KR20140036538A - 극자외선 생성 장치, 이를 포함하는 노광 장치 및 이러한 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스 - Google Patents

극자외선 생성 장치, 이를 포함하는 노광 장치 및 이러한 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스 Download PDF

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박주온
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Abstract

극자외선 생성 장치는 원료 공급 유닛, 레이저 조사 유닛, 집광 유닛 및 가이드 유닛을 포함한다. 원료 공급 유닛은 극자외선 생성을 위한 원료를 공급한다. 레이저 조사 유닛은 상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시킨다. 집광 유닛은 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시킨다. 가이드 유닛은 상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내한다. 가이드 유닛은 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이로 가스를 분사하여 상기 원료를 둘러싸는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는다. 따라서, 원료가 레이저가 조사되는 정확한 위치로 안내될 수 있으면서, 집광 유닛이 미립자들에 의해 오염되는 것도 방지된다.

Description

극자외선 생성 장치, 이를 포함하는 노광 장치 및 이러한 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스{APPARATUS FOR CREATING AN ULTRAVIOLET LIGHT, AN EXPOSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICES MANUFACTURED USING THE EXPOSING APPARATUS}
본 발명은 극자외선 생성 장치, 이를 포함하는 노광 장치 및 이러한 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 레이저를 이용해서 극자외선을 생성하는 장치, 이러한 장치로부터 생성된 극자외선을 이용해서 기판 상의 막을 노광하는 장치, 및 이러한 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스에 관한 것이다.
최근, 반도체 장치의 디자인 룰이 급격하게 축소됨에 따라, 노광 공정에 사용되는 광의 파장도 줄어드는 추세이다. 따라서, 기존에 사용되던 I-line, G-line, KrF, ArF 등과 같은 광원으로는 원하는 미세 폭을 갖는 패턴을 형성할 수가 없어서, 파장이 짧은 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV)을 노광 공정에 이용하고 있다.
극자외선은 극자외선 생성 장치를 이용해서 생성될 수 있다. 극자외선 생성 장치는 Discharge Produced Plasma (DPP) 방식과 Laser Produced Plasma (LPP) 방식으로 구분될 수 있다.
DPP 방식의 극자외선 생성 장치는 원료에 고전압을 인가하여 형성된 고밀도 플라즈마로부터 극자외선을 생성한다. LPP 방식의 극자외선 생성 장치는 원료에 레이저를 조사하여 형성된 고밀도 플라즈마로부터 극자외선을 생성한다.
관련된 LPP 방식의 극자외선 생성 장치는 원료 공급 유닛, 레이저 조사 유닛, 집광 유닛, 가이드 유닛 및 가스 분사 유닛을 포함한다. 원료 공급 유닛은 주석과 같은 원료를 공급한다. 레이저 조사 유닛은 원료로 레이저를 조사하여 극자외선을 생성시킨다. 집광 유닛은 생성된 극자외선을 설정된 위치로 집광시킨다. 가이드 유닛은 원료를 레이저 조사 위치까지 안내하는 기능을 한다. 가스 분사 유닛은 원료로 가스를 분사하여, 원료로부터 발생된 미립자들이 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지한다.
가스 분사 유닛은 레이저 조사 위치에 도달한 원료로 가스를 분사한다. 분사된 가스는 레이저가 조사되는 원료의 위치에 영향을 준다. 원료의 위치에 미치는 영향을 줄이기 위해서, 가이드 유닛은 긴 길이를 가질 수 있다. 이러한 경우, 분사된 가스가 긴 가이드 유닛에 의해 차단될 수 있다. 그러나, 분사된 가스는 원료로부터 발생된 미립자들이 집광 유닛 방향으로 이동하는 것을 충분하게 방지하지 못한다. 반면에, 가이드 유닛이 짧은 길이를 가질 경우, 충분한 양의 가스가 원료로 분사될 수 있으므로, 미립자들이 집광 유닛 방향으로 이동하는 것을 억제할 수 있다. 그러나, 많은 양의 가스에 의해서 난기류가 형성되어, 원료가 요동치게 된다. 요동된 원료로는 레이저가 정확하게 조사될 수 없으므로, 원하는 양의 극자외선을 생성할 수가 없다.
본 발명은 레이저가 원료에 정확하게 조사되도록 원료의 요동을 방지하면서 집광 유닛의 오염을 방지할 수 있는 극자외선 생성 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기된 극자외선 생성 장치로부터 발생된 극자외선을 이용해서 노광 공정을 수행하는 장치도 제공한다.
아울러, 본 발명은 상기된 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스를 제공한다.
