JP2010537424A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 極端紫外線を生成する方法であって、
   放射ビーム、例えばレーザビームを、所定のターゲット点火位置に配置される点火物質の小滴に向けて、前記小滴を、極端紫外線を生成するプラズマに変化させることと、
   ミラー面を含むコレクタミラーを用いて前記極端紫外線を反射して前記極端紫外線を焦点に合わせることと、
   前記ミラー面に対して実質的に横断方向において前記ミラー面から離れるように流れるガス流を提供して前記プラズマにより生成された粒子デブリを軽減することと、
   を含む、方法。
2. 前記ガス流は、分子状および／または原子状水素を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記ターゲット点火位置および前記ミラーは、チャンバ内に配置され、前記チャンバ内のガス圧は、約１０Ｐａと４００Ｐａの間に維持される、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記ミラー面から離れるように流れる前記ガス流は、前記コレクタミラーに近接する位置に配置された１以上のマニホルドによって提供される、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
5. 前記粒子デブリからの前記粒子の少なくとも一部を含む前記ガス流が収集される、請求項４に記載の方法。
6. 前記粒子デブリからの前記粒子の少なくとも一部を含む前記ガス流は、前記ターゲット点火位置に対して前記ミラー面とは反対の位置において収集される、請求項５に記載の方法。
7. 極端紫外線を生成するモジュールであって、
   点火物質の１以上の小滴を所定のターゲット点火位置に供給する供給源と、
   前記所定のターゲット点火位置に焦点が合わされるレーザビームを供給し、前記所定のターゲット点火位置に配置された小滴に衝突することによりプラズマを生成して前記小滴を極端紫外線生成プラズマに変化させる放射源と、
   前記極端紫外線を反射して前記極端紫外線を焦点に合わせるミラー面を含むコレクタミラーと、
   前記ミラー面に対して実質的に横断方向において前記ミラー面から離れるように流れるガス流を形成して前記プラズマによって生成された粒子デブリを軽減する流体供給源と、
   を含む、モジュール。
8. 前記モジュールはチャンバを含み、前記チャンバ内に前記ターゲット点火位置および前記ミラーが配置される、請求項７に記載のモジュール。
9. 前記ミラーは、前記ガス流の少なくとも一部が通過可能な１以上のアパーチャを含む、請求項７又は８に記載のモジュール。
10. 前記レーザ源には、前記ガス流の少なくとも一部が通過可能な１以上のアパーチャが設けられる、請求項７〜９のいずれかに記載のモジュール。
11. 前記モジュールは、ガスの副流を提供する複数の流体供給源を含み、前記副流のそれぞれは、中心領域に向けられ、それにより、前記ミラー面から離れる前記ガス流が前記中心領域において生じる前記副流間の衝突により提供される、請求項７から１０のいずれかに記載のモジュール。
12. 極端紫外線を生成するモジュールであって、
    点火物質をチャンバ内の軸に近接した所望の位置に供給する燃料供給源と、
    放射ビームを出力する放射源であって、前記放射ビームは前記所望の位置に向けられてそれにより前記点火物質を照射して極端紫外線を放出するプラズマを形成する、放射源と、
    前記チャンバ内に位置決めされたミラー面を含むコレクタミラーであって、前記ミラー面は、前記極端紫外線を反射して前記軸に近接して位置決めされる焦点に合わせる、コレクタミラーと、
    前記軸の方向に実質的に沿ってガス流を供給して、前記プラズマにより生成される粒子デブリを軽減する流体供給源と、
    を含む、モジュール。
13. パターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するリソグラフィ投影装置であって、
    放射ビームを調整する照明システムと、
    前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを保持するサポートと、
    基板を保持する基板テーブルと、
    前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
    請求項７から１２のいずれかに記載のモジュールと、
    を含む、装置。
14. 極端紫外線を生成する方法であって、
    点火物質を放射ビームで照射して、極端紫外線を放出するプラズマを形成することと、
    ミラー面を含むコレクタミラーを用いて前記極端紫外線を反射して焦点に合わせることと、
    前記ミラー面に対して実質的に横断方向において前記ミラー面から離れるガス流を供給して、前記プラズマによって生成された粒子デブリを軽減することと、
    を含む、方法。