KR102115543B1 - 극자외선 광원 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 극자외선 광원 장치에 관한 것으로, 가스 흐름과 액적 흐름이 제공되고 상기 액적 흐름에 레이저가 조사되어 극자외선을 방출하는 플라즈마가 발생되는 챔버, 타겟 물질을 상기 액적 흐름으로 만드는 액적 생성기, 및 상기 액적 흐름을 따라 배치되고 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 보호하는 슈라우드를 포함한다. 상기 슈라우드는 상기 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 안내하는 흐름 가이드를 포함한다.

Description

극자외선 광원 장치{EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICES}
본 발명은 포토리소그래피 설비에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 극자외선 광원 장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 웨이퍼 상에 구현하는데 있어서 포토리소그래피 기술이 이용된다. 반도체 소자의 축소화 경향에 따른 미세 패턴을 형성하는데 있어서 극자외선(EUV)이 포토리소그래피 장치의 광원으로 채택되고 있다. 극자외선은 미국공개특허공보 제2011/0248191호에 개시된 레이저 유기 플라즈마(LPP) 방식에 의해 만들어질 수 있다. 상기 장치를 운용하는데 있어서 콜렉터 미러의 오염 문제가 빈번하게 발생되고 있어, 이를 방지할 수 있는 개선된 장치의 필요성이 있다.
본 발명은 상술한 종래 기술에서 요구되는 필요에 부응하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 오염 발생을 줄일 수 있는 극자외선 광원 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 극자외선 광학 장치는 슈라우드에 축적되는 타겟 물질의 흐름을 안내하는 흐름 가이드를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 축적되는 타겟 물질을 흡수할 수 있는 슈라우드를 포함하는 것을 다른 특징으로 한다. 본 발명은 슈라우드에 축적되는 타겟 물질을 모니터링할 수 있는 것을 또 다른 특징으로 한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치는: 가스 흐름과 액적 흐름이 제공되고, 상기 액적 흐름에 레이저가 조사되어 극자외선을 방출하는 플라즈마가 발생되는 챔버; 타겟 물질을 상기 액적 흐름으로 만드는 액적 생성기; 및 상기 액적 흐름을 따라 배치되고, 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 보호하는 슈라우드를 포함하고, 상기 슈라우드는 상기 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 안내하는 흐름 가이드를 포함할 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 슈라우드는 상기 액적 생성기에 결합되고, 상기 흐름 가이드는 상기 타겟 물질을 상기 액정 생성기를 향하게 혹은 중력 방향에 의해 흐르도록 하는 방향으로 신장될 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 흐름 가이드는 직선 형태이거나 나선 형태일 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 슈라우드는 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 차단하는 밀폐부와 그 반대면인 개방부를 포함하는 U자 형태를 가질 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 흐름 가이드는 상기 슈라우드의 내면에 제공될 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 슈라우드는 상기 액적 생성기에 결합되는 제1 단부과 그 반대면인 제2 단부를 포함하고, 상기 개방부의 크기는 상기 제2 단부로부터 상기 제1 단부로 갈수록 동일하거나 커질 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 슈라우드의 제1 단부에 결합되어 상기 흐름 가이드를 따라 흘러오는 상기 타겟 물질을 저장하는 저장용기를 더 포함할 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 슈라우드를 사이에 두고 상기 액적 생성기와 마주보며, 상기 타겟 물질의 액적을 수집하는 캣처를 더 포함할 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 액적 흐름을 따라 배치되고 상기 캣처에 결합된 제2 슈라우드를 더 포함하고, 상기 제2 슈라우드는 상기 제2 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 상기 캣처를 향하는 방향으로 안내하는 혹은 중력에 의해 흐르도록 하는 직선 혹은 나선 형태의 제2 흐름 가이드를 포함할 수 있다.
일 실시예의 장치에 있어서, 상기 제2 슈라우드에 결합되어 상기 제2 흐름 가이드를 따라 흘러오는 상기 타겟 물질을 저장하는 제2 저장용기를 더 포함할 수 있다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치는: 극자외선을 수집 반사하는 콜렉터 미러가 수용된 챔버; 타겟 물질의 액적 흐름을 챔버로 제공하는 액적 생성기; 상기 액적 흐름을 향하는 방향으로 가스 흐름을 제공하는 가스 소오스; 상기 타겟 물질로 조사되어 상기 극자외선을 방출하는 플라즈마를 발생시키는 레이저를 생성하는 레이저 시스템; 상기 액적 생성기와 대향하여 상기 타겟 물질의 액적을 수집하는 캣처; 및 상기 액적 흐름을 따라 신장되고, 상기 액적 흐름을 부분적으로 커버하는 상기 액정 생성기에 결합된 제1 슈라우드를 포함하고, 상기 제1 슈라우드는 상기 제1 슈라우드에 축적되는 상기 타겟 물질의 흐름을 상기 액적 생성기를 향하는 방향으로 안내하는 제1 흐름 가이드를 포함할 수 있다.