본 발명의 일 견지에 따른 극자외선 생성 장치는 원료 공급 유닛, 레이저 조사 유닛, 집광 유닛 및 가이드 유닛을 포함한다. 원료 공급 유닛은 극자외선 생성을 위한 원료를 공급한다. 레이저 조사 유닛은 상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시킨다. 집광 유닛은 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시킨다. 가이드 유닛은 상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내한다. 가이드 유닛은 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이로 가스를 분사하여 상기 원료를 둘러싸는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 원료가 통과하는 통로를 갖는 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가스 커튼에 의해 상기 통로가 둘러싸이도록 상기 가이드 유닛에 배열될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가이드 유닛에 균일한 간격을 두고 배열된 복수개로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가이드 유닛의 형상을 따라 연장된 하나로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 통로를 완전히 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 직사각틀 단면 형상 또는 환상의 단면 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 집광 유닛의 반대측을 향하는 상기 통로의 일부가 노출되도록 상기 통로를 부분적으로 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 극자외선 생성 장치는 상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 원료 방향으로 가스를 분사하는 가스 분사 유닛을 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가스 분사 유닛으로부터 분사되는 상기 가스의 압력은 상기 가이드 유닛의 가스 분사공으로부터 분사된 상기 가스의 압력보다 낮을 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛과 상기 원료 공급 유닛은 평행하게 배치될 수 있다. 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 유닛은 직교를 이루도록 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 집광 유닛은 상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 견지에 따른 극자외선 생성 장치는 원료 공급 유닛, 레이저 조사 유닛, 집광 유닛, 가스 분사 유닛 및 가이드 유닛을 포함한다. 원료 공급 유닛은 제 1 방향을 따라 극자외선 생성을 위한 원료를 공급한다. 레이저 조사 유닛은 상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시킨다. 집광 유닛은 상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저가 조사되는 위치 사이에 배치되어, 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시킨다. 가스 분사 유닛은 상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 제 2 방향을 따라 제 1 가스를 분사한다. 가이드 유닛은 상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하는 통로, 및 상기 통로의 주위에 배열되어 상기 제 1 방향을 따라 제 2 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 상기 제 1 가스의 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 통로를 완전히 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 집광 유닛의 반대측을 향하는 상기 통로의 일부가 노출되도록 상기 통로를 부분적으로 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제 1 가스의 압력은 상기 제 2 가스의 압력보다 낮을 수 있다.
본 발명의 또 다른 견지에 따른 노광 장치는 극자외선 생성 장치, 조명 광학계 및 투영 광학계를 포함한다. 상기 극자외선 생성 장치는 상기 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛, 상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛, 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시키는 집광 유닛, 및 상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하고, 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이로 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 외부 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함한다. 조명 광학계는 상기 극자외선 생성 장치로부터 생성된 상기 극자외선을 마스크로 투사한다. 투영 광학계는 상기 마스크로부터 반사된 극자외선을 기판으로 투영한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 노광 장치는 상기 조명 광하계의 상부에 배치되어, 상기 마스크를 지지하는 마스크 스테이지를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 노광 장치는 상기 투영 광학계의 하부에 배치되어, 상기 기판을 지지하는 기판 스테이지를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 견지에 따른 노광 장치는 극자외선 생성 장치, 조명 광학계 및 투영 광학계를 포함한다. 상기 극자외선 생성 장치는 제 1 방향을 따라 상기 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛, 상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛, 상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저가 조사되는 위치 사이에 배치되어, 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 상기 조명 광학계가 배치된 위치로 집광시키는 집광 유닛, 상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 제 2 방향을 따라 제 1 가스를 분사하는 가스 분사 유닛, 및 상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하는 통로, 및 상기 통로의 주위에 배열되어 상기 제 1 방향을 따라 제 2 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 상기 제 1 가스의 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함한다. 조명 광학계는 상기 극자외선 생성 장치로부터 생성된 상기 극자외선을 마스크로 투사한다. 투영 광학계는 상기 마스크로부터 반사된 극자외선을 기판으로 투영한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 노광 장치는 상기 조명 광하계의 상부에 배치되어, 상기 마스크를 지지하는 마스크 스테이지를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 노광 장치는 상기 투영 광학계의 하부에 배치되어, 상기 기판을 지지하는 기판 스테이지를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 견지에 따른 전자 디바이스는 상기된 노광 장치들 중 어느 하나를 이용해서 제조된다.
예시적인 실시예들에 있어서, 전자 디바이스는 반도체 장치, 표시 장치 등을 포함할 수 있다.
상기된 본 발명에 따르면, 가이드 유닛의 가스 분사공으로부터 분사된 가스에 의해서 원료의 흐름을 둘러싸는 가스 커튼이 형성된다. 따라서, 원료가 레이저가 조사되는 정확한 위치로 안내될 수 있다. 또한, 원료로부터 발생된 미립자들의 이동이 가스 커튼에 의해 차단되어, 집광 유닛이 미립자들에 의해 오염되는 것도 방지된다. 특히, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스는 가스 커튼 내로 진입할 수가 없게 되므로, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스에 의해서 원료를 요동시키는 난기류 발생이 방지된다. 결과적으로, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스는 집광 유닛 방향으로 미립자가 이동하는 것만을 방지하는 원래의 기능만을 수행하게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 극자외선 생성 장치의 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 4의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 7은 도 6의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 9는 도 8의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 단면도이다.
