JPWO2017103991A1 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1.極端紫外光生成システムの全体説明
1.1 構成
1.2 動作
2.第1〜第3レーザ光をターゲットに照射するEUV光生成システム
2.1 構成
2.1.1 ターゲット供給部
2.1.2 ターゲットセンサ及び発光部
2.1.3 レーザシステム
2.1.4 レーザ光進行方向制御部
2.1.5 集光光学系
2.1.6 EUV集光ミラー及びEUV光センサ
2.2 動作
2.2.1 ターゲットの出力
2.2.2 パルスレーザ光の出力
2.2.3 パルスレーザ光の伝送
2.2.4 パルスレーザ光の集光
2.3 パルスレーザ光を照射されたターゲットの変化
2.3.1 第2プリパルスレーザ光P2の照射径が2次ターゲットの直径より小さい場合
2.3.2 第2プリパルスレーザ光P2の照射径が2次ターゲットの直径と同等である場合
2.4 第2プリパルスレーザ光P2の照射径を、メインパルスレーザ光Mの照射径より大きくしたEUV光生成システム
2.4.1 構成
2.4.2 パルスレーザ光を照射されたターゲットの変化
2.4.3 測定結果
2.4.4 照射径の数値範囲
2.4.4.1 液滴状のターゲットの直径Dd
2.4.4.2 第1プリパルスレーザ光の照射径D1
2.4.4.3 メインパルスレーザ光の照射径Dm
2.4.4.4 第2プリパルスレーザ光の照射径D2
2.4.5 遅延時間の範囲
2.4.6 パルスレーザ光のフルーエンス又は照射強度
2.4.6.1 第1プリパルスレーザ光のフルーエンス
2.4.6.2 第2プリパルスレーザ光のフルーエンス
2.4.6.3 メインパルスレーザ光の照射強度
3.補足
1.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザシステム3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザシステム3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部26から出力されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照に、レーザシステム3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
2.1 構成
図2は、本開示の実施形態に適用可能なEUV光生成システム11の構成を示す一部断面図である。図2に示されるように、チャンバ2の内部には、集光光学系22aと、EUV集光ミラー23と、ターゲット回収部28と、EUV集光ミラーホルダ81と、プレート82及び83とが設けられてもよい。チャンバ2には、ターゲット供給部26と、ターゲットセンサ4と、発光部45と、EUV光センサ7とが取り付けられてもよい。
ターゲット供給部26は、リザーバ61を有していても良い。リザーバ61の一部が、チャンバ2の壁面に形成された貫通孔2aを貫通しており、リザーバ61の先端がチャンバ2の内部に位置していてもよい。リザーバ61の上記先端には、開口62が形成されていてもよい。リザーバ61の上記先端の開口62付近に、図示しない加振装置が配置されてもよい。貫通孔2aの周囲のチャンバ2の壁面には、リザーバ61のフランジ部61aが密着して固定されてもよい。
ターゲットセンサ4と発光部45とは、ターゲット27の軌道を挟んで互いに反対側に配置されていてもよい。チャンバ2にはウインドウ21a及び21bが取り付けられていてもよい。ウインドウ21aは、発光部45とターゲット27の軌道との間に位置していてもよい。ウインドウ21bは、ターゲット27の軌道とターゲットセンサ4との間に位置していてもよい。
レーザシステム3は、第1プリパルスレーザ装置La1と、第2プリパルスレーザ装置La2と、メインパルスレーザ装置Lbとを含んでいてもよい。第1プリパルスレーザ装置La1及び第2プリパルスレーザ装置La2の各々は、YAGレーザ装置であってもよい。第1プリパルスレーザ装置La1及び第2プリパルスレーザ装置La2の各々は、Nd:YVO4を用いたレーザ装置であってもよい。メインパルスレーザ装置Lbは、CO2レーザ装置であってもよい。なお、YAGレーザ装置とは、レーザ発振器及び必要に応じてレーザ増幅器を含み、レーザ発振器及びレーザ増幅器のいずれか又は両方に、レーザ媒質としてYAG結晶を用いるものでもよい。CO2レーザ装置とは、レーザ発振器及び必要に応じてレーザ増幅器を含み、レーザ発振器及びレーザ増幅器のいずれか又は両方に、レーザ媒質としてCO2ガスを用いるものでもよい。
