスは、予備パルス部分と主パルス部分を含むことを更に含むことを特徴とする請求項42に記載の装置。
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