다른 실시예의 장치에 있어서, 상기 캣처에 결합된 제2 슈라우드를 더 포함하고, 상기 제2 슈라우드는 상기 제2 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 상기 캣처를 향하는 방향으로 안내하는 제2 흐름 가이드를 포함할 수 있다.
다른 실시예의 장치에 있어서, 상기 제1 및 제2 슈라우드들 중 적어도 어느 하나는 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 차단하는 밀폐부와 그 반대면인 개방부를 포함하는 U자 형태를 가지며, 상기 개방부의 크기는 상기 적어도 어느 하나의 일단으로부터 그 반대면인 타단으로 갈수록 크기가 점진적으로 커질 수 있다.
다른 실시예의 장치에 있어서, 상기 제1 및 제2 슈라우드들 중 적어도 어느 하나와 결합된 압전 트랜스듀서 혹은 스트레인 게이지를 더 포함할 수 있다.
다른 실시예의 장치에 있어서, 상기 제1 및 제2 슈라우드들 중 적어도 어느 하나와 상기 압전 트랜스듀서 혹은 상기 스트레인 게이지 사이에 삽입된 열부도체를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 의하면, 축적되는 타겟 물질의 흐름을 안내할 수 있는 슈라우드가 액적 생성기 혹은 액적 생성기와 캣처에 결합되므로써 타겟 물질에 의한 콜렉터 미러의 오염 발생이 없어지거나 현저히 줄어들 수 있다. 따라서, 극자외선 광원 장치의 수명을 늘리고, 사용율을 높이는 효과가 있다. 아울러, 슈라우드에 축적되는 타겟 물질을 모니터링할 수 있어 콜렉터 미러가 오염되지 이전에 예방 정비가 가능해지고 이에 따라 장치 운용의 효율성을 높이는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광원 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광원 장치의 일부를 도시한 측면도이다.
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 일례의 슈라우드를 도시한 사시도이다.
도 3b 내지 도 3d는 슈라우드의 다양한 예들을 도시한 사시도들이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 다른 예의 슈라우드를 도시한 사시도이다.
도 4b 내지 도 4d는 슈라우드의 변경예들을 도시한 사시도들이다.
도 5는 도 2의 변경예를 도시한 측면도이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 또 다른 예의 슈라우드를 도시한 측면도이다.
도 6b 내지 6d는 본 발명의 일 실시예에 따른 슈라우드가 갖는 공진주파수를 도시한 그래프들이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 또 다른 예의 슈라우드를 도시한 측면도이다.
이하, 본 발명에 따른 극자외선 광원 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
<극자외선 광원 장치의 예>
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광원 장치를 도시한 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 장치(1)는 레이저 유기 플라즈마(Laser Prodcued Plasma: LPP) 방식으로 극자외선(Extreme Ultraviloet: EUV)을 생성시키는 극자외선 광원(EUV light source)일 수 있다. 예컨대, 장치(1)는 타겟 물질로 레이저를 조사하여 플라즈마를 만들고, 플라즈마로부터 생성된 극자외선을 스캐너 혹은 스텝퍼와 같은 노광 장치로 제공할 수 있다.
장치(1)는 어퍼처(92)를 갖는 콜렉터 미러(90)가 수용되며 레이저 유기 플라즈마로부터 극자외선(74)이 실질적으로 생성되는 챔버(80), 타겟 물질의 액적(흑점으로 표시)을 챔버(80)로 제공하는 액적 생성기(100: droplet generator), 플라즈마 생성 반응에 참여하지 못하는 액적을 수집하는 캣처(160: catcher), 그리고 액적을 향해 조사되는 가령 CO2 레이저(72)를 생성시켜 윈도우(82)를 통해 챔버(80)로 제공하는 레이저 시스템(70)을 포함할 수 있다.