レーザ光進行方向制御部34aは、高反射ミラー340、341及び342と、ビームコンバイナ343及び344と、を含んでもよい。高反射ミラー340は、ホルダ345によって支持されていてもよい。高反射ミラー341は、ホルダ346によって支持されていてもよい。高反射ミラー342は、ホルダ347によって支持されていてもよい。
なお、第1プリパルスレーザ光P1と第2プリパルスレーザ光P2とが異なる波長成分を有する場合には、ビームコンバイナ343も、ダイクロイックミラーであってよい。
プレート82は、チャンバ2に固定されてもよい。プレート82には、プレート83が支持されてもよい。集光光学系22aは、軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222を含んでもよい。軸外放物面ミラー221は、ホルダ223によって支持されてもよい。平面ミラー222は、ホルダ224によって支持されてもよい。ホルダ223及び224は、プレート83に固定されてもよい。
EUV集光ミラー23は、EUV集光ミラーホルダ81を介してプレート82に固定されていてもよい。EUV光センサ7は、プラズマ生成領域25において発生したEUV光の一部を受光し、EUV光のエネルギー又はEUV光の光強度を検出してもよい。EUV光センサ7は、検出結果をEUV制御部50へ出力してもよい。
2.2.1 ターゲットの出力
EUV光生成制御部5に含まれるEUV制御部50は、ターゲット供給部26がターゲット27を出力するように、ターゲット供給部26に制御信号を出力してもよい。
ターゲット供給部26において、不活性ガスによって加圧されたターゲットの材料は、開口62を介して出力されてもよい。上述の加振装置によってターゲット供給部26に振動が与えられることにより、ターゲットの材料は複数のドロップレットに分離されてもよい。それぞれのドロップレットが、ターゲット27として、ターゲット供給部26からプラズマ生成領域25までの軌道に沿って矢印Y方向に移動してもよい。
EUV制御部50は、ターゲットセンサ4から出力されるターゲット検出信号を受信してもよい。
EUV制御部50は、ターゲット検出信号に基づいて、発光トリガ信号を遅延回路51に出力してもよい。遅延回路51は、発光トリガ信号の受信タイミングに対して第1の遅延時間が経過したことを示す第1のトリガ信号を、第1プリパルスレーザ装置La1に出力してもよい。第1プリパルスレーザ装置La1は、第1のトリガ信号に従って、第1プリパルスレーザ光P1を出力してもよい。
第1の遅延時間と第3の遅延時間との差が、第1プリパルスレーザ光P1の照射タイミングからメインパルスレーザ光Mの照射タイミングまでの遅延時間T1Mに相当し得る。第2の遅延時間と第3の遅延時間との差が、第2プリパルスレーザ光P2の照射タイミングからメインパルスレーザ光Mの照射タイミングまでの遅延時間T2Mに相当し得る。遅延時間T1M及び遅延時間T2Mについては後述する。
レーザ光進行方向制御部34aに含まれる高反射ミラー340は、第1プリパルスレーザ装置La1によって出力された第1プリパルスレーザ光P1の光路に配置されてもよい。高反射ミラー340は、第1プリパルスレーザ光P1を高い反射率で反射してもよい。
集光光学系22aに含まれる軸外放物面ミラー221は、パルスレーザ光32の光路に配置されてもよい。軸外放物面ミラー221は、パルスレーザ光32を平面ミラー222に向けて反射してもよい。平面ミラー222は、軸外放物面ミラー221によって反射されたパルスレーザ光32を、パルスレーザ光33としてプラズマ生成領域25又はその近傍に向けて反射してもよい。パルスレーザ光33は、軸外放物面ミラー221の反射面形状に従い、プラズマ生成領域25又はその近傍において集光されてもよい。
2.3.1 第2プリパルスレーザ光P2の照射径が2次ターゲットの直径より小さい場合
図3A〜図3Dは、図2に示されるEUV光生成システムにおいて第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2及びメインパルスレーザ光Mが照射されるときのターゲット27の様子を概略的に示す。図3A〜図3Dは、第1の比較例として、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2が2次ターゲット272の直径より小さい場合を示す。破線270は、ターゲット27の軌道及びその延長線を示す。
