JP2008300351A5

JP2008300351A5 -

Info

Publication number: JP2008300351A5
Application number: JP2008125983A
Authority: JP
Filing date: 2008-05-13
Publication date: 2009-04-23

Claims

ガスカーテンを生成する少なくとも１つの超音波スリットノズルがデカップル可能な放射線束内に設けられているプラズマベースの放射線源内で放出された放射線をフィルタリングするためのガス流を生成する装置において、
幅広で平らなガスカーテン（１８）の生成用の超音波ノズル輪郭部（１１）を形成するスリットノズル（１）が複数の部分ボディ（１４、１５；２）から組み立てられていること、
その際、ガス導入部分（１４）が、精密機械的に良好に加工可能な金属から成り、ガス排出部分（１５）が高融点の金属から成ること
を特徴とする装置。
ガス導入部分（１４）が鋼材又は特殊鋼から製造されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
ガス排出部分（１５）がモリブデンから製造されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
ガス排出部分（１５）がタングステンから製造されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
スリットノズル（１）がバッファガスをノズル輪郭部（１１）内へと定義された方向で流入させるガス分配管（２）を含んでいて、このガス分配管（２）が外殻線（２１）に沿い、半径方向のガス通過のために縦方向に均等に形成されているガス流入ライン部（２２）を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）が等間隔に配置された一列上の円形穴（２３）として形成されていることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）の円形穴（２３）が１０μｍと５００μｍの間の直径を有することを特徴とする、請求項６に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）が等間隔に配置された一列上の長穴（２４）として形成されていることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）が連続する溝穴（２５）として形成されていることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）の円形穴（２３）又は長穴（２４）が１ｍｍから５ｍｍの範囲内の間隔を有することを特徴とする、請求項６又は８に記載の装置。
ガス流入ライン部（２２）の長穴（２４）又は溝穴（２５）が３０μｍと３００μｍの間の幅を有することを特徴とする、請求項８又は９に記載の装置。
ガス分配管（２）が金属材料から成ることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
ガス分配管（２）がセラミック材料から成ることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
ガス分配管（２）の一方の端面（２７）にガスの取り入れ用のガス供給部（２８）が設けられていることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
スリットノズル（１）の部分ボディ（１４、１５；２）が取外し可能な結合により組み合わされていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
スリットノズル（１）の部分ボディ（１４、１５；２）が、ピン（１７）、ネジ（２６）、リベット、クランプ、スリーブである結合要素の少なくとも１つにより組み合わされていることを特徴とする、請求項１５に記載の装置。
スリットノズル（１）の部分ボディ（１４、１５；２）が取外し不能な結合により組み合わされていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
スリットノズル（１）の部分ボディ（１４、１５；２）が、ロウ付け又は溶接又は接着から成る材料拘束的な結合の少なくとも１つにより組み合わされていることを特徴とする、請求項１７に記載の装置。
スリットノズル（１）の部分ボディ（１４、１５；２）が少なくとも１つの取外し可能な結合と少なくとも１つの取外し不能な結合により組み合わされていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
ガス放電をベースにＥＵＶ放射線を生成する装置であって、真空室内に、ガス放電プラズマを生成する電極装置と、プラズマから放出されたＥＵＶ放射線を集める集光光学系とが光学軸線に沿って配置されていて、ガスカーテンを生成するスリットノズルがその光学軸線に対して直角にプラズマと集光光学系の間に配置されている、前記装置において、
スリットノズル（１）が少なくとも高融点の金属から成るガス排出部分（１５）と精密機械的に良好に加工可能な金属から成るガス導入部分（１４）とから組み立てられていること、
スリットノズル（１）が少なくとも部分的に、プラズマ（５）の生成用に設けられている電極装置（３１）の放射線暗部（３３）内に固定されていること、及び、
集光光学系（７）の光学軸線（７１）に対してスリットノズル（１）の反対側でガスカーテン（１８）用の吸引装置（４２）が同様に放射線暗部（３３）内に取り付けられていること
を特徴とする装置。
集光光学系（７）として、入れ子状に配置された集光鏡（７２）から成り斜めにかすめるように反射する反射光学系が使用されていて、スリットノズル（１）と吸引装置（４２）から生成されるガスカーテン（１８）と集光光学系（７）との間には機械的な薄板装置（６）が配置されていることを特徴とする、請求項２０に記載の装置。
スリットノズル（１）と吸引装置（４２）の間に生成されるガスカーテン（１８）がデブリ粒子を減速させるバッファガスから成ることを特徴とする、請求項２０に記載の装置。
スリットノズル（１）と吸引装置（４２）の間に生成されるガスカーテン（１８）がプラズマ（５）により生成されたＥＵＶ放射線（５１）をスペクトルフィルタリングする混合ガスから成ることを特徴とする、請求項２０に記載の装置。
レーザ生成プラズマをベースにＥＵＶ放射線を生成する装置であって、真空室内に、ターゲット軌道に沿って供給されるターゲットに対し、ＥＵＶ放射線を放出するプラズマを生成するレーザ光線が向けられていて、プラズマから放出されたＥＵＶ放射線を集める集光光学系が光学軸線に沿って配置されていて、ガスカーテンを生成するスリットノズルがその光学軸線に対して直角にプラズマと集光光学系の間に配置されている、前記装置において、
スリットノズル（１）が少なくとも高融点の金属から成るガス排出部分（１５）と精密機械的に良好に加工可能な金属から成るガス導入部分（１４）とから組み立てられていること、
スリットノズル（１）が集光光学系（７）によって集束可能な放射線円錐形部（８３）の外側に取り付けられていること、及び
ガスカーテン（１８）用の吸引装置（４２）が集光光学系（７）の光学軸線（７１）の反対側で同様に上記集束可能な放射線円錐形部（８３）の外側に取り付けられていること
を特徴とする装置。
集光光学系（７）として、反射光学系で垂直な放射線入射のために形成されている集光鏡（７２）が使用され、プラズマ（５）の背後に配置されていて、スリットノズル（１）と吸引装置（４２）により生成されるガスカーテン（１８）と集光光学系（７）との間には機械的な薄板装置（６）が配置されていることを特徴とする、請求項２４に記載の装置。
集光鏡（７２）により集束される放射線束（７４）の方向で、プラズマ（５）に対して後置された他のガスカーテン（１９）を生成する追加的なスリットノズル（１）が設けられていて、光学軸線の反対側（７１）に吸引装置（４２）が配置されていることを特徴とする、請求項２５に記載の装置。
スリットノズル（１）と吸引装置（４２）の間に生成されるガスカーテン（１８）がデブリ粒子を減速させるバッファガスから成ることを特徴とする、請求項２４に記載の装置。
スリットノズル（１）と吸引装置（４２）の間に生成される他のガスカーテン（１９）がプラズマ（５）からのデブリ粒子を減速させるバッファガスから成ることを特徴とする、請求項２６に記載の装置。
スリットノズル（１）と吸引装置（４２）の間に生成される他のガスカーテン（１９）がプラズマ（５）により生成されたＥＵＶ放射線（５１）をスペクトルフィルタリングする混合ガスから成ることを特徴とする、請求項２６に記載の装置。