타겟 물질은 Sn, Li, Ti, Xe 혹은 이들의 조합을 포함할 수 있다. 일례로, 타겟 물질은 순수한 Sn, 주석화합물(예: SnBr4, SnBr2, SnH), 주석합금(예: Sn-Ga, Sn-In, Sn-In-Ga), 혹은 이들의 조합을 포함할 수 있다. 액적은 액적 생성기(100)로부터 캣처(170)를 향하는 X 방향으로의 실질적인 흐름을 가질 수 있다. 챔버(80)는 가령 1Torr 이하의 고진공 상태에 있을 수 있다. 콜렉터 미러(90)는 극자외선(74)을 수집하고 반사할 수 있는 반사면을 가질 수 있다.
또한, 장치(1)는 H2, 수소 라디칼, He, Ar, HBr, HCl 혹은 이들의 조합을 챔버(80)로 제공하는 가스 소오스(60)를 더 포함할 수 있다. 가스 소오스(60)로부터 제공되는 가스는 어퍼처(92) 등을 통해 챔버(80)로 제공되고 포트(84)를 통해 배출될 수 있다. 상기 가스 흐름(실선화살표로 표시)에 의해 콜렉터 미러(9)는 오염으로부터 보호될 수 있다. 상기 가스의 실질적인 주된 흐름은 극자외선(74)이 수렴되는 Y 방향일 수 있다.
아울러, 장치(1)는 레이저 시스템(70) 내의 레이저 소스를 활성화(trigger)하는 점화제어시스템(10), 액적의 위치와 타이밍을 나타내는 출력을 제공하고 이러한 출력을 피드백 시스템(40)에 제공하는 액적 이미저(50: droplet imager), 액적 위치 오차 정보를 제공받아 챔버(80)로 제공되는 레이저(72)의 궤적이나 초점 파워를 변화시키도록 레이저 시스템(70)을 제어하는 극자외선 광원 제어시스템(10)을 포함할 수 있다.
액적 생성기(100)에는 금속(예: Mo, Cu, 스테인레스)으로 구성된 슈라우드(110: shroud)가 부착될 수 있다. 본 실시예에 따르면, 슈라우드(110)는 후술한 바와 같이 축적되는 타겟 물질의 흐름을 안내하거나 타겟 물질을 흡수하기에 적합하게 구성될 수 있다.
<액적 생성기와 캣처의 예>
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광원 장치의 일부를 도시한 측면도이다.
도 1 및 2를 참조하면, 액적 생성기(100)는 챔버(80)로의 액적 흐름을 제공하고 액적 흐름을 향해 레이저(72)가 제공되어 플라즈마가 발생될 수 있다. 플라즈마 발생에 참여하지 못한 액적은 캣처(170)에 의해 수집될 수 있다. 액적은 액적 생성기(100)로부터 캣처(170)를 향하는 X 방향의 흐름을 가질 수 있다. 본 발명을 이에 한정하려는 의도는 전혀 아닌 단지 일례로서, 액적 흐름 방향(X 방향)은 중력 방향(Z 방향)과 실질적으로 직교할 수 있다. 액적 생성기(100)는 중력 방향(Z 방향)이나 그 반대 방향으로, 혹은 콜렉터 미러(90)를 향하거나 그 반대 방향으로 경사지게끔 설비될 수 있고, 이에 따라 액적 흐름이 경사질 수 있다.
플라즈마 발생시 액적 혹은 액적 부산물이 콜렉터 미러(90)에 누적될 수 있다. 이러한 콜렉터 미러(90)의 오염을 방지하기 위해 가스 소오스(60)는 Y 방향으로의 가스 흐름을 챔버(80)에 제공될 수 있다. 액적 흐름을 가스 흐름으로부터 보호할 수 있는 슈라우드(110)가 액적 생성기(100)에 결합될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 슈라우드(110)에 축적되는 타겟 물질을 저장하는 저장용기(120)가 슈라우드(110)에 결합될 수 있다. 슈라우드(110)는 저장용기(120)를 향해 축적된 타겟 물질을 안내하거나 혹은 흡수할 수 있도록 구성될 수 있다. 이에 대해선 이하에서 설명된다.
<슈라우드의 예>
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 일례의 슈라우드를 도시한 사시도이다. 도 3b 내지 도 3d는 슈라우드의 다양한 예들을 도시한 사시도들이다.