なお、本開示において「照射径」とは、ターゲットへの照射位置におけるパルスレーザ光の光路断面の直径をいう。集光光学系22aによってパルスレーザ光が集光される位置にターゲットが位置する場合には、照射径はスポット径に相当し得る。
3次ターゲット273は、2次ターゲット272のドーム部27bがさらに細かく破壊、蒸発、又はプリプラズマ化されたドーム部27dを含んでもよい。2次ターゲット272の円環部27aには、第2プリパルスレーザ光P2のうちの外周部に位置する光の弱い部分のみが照射されるか、あるいはほとんど照射されないため、円環部27aのほとんどの部分が、ターゲット物質の密度が比較的高い円環部27cとして3次ターゲット273に含まれてもよい。
図4A〜図4Dは、図2に示されるEUV光生成システムにおいて第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2及びメインパルスレーザ光Mが照射されるときのターゲット27の様子を概略的に示す。図4A〜図4Dは、第2の比較例として、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2が、2次ターゲット272の直径と同等である場合を示す。図4Aに示されるターゲット27と第1プリパルスレーザ光P1との関係は、図3Aを参照しながら説明したものと同様でよい。図4Bに示される2次ターゲット272は、図3Bを参照しながら説明したものと同様でよい。破線270は、ターゲット27の軌道及びその延長線を示す。図4B〜図4Dにおけるドットの粗密は、ターゲット物質の密度に対応し得る。
2.4.1 構成
図5は、本開示の実施形態に係るEUV光生成システム11におけるレーザ光進行方向制御部34a及びその周辺の構成例を概略的に示す。チャンバ2に付帯するEUV集光ミラー23やターゲットセンサ4などの構成については、図示が省略されている。集光光学系22aやターゲット供給部26についても、その具体的な構成の図示は省略されている。
図6A〜図6Dは、本開示の実施形態において、第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2及びメインパルスレーザ光Mが照射されるときのターゲット27の様子を概略的に示す。図6Aに示されるターゲット27と第1プリパルスレーザ光P1との関係は、図3Aを参照しながら説明したものと同様でよい。図6Bに示される2次ターゲット272は、図3Bを参照しながら説明したものと同様でよい。破線270は、ターゲット27の軌道及びその延長線を示す。図6B〜図6Dにおけるドットの粗密は、ターゲット物質の密度に対応し得る。
図7Aは、第2プリパルスレーザ光P2の照射径と、EUV光のエネルギーとの関係を示すグラフである。図7Aにおいては、ターゲット27として直径25μmのスズの液滴を用いた。第1プリパルスレーザ光P1は、照射径80μm、パルス時間幅14ps、パルスエネルギー0.77mJとした。第2プリパルスレーザ光P2は、パルス時間幅6ns、フルーエンス10.0J/cm2とし、照射径D2を変えながら測定を行った。メインパルスレーザ光Mは、照射径325μm、パルス時間幅15ns、パルスエネルギー240mJとした。
以下に、照射径の数値範囲について考察を加える。まず、以下の説明で用いられる変数を定義する。
液滴状のターゲットの直径Dd
第1プリパルスレーザ光の照射径D1
第2プリパルスレーザ光の照射径D2
メインパルスレーザ光の照射径Dm
メインパルスレーザ光を照射するときの3次ターゲットの直径Dt
プラズマの直径Dp
ターゲット27の直径Ddは、LPP式のEUV光生成装置において典型的な、以下の数値範囲でよい。
1μm≦Dd≦100μm
第1プリパルスレーザ光P1の照射径D1は、5%幅又は50%幅が、ターゲット27の直径Ddにターゲット27の位置のばらつきΔDdを加えた範囲となるように設定されることが望ましい。従って、以下のように、第1プリパルスレーザ光P1の照射径D1は、ターゲット27の直径Ddより大きくてよい。
D1>Dd (式1)
なお、5%幅とは、ターゲットへの照射位置における光強度分布のうち、ピーク強度の5%以上の光強度を有する部分の直径をいう。50%幅とは、ターゲットへの照射位置における光強度分布のうち、ピーク強度の50%以上の光強度を有する部分の直径をいう。