도 15는 도 1의 극자외선 생성 장치를 포함하는 노광 장치를 나타낸 블록도이다.
도 16은 도 14의 극자외선 생성 장치를 포함하는 노광 장치를 나타낸 블럭도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
극자외선 생성 장치
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1의 극자외선 생성 장치의 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이며, 도 3은 도 2의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 극자외선 생성 장치(100)는 챔버(110), 원료 공급 유닛(120), 레이저 조사 유닛(130), 집광 유닛(140) 및 가이드 유닛(150)을 포함한다.
챔버(110)는 극자외선이 형성되는 내부 공간을 갖는다. 본 실시예에서, 극자외선은 원료로 레이저를 조사하여 발생된 고온의 플라즈마로부터 생성되므로, 챔버(110)는 고온의 플라즈마에 의해 손상되지 않는 재질을 포함할 수 있다.
원료 공급 유닛(120)은 챔버(110)의 상부면에 배치된다. 원료 공급 유닛(120)은 원료를 하나씩 제 1 방향을 따라 챔버(110)의 내부 공간으로 공급한다. 본 실시예에서, 제 1 방향은 연직 하부 방향이다. 따라서, 원료는 원료 공급 유닛(120)으로부터 연직 하부를 향해서 챔버(110)의 내부 공간으로 공급된다. 원료는 주석, 주석 화합물 등을 포함할 수 있다.
원료가 레이저 조사 위치로 정확하게 도달할 수 있도록 하기 위해서, 원료 제어 유닛(122)이 원료 공급 유닛(120)의 위치를 제어한다. 본 실시예에서, 원료 제어 유닛(122)은 원료 공급 유닛(120)을 X축, Y축 및 Z축 방향을 따라 미세하게 이동시킨다.
레이저 조사 유닛(130)은 챔버(110)의 좌측면에 배치된다. 레이저 조사 유닛(130)은 제 1 방향과 실질적으로 직교하는 제 2 방향을 따라 레이저를 챔버(110)의 내부 공간으로 조사한다. 본 실시예에서, 제 2 방향은 수평 우측 방향이다. 따라서, 레이저 조사 유닛(130)은 원료 공급 유닛(120)과 실질적으로 직교하는 방향을 따라 배치된다. 한편, 레이저는 이산화탄소 레이저를 포함할 수 있다.
제 1 방향을 따라 이동하는 원료로 레이저를 제 2 방향을 따라 정확하게 조사하기 위해서, 레이저 제어 유닛(132)이 레이저 조사 유닛(120)의 위치를 제어한다. 본 실시예에서, 레이저 제어 유닛(132)은 레이저 조사 유닛(130)을 X축, Y축 및 Z축 방향을 따라 미세하게 이동시킨다.
이와 같이, 원료는 제 1 방향인 수직선 상에 위치하고, 레이저는 제 2 방향인 수평선을 따라 조사되어야만, 레이저가 원료에 정확하게 조사될 수 있다. 레이저 조사 유닛(130)으로부터 조사된 레이저는 직진성을 갖고 있으므로, 레이저 제어 유닛(132)에 의해서 레이저를 수평선을 따라 정확하게 조사할 수 있다. 반면에, 비록 원료 공급 유닛(120)이 수직선을 따라 정확하게 배치되어도, 원료 공급 유닛(120)을 벗어나서 챔버(110)의 내부 공간으로 진입한 원료는 외부 영향에 의해서 수평 방향을 따라 미세하게 이동될 수 있다. 원료가 수직선으로부터 미세하게 벗어나도, 레이저는 원료에 정확하게 조사될 수 없을 것이다.
집광 유닛(140)은 레이저가 원료로 조사되는 것에 의해 생성된 극자외선을 집광시킨다. 본 실시예에서, 집광 유닛(140)은 집광 미러(142) 및 집광부(144)를 포함한다. 집광 미러(142)는 레이저 조사 유닛(130)과 레이저 조사 위치 사이인 챔버(110)의 내부에 배치된다. 집광 미러(142)는 극자외선을 챔버(110)의 우측면으로 반사한다. 집광부(144)는 챔버(110)의 우측면에 배치된다. 집광 미러(142)에서 반사된 극자외선이 집광부(144)에 집광된다.
집광 미러(142)가 집광부(144)로 극자외선을 정확하게 반사시키도록 하기 위해서, 미러 제어 유닛(146)이 집광 미러(142)의 위치를 제어한다. 즉, 미러 제어 유닛(146)은 집광 미러(142)의 반사각을 조정하여, 집광 미러(142)로부터 반사된 극자외선이 집광부(144)에 정확하게 포커싱될 수 있도록 한다.