도 3a를 참조하면, 슈라우드(110)는 Y 방향으로의 가스 흐름으로부터 액적 흐름을 보호(shield)하기에 적합한 형태를 가질 수 있다. 슈라우드(110)는 액적 흐름 방향(X 방향)을 따라 연장되고, 액적 흐름을 부분적으로 커버하는 형태를 가질 수 있다. 예컨대, 슈라우드(110)는 가스 흐름을 받는 측면은 밀폐되고 그 반대 측면은 열린, 그리고 상면과 하면은 평평하고 일측면은 라운드된 가령 “U”자 형태를 가질 수 있다. 슈라우드(110)의 후단(110re)은 액적 생성기(100)에 결합되고, 전단(110fe)은 캣처(도 2의 170)를 바라볼 수 있다.
타겟 물질이나 그 부산물 혹은 액성 생성기(100)로부터 흘러나온 불필요한 타겟 물질 등이 슈라우드(110)에 축적될 수 있다. 슈라우드(110)에 축적된 타겟 물질은 콜렉터 미러(90)로 흘러내려 콜렉터 미러(90)를 오염시킬 수 있다. 본 실시예에 따르면, 슈라우드(110)는 축적되는 타겟 물질로 인한 콜렉터 미러(90)의 오염을 방지할 수 있는 구조를 가질 수 있다.
다른 예로, 슈라우드(110)는 전단(110fe)과 후단(110re)이 동일한 크기를 갖거나 혹은 전단(110fe)에서 후단(110re)으로 갈수록 점점 커지는 크기를 갖는 원통형일 수 있다.
도 3b를 참조하면, 슈라우드(110)는 전단(110fe)의 크기 내지 높이(T1)와 후단(110re)의 크기 내지 높이(T2)가 실질적으로 동일할 수 있다. 슈라우드(110)의 내면(110b)에는 축적된 타겟 물질의 흐름을 안내하는 흐름 가이드(112: flow guide)가 형성되어 있을 수 있다. 슈라우드(110)의 외면(110a)은 매끈한 표면을 갖거나 혹은 내면(110b)과 같이 흐름 가이드(112)가 형성되어 있을 수 있다.
흐름 가이드(112)는 돌출되거나 리세스된 그루브(groove)일 수 있다. 일례로, 흐름 가이드(112)는 슈라우드(110)의 길이 방향, 즉 액적 흐름 방향(X 방향)과 평행하게 연장된 직선형 그루브일 수 있다. 다른 예로, 도 3c에 도시된 바와 같이, 흐름 가이드(112)는 슈라우드(110)의 길이 방향(X 방향)을 따라 연장된 나선형 그루브일 수 있다.
슈라우드(110)에 축적된 타겟 물질은 흐름 가이드(112)에 한정되거나 혹은 흐름 가이드(112)를 따라 이동될 수 있다. 액적 생성기(100)의 기울임(tilting)에 의해 슈라우드(110)가 그 전단(110fe)이 중력 방향(Z 방향)에 반대되는 방향으로 기울진 경우 타겟 물질은 흐름 가이드(112)를 따라 액적 생성기(100)를 향해 흐를 수 있다. 이러한 이유들로 인해 슈라우드(110)에 축적된 타겟 물질이 콜렉터 미러(90)로 떨어지는 현상이 최소화되거나 억제될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 도 3a에 도시된 바와 같이 흐름 가이드(112)를 따라 흐르는 타겟 물질이 모여지는 저장용기(120)가 슈라우드(110)의 후단(110re)에 결합될 수 있다.
도 3d를 참조하면, 슈라우드(110)는 편조(braid) 구조를 가질 수 있다. 일례로, 슈라우드(110)의 내면(110b)은 표면적을 극대화할 수 있는 금속제 편조 구조를 가져 축적된 타겟 물질을 흡수할 수 있다. 다른 예로, 슈라우드(110)의 내면(110b) 뿐만 아니라 외면(110a)이 편조 구조일 수 있다. 본 실시예의 경우, 저장용기(120)의 필요성이 없을 수 있다.
본 발명을 이에 한정하려는 의도는 전혀 아닌 단지 일례로서, 슈라우드(110)는 미국특허 제3,627,191호에 개시된 바와 같은 솔더위크(Solderwick)와 동일하거나 유사한 금속제 편물 구조를 가질 수 있다. 솔더위크는 가령 구리를 포함할 수 있고 구리 표면의 산화막(CuO)을 제거하고 웨팅성(wettability)을 좋게 하기 위해 플럭스를 포함할 수 있다. 챔버(80) 내의 청정을 유지하기 위해선 플럭스가 포함된 솔더위크를 슈라우드(110)에 적용하기엔 문제점이 있을 수 있다.