ターゲットへの照射位置において、第1プリパルスレーザ光P1の光強度分布がガウス分布であるとすると、5%幅が40μmとなる照射径は、1/e2幅で68μmとなり、50%幅が40μmとなる照射径は、1/e2幅で253μmとなり得る。従って、第1プリパルスレーザ光P1の照射径D1は以下の範囲でよい。
50μm≦D1≦300μm
なお、1/e2幅とは、ターゲットへの照射位置における光強度分布のうち、ピーク強度の1/e2以上の光強度を有する部分の直径をいう。eは、ネイピア数であり、1/e2は、約13.5%である。
メインパルスレーザ光Mの照射径Dmは、レーザ光のエネルギーからEUV光のエネルギーへの変換効率がよい照射強度を実現するような照射径としてもよい。本発明者らの実験によれば、メインパルスレーザ光Mの照射強度を5×109W/cm2以上、1×1010W/cm2以下とすることが、レーザ光のエネルギーからEUV光のエネルギーへの変換効率の点で好ましいとの結果が得られている。なお、メインパルスレーザ光Mの照射強度については、図10を参照しながら後述する。メインパルスレーザ光Mのパルスエネルギーを例えば400mJとし、パルス時間幅を15nsとすると、メインパルスレーザ光Mの照射径Dmは、以下の範囲でよい。
450μm≦Dm≦900μm
Dp>Dm (式2)
仮にプラズマの直径Dpを400μmとした場合、メインパルスレーザ光Mの照射径Dmは、300μm程度でもよい。従って、メインパルスレーザ光Mの照射径Dmは、第1プリパルスレーザ光P1の照射径D1より大きくてよい。
Dm>D1 (式3)
Dt>Dm
また、プラズマの直径Dpは、メインパルスレーザ光Mを照射するときの3次ターゲット273の直径Dtより小さくてよい。
Dt>Dp (式4)
図6B及び図6Cの説明を前提とすると、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2は、メインパルスレーザ光Mを照射するときの3次ターゲット273の直径Dtと同等以上でよい。
D2≧Dt (式5)
本実施形態において、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2は、メインパルスレーザ光Mの照射径Dmより大きい。そこで、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2の下限は、300μmでよい。
従って、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2は以下の範囲でよい。
300μm≦D2≦4000μm
好ましくは、第2プリパルスレーザ光P2の照射径D2は以下の範囲でよい。
300μm≦D2≦900μm
D2≧Dt>Dp>Dm>D1>Dd
本発明者らの実験によれば、遅延時間T1M及び遅延時間T2Mは以下の範囲が好ましいという結果が得られている。
第1プリパルスレーザ光P1の照射タイミングからメインパルスレーザ光Mの照射タイミングまでの遅延時間T1Mは、以下の範囲が好ましい。
0.5μs<T1M<3μs
遅延時間T1Mについては、図8を参照しながら後述する。
10ns<T2M<300ns
遅延時間T2Mは、以下の範囲がさらに好ましい。
50ns<T2M<100ns
2.4.6.1 第1プリパルスレーザ光のフルーエンス
図8は、第1プリパルスレーザ光P1のフルーエンスと、レーザ光のエネルギーからEUV光のエネルギーへの変換効率(CE)との関係を示すグラフである。図8は、さらに、第1プリパルスレーザ光P1のフルーエンスと、第1プリパルスレーザ光P1の照射タイミングからメインパルスレーザ光Mの照射タイミングまでの遅延時間T1Mの最適値との関係も示す。
第1プリパルスレーザ光P1の照射径とフルーエンスを一定にして、複数の遅延時間T1Mで測定を行い、最も高い変換効率が得られた場合の遅延時間T1Mを最適遅延時間とし、そのときの変換効率とともに図8に示した。
0.5μs<T1M<3μs
図9は、第2プリパルスレーザ光P2のフルーエンスと、レーザ光のエネルギーからEUV光のエネルギーへの変換効率(CE)との関係を示すグラフである。
図10は、メインパルスレーザ光Mの照射強度と、レーザ光のエネルギーからEUV光のエネルギーへの変換効率(CE)との関係を示すグラフである。本開示において、照射強度とは、ターゲットへの照射位置におけるパルスレーザ光の光強度をいう。この光強度は、ピーク強度の1/e2以上の光強度を有する部分における平均値でもよい。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
Claims (16)