가이드 유닛(150)은 원료 공급 유닛(120)으로부터 공급되는 원료를 레이저 조사 위치로 안내한다. 가이드 유닛(150)이 극자외선 생성 장치(100)에 구비되는 가스 슈라이드(shroud)에 해당한다. 가이드 유닛(150)은 원료가 유출되는 원료 공급 유닛(120)의 하단에 배치된다. 가이드 유닛(150)은 원료 공급 유닛(120)과 평행하게 제 1 방향을 따라 배치된다.
도 2 및 도 3에 가이드 유닛(150)이 상세하게 도시되어 있다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150)은 대략 직육면체 형상을 갖는다. 또한, 가이드 유닛(150)은 가이드 유닛(150)의 길이 방향, 즉 수직 방향을 따른 내부 통로(152)를 갖는다. 따라서, 가이드 유닛(150)은 대략 직사각틀 단면 형상을 갖게 된다.
한편, 내부 통로(152)는 원료 공급 유닛(120)의 하단과 연통된다. 따라서, 원료 공급 유닛(120)으로부터 공급된 원료는 가이드 유닛(150)의 통로(152)를 따라 레이저 조사 위치로 안내된다. 즉, 원료는 가이드 유닛(150)의 통로(152)를 통과한 이후에도, 통로(152)로부터 연직 하방으로 이어진 공간, 즉 가이드 유닛(150)을 연직 하방으로 계속 연장시켰을 경우에 이러한 가이드 유닛(150)에 의해 둘러싸이는 공간 내에 위치하게 된다. 따라서, 원료는 상기 공간 내에서 수직선을 따라 이동하게 되므로, 레이저 조사 유닛(130)으로부터 방출된 레이저가 원료에 정확하게 조사될 수 있다.
또한, 가이드 유닛(150)은 가스 분사공(154)들을 갖는다. 가스 분사공(154)들을 통해서 가스가 챔버(110)의 내부 공간으로 분사되어 가스 커튼이 형성된다. 본 실시예에서, 가스는 수소, 질소 등과 같은 비활성 가스를 포함할 수 있다. 가스 커튼은 원료 공급 유닛(120)을 벗어나서 낙하하는 원료를 둘러싼다. 따라서, 가스 커튼은 낙하하는 원료를 외부 환경으로부터 차단한다. 결과적으로, 낙하하는 원료가 외부 환경에 의해 미세하게 요동되는 것이 가스 분사공(154)으로부터 분사된 가스에 의해 형성된 가스 커튼에 의해서 억제될 수 있다.
본 실시예에서, 가스 분사공(154)들은 가이드 유닛(150)에 미세한 간격을 두고 배열될 수 있다. 가이드 유닛(150)이 직사각틀 형상을 가지므로, 가스 분사공(154)들로부터 분사된 가스에 의해 형성된 가스 커튼도 대략 직사각틀 형상을 갖게 된다. 다만, 가스 분사공(154)들 사이 부분으로부터는 가스가 분사되지 않으므로, 가스 커튼은 수평 방향을 따라 연속적으로 이어진 형상을 갖지 않고 수직 방향을 따라 형성된 틈을 가질 수는 있다. 그러나, 가스 분사공(154)들이 미세한 간격을 두고 배열되므로, 상기 틈도 매우 좁을 것이다. 그러므로, 불연속적으로 이어진 가스 커튼도 낙하하는 원료를 외부 환경으로부터 실질적으로 차단할 수는 있다.
부가적으로, 원료 수집 유닛(droplet catcher : 160)이 챔버(110)의 하부면에 배치된다. 원료 수집 유닛(160)은 원료 공급 유닛(120)으로부터 공급되어 레이저 조사 위치를 통과한 원료를 계속적으로 수집한다.
또한, 레이저가 원료에 정확하게 조사되는지 여부를 육안으로 확인하기 위해서, 레이저 조사 위치를 촬영하는 카메라(170)가 챔버(110)에 배치될 수도 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이고, 도 5는 도 4의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150a)은 대략 직육면체 형상의 통로(152a) 및 하나의 가스 분사공(154a)을 갖는다.
본 실시예에서, 가스 분사공(154a)은 하나로 이어진 직사각틀 형상을 갖는다. 따라서, 이러한 직사각틀 형상의 가스 분사공(154a)으로부터 분사된 가스에 의해서 직사각틀 형상의 가스 커튼이 형성된다. 직사각틀 형상의 가스 커튼은 불연속적인 부분을 갖고 있지 않으므로, 낙하하는 원료를 외부 환경으로부터 완벽하게 차단한다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이고, 도 7은 도 6의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150b)은 원통 형상을 갖는다. 이에 따라, 가이드 유닛(150b)은 원통형의 통로(152b)를 갖는다. 복수개의 가스 분사공(154b)들이 원통형의 가이드 유닛(150b)에 링 형태로 배열된다. 그러므로, 가이드 유닛(150b)의 원주선을 따라 배열된 가스 분사공(154b)들로부터 분사된 가스에 의해서 원통형의 가스 커튼이 형성된다.