그러나, 도 1에서 전술한 것처럼 챔버(80)에 가스 흐름이 제공될 수 있고 레이저(72)에 의해 솔더위크가 가열될 수 있으므로 솔더위크의 표면에 형성된 산화막이 제거될 수 있다. 그러므로, 플럭스가 없는 솔더위크와 같은 구조를 슈라우드(110)에 적용시킬 수 있다.
<슈라우드의 다른 예>
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 다른 예의 슈라우드를 도시한 사시도이다. 도 4b 내지 도 4d는 슈라우드의 변경예들을 도시한 사시도들이다.
도 4a를 참조하면, 슈라우드(110)는 액적 흐름 방향(X 방향)으로 연장된 “U”자형 형태를 가지되 축적된 타겟 물질이 중력 방향(Z 방향)으로 자연스럽게 흐를 수 있도록 구성될 수 있다.
도 4b를 참조하면, 슈라우드(110)는 전단(110fe)에서 후단(110re)으로 갈수록 크기가 점진적으로 커지는 형태를 가질 수 있다. 가령, 슈라우드(110)의 하면이 후단(110re)으로 갈수록 중력 방향(Z 방향)으로 점진적으로 아래로 처지는 형태를 가질 수 있다. 따라서, 전단(110fe)의 크기(T1)에 비해 후단(110re)의 크기(T2)가 더 클 수 있다. 흐름 가이드(112)는 슈라우드(110)의 길이 방향(X 방향)과 평행하게 연장된 직선형 그루브일 수 있다. 다른 예로, 흐름 가이드(112)는 슈라우드(110)의 길이 방향(X 방향)을 따라 연장된 나선형 그루브일 수 있다.
도 4c를 참조하면, 슈라우드(110)의 외면(110a)과 내면(110b) 중 적어도 내면(110b)은 편조(braid) 구조를 가질 수 있다. 본 실시예의 경우, 저장용기(120)의 필요성이 없을 수 있다.
< 액적 생성기와 캣처의 다른 예 >
도 5는 도 2의 변경예를 도시한 측면도이다.
도 5를 참조하면, 캣처(170)에 결합되는 제2 슈라우드(150)를 더 포함할 수 있다. 제2 슈라우드(150)가 캣처(170)에 결합되는 부위 아래에 타겟 물질을 모으는 제2 저장용기(160)를 더 포함할 수 있다. 본 실시예에 따르면, 플라즈마 반응에 참여하지 않거나 혹은 캣처(170)로 수집되는 타겟 물질이 콜렉터 미러(90)에 노출되는 경로가 줄어들 수 있다. 제2 슈라우드(150)는 본 명세서에 기재된 다양한 형태를 가질 수 있다.
<슈라우드에 축적된 타겟 물질의 측정장치의 예>
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 또 다른 예의 슈라우드를 도시한 측면도이다. 도 6b 내지 6d는 본 발명의 일 실시예에 따른 슈라우드가 갖는 공진주파수를 도시한 그래프들이다.
도 6a를 참조하면, 슈라우드(110)와 액적 생성기(100) 사이에 압전 트랜스듀서(140: piezoelectric transducer)가 제공될 수 있다. 슈라우드(110)에 축적되는 타겟 물질(예: 주석)의 양에 의해 슈라우드(110)의 공진주파수가 변화되고, 이 변화를 압전 트랜스듀서(140)를 통해 측정할 수 있다. 도 1에서 설명한 바와 같이 챔버(80)에는 타겟 물질의 용융점 혹은 그 이상으로 가열된 액적 흐름이 제공되고 레이저(72)에 의해 플라즈마가 발생되므로 고열의 환경이 조성될 수 있다. 이에 따라 상기 열에 의한 영향을 최소화하여 타겟 물질의 축적 여부를 신뢰성있게 측정하기 위해 슈라우드(110)의 후단(110re)에 열부도체(130)가 더 제공될 수 있다.
도 6b에 도시된 슈라우드(110)에 타겟 물질이 축적되지 않았을 때의 슈라우드(110)의 공진주파수와 도 6c 혹은 6d에 도시된 슈라우드(110)에 타겟 물질이 축적되었을 때의 슈라우드(110)의 공진주파수를 비교하므로써 타겟 물질의 축적 여부를 모니터링할 수 있다. 슈라우드(110)에 타겟 물질이 축적되어 있으면 슈라우드(110)의 강성이 달라져 도 6c에서처럼 가령 우측으로 쉬프트된 공진주파수를 얻거나 혹은 도 6d에서처럼 새로운 피크가 나타난 공진주파수를 얻을 수 있다. 이처럼, 공진주파수의 변화를 통해 슈라우드(110)의 오염 여부를 실시간으로 판별할 수 있다.