- 所定領域に向けてターゲットを出力するターゲット供給部と、
前記ターゲットに照射される第1レーザ光と、前記第1レーザ光が照射された前記ターゲットに照射される第2レーザ光と、前記第2レーザ光が照射された前記ターゲットに照射される第3レーザ光と、を出力するレーザシステムと、
前記ターゲットにおける前記第2レーザ光の照射径が、前記ターゲットにおける前記第3レーザ光の照射径より大きくなるように構成された光学システムと、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記第3レーザ光は、前記ターゲットをプラズマ化してEUV光を生成するためのレーザ光である、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記ターゲットにおける前記第2レーザ光の照射径が、前記第2レーザ光が照射されるときの前記ターゲットの直径よりも大きくなるように構成された、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記ターゲットにおける前記第2レーザ光の照射径が、前記第3レーザ光が照射されるときの前記ターゲットの直径以上となるように構成された、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記ターゲット供給部は、前記ターゲットを含む複数のターゲットを順次出力するように構成され、
前記光学システムは、前記ターゲットにおける前記第2レーザ光の照射径が、前記複数のターゲットの間の間隔の2倍以下となるように構成された、請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記光学システムは、前記ターゲットにおける前記第1レーザ光の照射径が、前記ターゲットにおける前記第3レーザ光の照射径より小さくなるように構成された、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記第1レーザ光の光路に配置され、前記第1レーザ光の照射径を調節する調節機構を含む、請求項6記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記第2レーザ光の光路に配置され、前記第2レーザ光の照射径を調節する調節機構を含む、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記第3レーザ光の光路に配置され、前記第3レーザ光の照射径を調節する調節機構を含む、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記光学システムは、前記第2レーザ光の光路に配置され、前記第2レーザ光の照射径を、300μm以上、4000μm以下にする、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記ターゲットにおける前記第2レーザ光のフルーエンスを、1J/cm2以上、10J/cm2以下にする、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記第2レーザ光のパルス時間幅を、前記第3レーザ光のパルス時間幅より短くする、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記第1レーザ光の照射タイミングから前記第3レーザ光の照射タイミングまでの遅延時間を、0.5μs以上、3μs以下にする、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記第2レーザ光の照射タイミングから前記第3レーザ光の照射タイミングまでの遅延時間を、0.01μs以上、0.3μs以下にする、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記第1レーザ光が照射された前記ターゲットに、前記第2レーザ光が照射される前に照射される第4レーザ光をさらに出力する、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザシステムは、前記第2レーザ光が照射された前記ターゲットに、前記第3レーザ光が照射される前に照射される第5レーザ光をさらに出力する、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
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