이러한 원통형의 가스 커튼에도 수직 방향을 따라 틈이 형성되지만, 가스 분사공(154b)들이 미세한 간격으로 배열되므로, 원통형의 가스 커튼도 낙하하는 원료를 외부 환경으로부터 실질적으로 차단할 수 있다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이고, 도 9는 도 8의 가이드 유닛을 나타낸 저면도이다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150c)은 대략 원통 형상의 통로(152c) 및 하나의 가스 분사공(154c)을 갖는다.
본 실시예에서, 가스 분사공(154c)은 하나로 이어진 환상 형상을 갖는다. 따라서, 이러한 환상 형상의 가스 분사공(154c)으로부터 분사된 가스에 의해서 원통형의 가스 커튼이 형성된다. 원통형의 가스 커튼은 불연속적인 부분을 갖고 있지 않으므로, 낙하하는 원료를 외부 환경으로부터 완벽하게 차단한다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 10을 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150d)은 우측면을 갖지 않는다는 점을 제외하면 도 2의 가이드 유닛(150)과 실질적으로 동일한 형상을 갖는다.
따라서, 본 실시예의 가이드 유닛(150d)은 대략 ⊂자 형상을 갖는다. 가스 분사공(154d)들도 대략 ⊂자 형태로 배열되므로, 가스 분사공(154d)들로부터 분사된 가스에 의해 형성된 가스 커튼도 대략 ⊂자 단면 형상을 갖게 된다.
본 실시예에서, 가이드 유닛(150d)이 갖는 좌측면은 집광 미러(142)를 향한다. 원료로부터 발생되는 미립자들은 주로 집광 미러(142)에 흡착되므로, 가이드 유닛(150d)은 집광 미러(142)를 향하는 좌측면을 필수적으로 갖는다.
반면에, 가이드 유닛(150d)이 갖지 않는 우측면은 집광부(144)를 향한다. 여기서, 원하는 양의 극자외선을 획득하기 위해서는, 레이저를 원료에 정확하게 조사시키는 것뿐만 아니라 집광 미러(142)가 극자외선을 집광부(144)에 정확하게 집광시키는 것도 요구된다. 즉, 집광부(144)는 집광 미러(142)의 초점 위치에 배치될 것이 요구된다.
집광 미러(142)의 초점 위치는 집광 미러(142)의 반사각에 따라 결정될 수 있다. 또한, 집광 미러(142)의 초점 위치는 집광 미러(142)로부터 반사된 극자외선의 굴절각에 따라 결정될 수 있다. 특히, 극자외선의 굴절 횟수가 적을수록, 극자외선의 굴절각을 정확하게 산출할 수 있다. 따라서, 극자외선의 굴절 횟수를 줄이기 위해서는, 집광 미러(142)와 집광부(144) 사이에 서로 다른 물질들 간의 계면의 수를 줄이는 것이 요구된다.
본 실시예의 가이드 유닛(150d)은 우측면을 갖지 않으므로, 가스 커튼도 우측면을 갖지 않는다. 그러므로, 챔버(110) 내부에는 가스 커튼에 의한 우측 계면이 존재하지 않게 된다. 결과적으로, 극자외선의 굴절 횟수가 줄어들게 되므로, 집광부(144)를 집광 미러(142)의 초점 위치에 정확하게 배치할 수가 있다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 11을 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150e)은 가스 분사공의 형상을 제외하고는 도 10의 가이드 유닛(150d)의 형상과 실질적으로 동일한 형상을 갖는다.
본 실시예의 가스 분사공(154e)은 연속적으로 이어진 ⊂자 형상을 갖는다. 따라서, 이러한 형상의 가스 분사공(154e)에 의해 형성된 가스 커튼은 낙하하는 원료를 좌측의 집광 미러(142)와 완벽하게 차단시킨다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 12를 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150f)은 우측 부분을 갖지 않는다는 점을 제외하면 도 6의 가이드 유닛(150b)과 실질적으로 동일한 형상을 갖는다.
따라서, 본 실시예의 가이드 유닛(150f)은 우측부가 절개된 환상 형상을 갖는다. 가스 분사공(154f)들은 가이드 유닛(150f)에 미세 간격으로 배열된다. 따라서, 가스 분사공(154f)들로부터 분사된 가스에 의해 형성된 가스 커튼도 우측부를 갖지 않는 원통 형상을 갖게 된다. 이러한 형상의 가스 커튼은 도 10을 참조로 설명한 가스 커튼의 기능과 실질적으로 동일한 기능을 갖는다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가이드 유닛을 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 13을 참조하면, 본 실시예의 가이드 유닛(150g)은 가스 분사공의 형상을 제외하고는 도 12의 가이드 유닛(150f)의 형상과 실질적으로 동일한 형상을 갖는다.
본 실시예의 가스 분사공(154g)은 우측부를 갖지 않는 연속적으로 이어진 환형 형상을 갖는다. 따라서, 이러한 형상의 가스 분사공(154g)에 의해 형성된 가스 커튼은 낙하하는 원료를 좌측의 집광 미러(142)와 완벽하게 차단시킨다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 단면도이다.