다른 예로, 압전 트랜스듀서(140)와 열부도체(130)는 도 5에 도시된 캣처(170)에 결합되는 슈라우드(150)에 설비될 수 있다.
<슈라우드에 축적된 타겟 물질의 측정장치의 다른 예>
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 광학 장치에 있어서 액적 생성기에 결합된 또 다른 예의 슈라우드를 도시한 측면도이다.
도 7을 참조하면, 슈라우드(110)의 후단(110re)에 스트레인 게이지(180)를 설비할 수 있다. 슈라우드(110)에 타겟 물질이 축적되면 슈라우드(110)의 중량이 변화될 수 있는데, 스트레인 게이지(180)는 중량 변화에 따른 슈라우드(110)의 스트레인을 측정할 수 있다. 이에 따르면, 슈라우드(110)에 축적되는 타겟 물질의 양을 모니터링할 수 있다. 열에 의한 영향을 최소화하기 위해 슈라우드(110)의 후단(110re)에 열부도체(130)가 더 제공될 수 있다.
다른 예로, 스트레인 게이지(180)와 열부도체(130)는 도 5에 도시된 캣처(170)에 결합되는 슈라우드(150)에 설비될 수 있다.
이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (11)

  1. 가스 흐름과 액적 흐름이 제공되고, 상기 액적 흐름에 레이저가 조사되어 극자외선을 방출하는 플라즈마가 발생되는 챔버;
    타겟 물질을 상기 액적 흐름으로 만드는 액적 생성기;
    상기 액적 흐름을 따라 배치되고, 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 보호하는 슈라우드; 및
    상기 슈라우드에 결합되는 저장용기를 포함하고,
    상기 슈라우드는:
    상기 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 안내하는 흐름 가이드;
    상기 슈라우드는 상기 액적 생성기에 결합되는 제1 단부; 및
    상기 제1 단부의 반대면인 제2 단부; 를 포함하고,
    상기 저장용기는 상기 슈라우드의 제1 단부에 결합되어 상기 흐름 가이드를 따라 흘러오는 상기 타겟 물질을 저장하는 극자외선 광원 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 슈라우드는 상기 액적 생성기에 결합되고, 상기 흐름 가이드는 상기 타겟 물질을 상기 액적 생성기를 향하게 혹은 중력에 의해 흐르도록 하는 방향으로 신장된 극자외선 광원 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 흐름 가이드는 직선 형태이거나 나선 형태인 극자외선 광원 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 슈라우드는 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 차단하는 밀폐부와 그 반대면인 개방부를 포함하는 U자 형태를 갖는 극자외선 광원 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 개방부의 크기는 상기 제2 단부로부터 상기 제1 단부로 갈수록 동일하거나 커지는 극자외선 광원 장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 흐름 가이드는 상기 슈라우드의 내면에 제공된 극자외선 광원 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 슈라우드를 사이에 두고 상기 액적 생성기와 마주보며, 상기 타겟 물질의 액적을 수집하는 캣처를 더 포함하는 극자외선 광원 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 액적 흐름을 따라 배치되고 상기 캣처에 결합된 제2 슈라우드를 더 포함하고,
    상기 제2 슈라우드는 상기 제2 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 상기 캣처를 향하는 방향으로 안내하는 혹은 중력에 의해 흐르도록 하는 직선 혹은 나선 형태의 제2 흐름 가이드를 포함하는 극자외선 광원 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제2 슈라우드에 결합되어 상기 제2 흐름 가이드를 따라 흘러오는 상기 타겟 물질을 저장하는 제2 저장용기를 더 포함하는 극자외선 광원 장치.
  11. 가스 흐름과 액적 흐름이 제공되고, 상기 액적 흐름에 레이저가 조사되어 극자외선을 방출하는 플라즈마가 발생되는 챔버;
    타겟 물질을 상기 액적 흐름으로 만드는 액적 생성기; 및
    상기 액적 흐름을 따라 배치되고, 상기 액적 흐름을 상기 가스 흐름으로부터 보호하는 슈라우드를 포함하고,
    상기 슈라우드는 상기 슈라우드에 축적된 상기 타겟 물질의 흐름을 안내하는 비평탄 흐름 가이드를 내면 상에 포함하며,
    상기 비평탄 흐름 가이드는 그루브들 또는 돌출된 형상들을 포함하는 극자외선 광원 장치.
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