JP2014510404A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. チャンバと、
   光学系と、
   前記チャンバ内で、第１のターゲット材料液滴を用いて、ＥＵＶ光放出プラズマを発生させて前記光学系上に堆積物を生成する１次ＥＵＶ光放射体と、
   ガスと、
   前記チャンバ内で前記第１のターゲット材料液滴とは異なる第２のターゲット材料液滴からレーザ生成プラズマを発生させて前記ガスを用いて洗浄種を生成する２次光放射体と
   を含む洗浄システムと
   を含み、前記２次光放射体は、前記ＥＵＶ光放出プラズマを生成するために前記１次ＥＵＶ光放射体によって使用される第１のレーザ源とは異なる第２のレーザ源を使用する、極紫外（ＥＵＶ）光源。
2. 前記１次ＥＵＶ光放射体は、レーザ生成プラズマである、請求項１に記載の光源。
3. 前記１次ＥＵＶ光放射体は、レーザ生成プラズマ及び放電生成プラズマから構成されるＥＵＶ光放射体の群から選択される、請求項１に記載の光源。
4. 前記１次ＥＵＶ光放射体は、レーザ生成プラズマであり、前記第１のレーザ源が、該１次ＥＵＶ光放射体レーザ生成プラズマのためのレーザビームを発生させ、前記第２のレーザ源が、前記２次光放射体レーザ生成プラズマのためのレーザビームを発生させる、請求項１に記載の光源。
5. 前記１次ＥＵＶ光放射体は、レーザ生成プラズマであり、
   前記光源が、前記１次ＥＵＶ光放射体のための第１の原材料液滴と、前記２次光放射体のための前記第２のターゲット材料液滴とを発生させるのに使用される少なくとも１つの成分を有する材料送出システムを更に含む、請求項１に記載の光源。
6. 前記２次光放射体は、ガス内の分解を生じる集束レーザビームを含む、請求項１に記載の光源。
7. 前記ガスは、水素を含み、前記洗浄種は、水素ラジカルを含む、請求項１に記載の光源。
8. 前記第１のターゲット材料液滴は、レーザビームとともに炭素を含む分子を含む、請求項１に記載の光源。
9. 炭素を含む分子を有する前記材料は、油を含むことを特徴とする請求項８に記載の光源。