본 실시예에 따른 극자외선 생성 장치(100h)는 가스 분사 유닛을 더 포함한다는 점을 제외하고는 도 1의 극자외선 생성 장치(100)의 구성요소들과 실질적으로 동일한 구성요소들을 포함한다. 따라서, 동일한 구성요소들은 동일한 참조부호들로 나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.
도 14를 참조하면, 극자외선 생성 장치(100h)는 가스 분사 유닛(180)을 더 포함한다. 가스 분사 유닛(180)은 레이저 조사 위치로 제 1 가스를 분사하여, 원료로부터 발생된 미립자에 의해서 집광 미러(142)가 오염되는 것을 방지한다. 따라서, 가스 분사 유닛(180)은 챔버(110)의 좌측면에 배치되어, 집광 미러(142)로부터 집광부(144) 방향, 즉 제 2 방향을 따라 제 1 가스를 분사한다.
본 실시예에서, 가이드 유닛(150)의 가스 분사공(154)으로부터 분사된 제 2 가스에 의해 형성된 가스 커튼이 미립자들이 집광 미러(142) 방향으로 이동하는 것을 억제할 수는 있다. 그러나, 모든 미립자들이 집광 미러(142) 방향으로 이동하는 것을 가스 커튼만으로 방지할 수는 없을 수도 있다. 미량의 미립자라도 집광 미러(142)에 흡착되지 않도록 하기 위해서, 가스 분사 유닛(180)이 제 2 방향을 따라 가스를 분사한다. 가스 분사 유닛(180)으로부터 분사되는 제 1 가스는 수소, 질소 등과 같은 비활성 기체를 포함할 수 있다. 또한, 하나의 탱크로부터 비활성 기체를 가이드 유닛(150)과 가스 분사 유닛(180)으로 제공할 수 있다. 또는, 별도의 2개의 탱크들로부터 비활성 기체를 가이드 유닛(150)과 가스 분사 유닛(180) 각각으로 제공할 수도 있다.
본 실시예에서, 가스 분사 유닛(180)으로부터 분사된 제 1 가스가 가스 커튼 내로 진입하게 되면, 가스 커튼 내에 난기류(turbulence)가 형성된다. 난류는 가스 커튼 내의 원료를 요동치게 한다. 전술한 바와 같이, 요동된 원료로 레이저를 정확하게 조사할 수가 없게 되므로, 가스 분사 유닛(180)으로부터의 제 1 가스가 가스 커튼 내로 진입하지 못하도록 할 것이 요구된다.
이를 위해서, 제 1 가스는 제 2 가스의 압력보다 낮을 것이 요구된다. 즉, 가스 분사 유닛(180)으로부터 분사되는 제 1 가스의 압력은 가이드 유닛(150)의 가스 분사공(154)으로부터 분사되는 제 2 가스의 압력보다 낮다. 결과적으로, 제 1 가스가 가스 커튼 내로 진입하지 못하게 되어, 원료를 요동시키는 난기류가 가스 커튼 내에 발생되는 것이 억제될 수 있다.
본 실시예에서는, 극자외선 생성 장치(100h)가 도 2의 가이드 유닛(150)을 포함하는 것으로 예시하였으나, 도 4의 가이드 유닛(150a), 도 6의 가이드 유닛(150b), 도 8의 가이드 유닛(150c), 도 10의 가이드 유닛(150d), 도 11의 가이드 유닛(150e), 도 12의 가이드 유닛(150f) 또는 도 13의 가이드 유닛(150g)을 포함할 수도 있다.
노광 장치
도 15는 도 1의 극자외선 생성 장치를 포함하는 노광 장치를 나타낸 블록도이다.
도 15를 참조하면, 본 실시예에 따른 노광 장치(200)는 극자외선 생성 장치(100), 조명 광학계(210) 및 투영 광학계(220)를 포함한다.
본 실시예에서, 극자외선 생성 장치는 도 1의 극자외선 생성 장치(100)의 구성요소들과 실질적으로 동일한 구성요소들을 포함한다. 따라서, 동일한 구성요소들은 동일한 참조부호들로 나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.
다른 실시예로서, 극자외선 생성 장치는 도 4의 가이드 유닛(150a), 도 6의 가이드 유닛(150b), 도 8의 가이드 유닛(150c), 도 10의 가이드 유닛(150d), 도 11의 가이드 유닛(150e), 도 12의 가이드 유닛(150f) 또는 도 13의 가이드 유닛(150g)을 포함할 수 있다.
조명 광학계(210)는 극자외선 생성 장치(100)의 측부에 배치된다. 조명 광하계(210)는 극자외선 생성 장치(100)로부터 생성된 극자외선을 마스크(M)로 투사한다. 마스크(M)는 조명 광학계(210)의 상부에 배치된 마스크 스테이지(230)에 배치된다.
