JP5580032B2 - 極端紫外光光源装置 - Google Patents
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Description
図1は、この発明の実施の形態1による極端紫外光光源装置の断面図である。図1において、この極端紫外光光源装置1は、真空チャンバ10を有する。この真空チャンバ10内にドロップレットノズル11からは、溶融されたSnのドロップレットDが噴出される。真空チャンバ10外には、YAGパルスレーザであるプリプラズマ生成レーザ12が設けられる。このプリプラズマ生成レーザ12から出射されたプリプラズマ生成レーザ光L1は、ウィンドウW1を介して真空チャンバ10内に入射した後、真空チャンバ10内の略中央の位置P1で、ドロップレットノズル11から噴出されたドロップレットDの一部に入射する。この結果、−Z方向にプリプラズマPPが生成される。なお、プリプラズマとは、プラズマ状態またはプラズマと蒸気との混合物の状態を言う。
上述した実施の形態1では、プリプラズマを生成する過程を含む多段階照射を採用することによって、Snイオンの初期エネルギーを小さくするようにしていた。これに対し、この実施の形態2では、ターゲットとしてマスリミテッドターゲットを用いることで、デブリとして放出されるターゲット原子の初期エネルギーを低減する。マスリミテッドターゲットとは、質量が必要なEUV光が得られる最小の質量に抑えられたターゲットである。たとえば、図9に示すマスリミテッドターゲットは、10μm径のドロップレットD1である。これにより、EUV光生成レーザ光の強度を小さくすることが可能となるため、結果的に、発生するSnイオンエネルギーの初期エネルギーを小さくすることが可能となる。具体的に、4%のEUV光変換効率を得るには、1〜5×1018cm−3程度のSn密度が必要である。これを満足するには、ノズル11aから噴出される液体SnのドロップレットD1の径が10μmであればよい。ドロップレットD1の径を10μmとした場合にEUV光生成レーザ光L2に要求されるパワーは、1010W/cm2程度である。なお、マスリミテッドターゲットに上述した多段階照射を組み合わせることで、Snイオンエネルギーをさらに低減させることも可能である。
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。図12は、この発明の実施の形態3による極端紫外光光源装置の構成を示す断面図である。この実施の形態3では、磁場の中心軸C上に配置された、対向する一対のイオン回収筒30aおよび30bが設けられる。この一対のイオン回収筒30aおよび30bによって、磁場の中心軸Cに沿って収束しつつイオン流FL1およびFL2となって移動するSnイオンが回収される。このイオン回収筒30aおよび30bは、Snイオンの入射側に接地されたグリッド電極33aおよび33bを備えるとともに、底部側に高い正電位が印加されたイオン回収板32aおよび32bを備える。この構成により、グリッド電極33aおよび33bとイオン回収板32aおよび32bとの間にそれぞれかかる電界によって入射するSnイオンの速度が低下するため、イオン回収板32a,32bに衝突する際のSnイオンエネルギーを小さくすることが可能となる。すなわち、入射する正イオンであるSnイオンは、クーロン力Fを受けて速度が減少されて、Snイオンエネルギーが小さくなる。これによって、イオン回収板32aおよび32bの衝突面でのスパッタ率を低減することができる。なお、ドロップレットDに対して直接、EUV光生成レーザ光L2を照射してプラズマを生成することでEUV光を生成する場合、発生したSnイオンは、磁場の中心軸Cの両側に移動していく。そこで、本実施の形態3では、2つのイオン回収筒30aおよび30bを設けている。
つぎに、この発明の実施の形態4について説明する。この実施の形態4では、低速イオン流ターゲットを生成し、この低速イオン流ターゲットにEUV光生成レーザ光を照射することによってEUV光を生成する。低速イオン流ターゲットを用いることで、発生するSnイオンエネルギーを小さくすることが可能である。
上述した実施の形態4では、イオン生成真空チャンバ10b内でプラズマを生成させ、このプラズマからSnイオンのみを取り出してEUV光生成真空チャンバ10a内に流入させてEUV光を発光出力させた。これに対し、この実施の形態5では、図17に示すように、金属蒸気生成チャンバ10c内で、蒸気生成用レーザ光L21をドロップレットDに照射してターゲット材であるSnを蒸発させる。この蒸発したSn蒸気を、Sn蒸気流FL4として開口部30を介してEUV光生成真空チャンバ10a内に蒸気の拡散によって流入させる。