투영 광학계(220)는 조명 광학계(210)의 하부에 배치된다. 투영 광학계(220)는 마스크(M)로부터 반사된 극자외선을 기판(S)으로 투영한다. 기판(S)은 투영 광학계(220)의 하부에 배치된 기판 스테이지(240)에 배치된다.
도 16은 도 14의 극자외선 생성 장치를 포함하는 노광 장치를 나타낸 블록도이다.
본 실시예에 따른 노광 장치(200a)는 극자외선 생성 장치를 제외하고는 도 15의 노광 장치(200)의 구성요소들과 실질적으로 동일한 구성요소들을 포함한다. 따라서, 동일한 구성요소들은 동일한 참조부호들로 나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.
도 16을 참조하면, 본 실시예에 따른 노광 장치(200a)는 극자외선 생성 장치(100a), 조명 광학계(210) 및 투영 광학계(220)를 포함한다.
본 실시예에서, 극자외선 생성 장치는 도 14의 극자외선 생성 장치(100a)의 구성요소들과 실질적으로 동일한 구성요소들을 포함한다. 따라서, 극자외선 생성 장치(100a)에 대한 반복 설명은 생략한다.
다른 실시예로서, 극자외선 생성 장치는 도 4의 가이드 유닛(150a), 도 6의 가이드 유닛(150b), 도 8의 가이드 유닛(150c), 도 10의 가이드 유닛(150d), 도 11의 가이드 유닛(150e), 도 12의 가이드 유닛(150f) 또는 도 13의 가이드 유닛(150g)을 포함할 수 있다.
한편, 전술한 실시예들의 극자외선 생성 장치를 포함하는 한, 도 15의 노광 장치(200)와 도 16의 노광 장치(200a)와 다른 구조를 갖는 노광 장치들도 본원발명의 권리범위에 속한다.
반도체 장치
도 15의 노광 장치(200)를 사용해서 제조된 반도체 장치들도 본원발명의 권리범위에 속한다. 즉, 전술된 실시예들의 극자외선 생성 장치들 중의 어느 하나를 사용해서 극자외선을 생성하고, 이러한 극자외선과 마스크를 포함하는 노광 장치(200)를 사용해서 포토레지스트 패턴을 형성한 후, 이러한 포토레지스트 패턴을 이용해서 패턴을 갖는 반도체 장치들도 본원발명의 권리범위에 속한다.
다른 실시예로서, 도 16의 노광 장치(200a)를 사용해서 제조된 반도체 장치들도 본원발명의 권리범위에 속한다. 즉, 전술된 실시예들의 극자외선 생성 장치들 중의 어느 하나를 사용해서 극자외선을 생성하고, 이러한 극자외선과 마스크를 포함하는 노광 장치(200a)를 사용해서 포토레지스트 패턴을 형성한 후, 이러한 포토레지스트 패턴을 이용해서 패턴을 갖는 반도체 장치들도 본원발명의 권리범위에 속한다.
예를 들어서, 반도체 장치들은 휘발성 메모리 장치들, 비휘발성 메모리 장치들 등을 포함할 수 있다. 또한, 반도체 장치들 뿐만 아니라 전술된 실시예들의 극자외선 생성 장치들을 포함하는 노광 장치를 이용해서 제조된 다른 전자 디바이스, 예를 들면 액정표시장치, 플라즈마 표시 장치, 유기발광 표시 장치 등과 같은 표시 장치도 본원발명의 권리범위에 속한다.
상술한 바와 같이 본 실시예들에 따르면, 가이드 유닛의 가스 분사공으로부터 분사된 가스에 의해서 원료의 흐름을 둘러싸는 가스 커튼이 형성된다. 따라서, 원료가 레이저가 조사되는 정확한 위치로 안내될 수 있다. 또한, 원료로부터 발생된 미립자들의 이동이 가스 커튼에 의해 차단되어, 집광 유닛이 미립자들에 의해 오염되는 것도 방지된다. 특히, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스는 가스 커튼 내로 진입할 수가 없게 되므로, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스에 의해서 원료를 요동시키는 난기류 발생이 방지된다. 결과적으로, 가스 분사 유닛으로부터 분사된 가스는 집광 유닛 방향으로 미립자가 이동하는 것만을 방지하는 원래의 기능만을 수행하게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
110 ; 챔버 120 ; 원료 공급 유닛
130 ; 레이저 조사 유닛 140 ; 집광 유닛
150 ; 가이드 유닛 152 ; 통로
154 ; 가스 분사공

Claims (26)

  1. 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛;
    상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛;
    상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시키는 집광 유닛; 및
    상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하고, 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이로 가스를 분사하여 상기 원료를 둘러싸는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함하는 극자외선 생성 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 원료가 통과하는 통로를 갖는 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가스 커튼에 의해 상기 통로가 둘러싸이도록 상기 가이드 유닛에 배열된 극자외선 생성 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가이드 유닛에 균일한 간격을 두고 배열된 복수개로 이루어진 극자외선 생성 장치.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 가스 분사공은 상기 가이드 유닛의 형상을 따라 연장된 하나로 이루어진 극자외선 생성 장치.
  6. 제 2 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 통로를 완전히 둘러싸는 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 직사각틀 단면 형상 또는 환상의 단면 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  8. 제 2 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 집광 유닛의 반대측을 향하는 상기 통로의 일부가 노출되도록 상기 통로를 부분적으로 둘러싸는 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 원료 방향으로 가스를 분사하는 가스 분사 유닛을 더 포함하는 극자외선 생성 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 가스 분사 유닛으로부터 분사되는 상기 가스의 압력은 상기 가이드 유닛의 가스 분사공으로부터 분사된 상기 가스의 압력보다 낮은 극자외선 생성 장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 가이드 유닛과 상기 원료 공급 유닛은 평행하게 배치되고, 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 유닛은 직교를 이루도록 배치된 극자외선 생성 장치.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 집광 유닛은 상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이에 배치된 극자외선 생성 장치.
  13. 제 1 방향을 따라 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛;
    상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛;
    상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저가 조사되는 위치 사이에 배치되어, 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시키는 집광 유닛;
    상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 제 2 방향을 따라 제 1 가스를 분사하는 가스 분사 유닛; 및
    상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하는 통로, 및 상기 통로의 주위에 배열되어 상기 제 1 방향을 따라 제 2 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 상기 제 1 가스의 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함하는 극자외선 생성 장치.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 통로를 완전히 둘러싸는 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 가이드 유닛은 상기 집광 유닛의 반대측을 향하는 상기 통로의 일부가 노출되도록 상기 통로를 부분적으로 둘러싸는 형상을 갖는 극자외선 생성 장치.
  16. 제 13 항에 있어서, 상기 제 1 가스의 압력은 상기 제 2 가스의 압력보다 낮은 극자외선 생성 장치.
  17. 극자외선을 생성하기 위한 극자외선 생성 장치;
    상기 극자외선 생성 장치로부터 생성된 상기 극자외선을 마스크로 투사하는 조명 광학계; 및
    상기 마스크로부터 반사된 극자외선을 기판으로 투영하는 투영 광학계를 포함하고,
    상기 극자외선 생성 장치는
    상기 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛;
    상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛;
    상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 집광시키는 집광 유닛; 및
    상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하고, 상기 원료 공급 유닛과 상기 레이저 조사 위치 사이로 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 외부 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함하는 노광 장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 조명 광하계의 상부에 배치되어, 상기 마스크를 지지하는 마스크 스테이지를 더 포함하는 노광 장치.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 투영 광학계의 하부에 배치되어, 상기 기판을 지지하는 기판 스테이지를 더 포함하는 노광 장치.
  20. 극자외선을 생성하기 위한 극자외선 생성 장치;
    상기 극자외선 생성 장치로부터 생성된 상기 극자외선을 마스크로 투사하는 조명 광학계; 및
    상기 마스크로부터 반사된 극자외선을 기판으로 투영하는 투영 광학계를 포함하고,
    상기 극자외선 생성 장치는
    제 1 방향을 따라 상기 극자외선 생성을 위한 원료를 공급하는 원료 공급 유닛;
    상기 원료 공급 유닛으로부터 공급된 원료로 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사 유닛;
    상기 레이저 조사 유닛과 상기 레이저가 조사되는 위치 사이에 배치되어, 상기 레이저 조사 유닛에 의해 생성된 상기 극자외선을 상기 조명 광학계가 배치된 위치로 집광시키는 집광 유닛;
    상기 원료로부터 발생된 미립자가 상기 집광 유닛에 흡착되는 것을 방지하기 위해, 상기 집광 유닛으로부터 상기 제 2 방향을 따라 제 1 가스를 분사하는 가스 분사 유닛; 및
    상기 원료를 상기 레이저가 조사되는 위치로 안내하는 통로, 및 상기 통로의 주위에 배열되어 상기 제 1 방향을 따라 제 2 가스를 분사하여 상기 원료의 흐름에 상기 제 1 가스의 영향을 차단하는 가스 커튼을 형성하기 위한 적어도 하나의 가스 분사공을 갖는 가이드 유닛을 포함하는 노광 장치.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 조명 광하계의 상부에 배치되어, 상기 마스크를 지지하는 마스크 스테이지를 더 포함하는 노광 장치.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 투영 광학계의 하부에 배치되어, 상기 기판을 지지하는 기판 스테이지를 더 포함하는 노광 장치.
  23. 청구항 17의 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스.
  24. 제 23 항에 있어서, 상기 전자 디바이스는 반도체 장치 또는 표시 장치를 포함하는 전자 디바이스.
  25. 청구항 20의 노광 장치를 사용해서 제조된 전자 디바이스.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 전자 디바이스는 반도체 장치 또는 표시 장치를 포함하는 전자 디바이스.
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