つぎに、この発明の実施の形態6について説明する。この実施の形態6では、イオン回収筒の前段あるいはイオン回収筒内であってイオン回収板の前段に、Snイオンと衝突するガス領域が設けられる。このガス領域によってSnイオンを減速することが可能となるため、衝突時のSnイオンエネルギーを小さくして衝突面におけるスパッタリングを防止することが可能となる。
つぎに、この発明の実施の形態7を、図面を用いて詳細に説明する。図21は、この発明の実施の形態7による極端紫外光光源装置の構成を示す断面図である。ただし、図21には、EUV光L3の出力方向DEとマグネット15aおよび15bが形成する磁場の中心軸Cとの双方を含む面で極端紫外光光源装置を切断した際の断面図を示す。
つぎに、この発明の実施の形態8を、図面を用いて詳細に説明する。図22は、この実施の形態8による極端紫外光光源装置の構成を示す断面図である。また、図23は、この実施の形態8におけるオブスキュレーション領域とイオン回収筒との位置関係を示す模式図である。
つぎに、この発明の実施の形態9を、図面を用いて詳細に説明する。この実施の形態9では、上述した各実施の形態におけるイオン回収筒の他の形態を例示する。図24は、この実施の形態9によるイオン回収筒80の構成を示す断面図である。上述した実施の形態では、円錐形のイオン回収板22または42もしくは平板状のイオン回収板32aまたは32bが底に配置されたイオン回収筒20,30a、30bまたは40を用いていた。これに対し、この実施の形態9では、図24に示すようなイオン回収筒80を用いる。
つぎに、この発明の実施の形態10を、図面を用いて詳細に説明する。この実施の形態10では、上述した各実施の形態におけるイオン回収板の他の形態を例示する。図25は、この実施の形態10によるイオン回収板92の構成を示す模式図である。上述した実施の形態では、円錐形のイオン回収板22または42、もしくは、平板状のイオン回収板32a,32bまたは82を用いていた。これに対し、この実施の形態10では、図25に示すようなイオン回収板92を用いる。
10 真空チャンバ
10A 露光機接続部
10a EUV光生成真空チャンバ
10b イオン生成真空チャンバ
11,31 ドロップレットノズル
11a,11b ノズル
12 プリプラズマ生成レーザ
13 EUV光生成レーザ
14 EUV光集光ミラー
14a 孔
14b レーザ集光光学系
15a,15b マグネット
20,20A,20B,20a,30a,30b,40,60 イオン回収筒
21,25a 開口
22,32a,32b,42,62 イオン回収板
23 冷却ノズル
24,27a,28a 温度センサ
24b,27b,28b 温調器
25 排出筒
26 回収部
27,28 ヒータ
29 透明基板
30,45,55 開口部
32 イオン流生成レーザ
33a,33b グリッド電極
34 ドロップレット回収部
41,61 ガス供給部
50 バッファ筒
51 ポンプ
64a,64b 磁石
W1,W2,W11,W12 ウィンドウ
C 中心軸
DE 出力方向
PP プリプラズマ
L1 プリプラズマ生成レーザ光
L2 EUV光生成レーザ光
L3 EUV光
L11 イオン流生成レーザ光
FL3 低速Snイオン流
FL4 Sn蒸気流
E2 オブスキュレーション領域
Claims (13)
- ターゲットにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、
重力方向に対して傾き且つ前記磁場または前記電場によって制御された前記イオンの流れ方向に対して傾いて配置されたイオン衝突面を備え、前記イオン衝突面に入射したイオンを回収するイオン回収部と、
前記イオン衝突面の温度を前記ターゲットが過熱せず且つ溶融する温度以上に調節する温度調節部と、
を備え、
前記イオン衝突面は、前記イオンによるスパッタ率が1原子/イオン未満となる材質で構成されていることを特徴とする極端紫外光光源装置。 - 前記ターゲットの材質は、Snであり、
前記イオン衝突面の材料は、W、Sn、Ru、Mo、SiまたはCであることを特徴とする請求項1に記載の極端紫外光光源装置。 - 前記プラズマ発生点からイオン衝突面までの間に設けられ、前記イオンを前記ターゲットの材料のスパッタ率が1未満となるイオンエネルギーに低減する低減機構をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の極端紫外光光源装置。
- 前記低減機構は、
前記ターゲット物質のプラズマおよび/または蒸気をプリプラズマとして生成する1以上のプリプラズマ生成レーザと、
前記生成されたプリプラズマにレーザ光を照射して前記極端紫外光を発生させる極端紫外光生成レーザと、
を備えたことを特徴とする請求項3に記載の極端紫外光光源装置。 - 前記ターゲット物質の膨張したターゲットを生成する1以上のレーザと、
前記生成された膨張したターゲットにレーザ光を照射して前記極端紫外光を発生させる極端紫外光生成レーザと、
を備えたことを特徴とする請求項3に記載の極端紫外光光源装置。 - 前記低減機構は、前記イオン回収装置内のイオン入力側とイオン衝突面との間に前記イオンの移動を減速するクーロン力を生成させる電場を形成する電場形成手段であることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。
- 前記低減機構は、前記イオン衝突面の前段に設けられ前記イオンと衝突するガスが充填されたガス領域が形成されたガス部であることを特徴とする請求項3〜6のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。
- 前記低減機構は、
前記ターゲットからプラズマを生成するとともに該プラズマからイオンを分離出力するプラズマ生成チャンバと、
前記分離出力されたイオンにレーザ光を照射して極端紫外光を発生して外部出力する極端紫外光生成チャンバと、
を備えたことを特徴とする請求項3〜7のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。 - 前記低減機構は、
前記ターゲットからターゲット蒸気を生成する蒸気生成チャンバと、
前記ターゲット蒸気にレーザ光を照射して極端紫外光を発生して外部出力する極端紫外光生成チャンバと、
を備えたことを特徴とする請求項3〜8のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。 - 前記低減機構は、所望の極端紫外光出力を得るために必要な最小質量のターゲットを供給するターゲット供給部であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。
- 前記イオン衝突面の前記磁場の中心軸と垂直な面に対する傾きは、20°以下であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一つに記載の極端紫外光光源装置。
- ターゲットにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、
イオン衝突面に前記イオンによるスパッタ率が1原子/イオン未満となる材質が配置またはコートされた、前記イオンを回収するイオン回収装置と、
前記プラズマ発生点からイオン衝突面までの間に設けられ、前記イオンを前記ターゲットの材料のスパッタ率が1未満となるイオンエネルギーに低減する低減機構と、
を備え、
前記低減機構は、
前記ターゲットからプラズマを生成するとともに該プラズマからイオンを分離出力するプラズマ生成チャンバと、
前記分離出力されたイオンにレーザ光を照射して極端紫外光を発生して外部出力する極端紫外光生成チャンバと、
を備えたことを特徴とする極端紫外光光源装置。 - ターゲットにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、
イオン衝突面に前記イオンによるスパッタ率が1原子/イオン未満となる材質が配置またはコートされた、前記イオンを回収するイオン回収装置と、
前記プラズマ発生点からイオン衝突面までの間に設けられ、前記イオンを前記ターゲットの材料のスパッタ率が1未満となるイオンエネルギーに低減する低減機構と、
を備え、
前記低減機構は、
前記ターゲットからターゲット蒸気を生成する蒸気生成チャンバと、
前記ターゲット蒸気にレーザ光を照射して極端紫外光を発生して外部出力する極端紫外光生成チャンバと、
を備えたことを特徴とする極端紫外光光源装置。
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