JP2015062256A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. リソグラフィ装置を用いて基板にパターン形成する方法であって、
   照明システムを用いて放射ビームを供給することと、
   パターニングデバイスを用いて前記放射ビームの断面にパターンを与えることと、
   投影システムを用いて前記パターン形成された放射ビームを基板ロットのターゲット部分上に投影することと、
   コントローラを用いて、前記基板ロットの露光中に前記投影システムを調整するためのレンズ加熱モデルに基づいたフィードフォワード補正を決定することと、
   既存のレンズ加熱モデルが該フィードフォワード補正のために用いられ得るかどうかを判断することと、
   を含む、方法。
2. 既存のレンズ加熱モデルが用いられ得るかどうかという前記判断は、該既存のレンズ加熱モデルが（ｉ）同一のリソグラフィ装置上に生成されているかどうか、および／または（ｉｉ）基板にパターン形成する該方法と共通するプロセス条件を有する基板にパターン形成する第二の方法について生成されているかどうかを考慮に入れる、請求項１に記載の方法。
3. 前記プロセス条件は、照明モード、フィールドサイズ、層数、および前記パターニングデバイスのうちの１つである、請求項２に記載の方法。
4. 前記パターン形成された放射ビームを前記基板ロットのサブセット上に投影した後に放射ビーム収差測定を行うことと、前記放射ビーム収差測定の結果を用いて前記投影システムの調整を行うことと、その後、前記パターン形成された放射ビームを前記基板ロットのさらなるサブセット上に投影することと、をさらに含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記放射ビーム収差測定の結果を用いて、使用されている前記レンズ加熱モデルの精度を判断することをさらに含む、請求項４に記載の方法。
6. 前記放射ビーム収差測定は、前記放射ビームによって形成された露光スリットに沿って延在する一連の場所における前記投影された放射ビームの測定を行うことを含む、請求項４または５に記載の方法。
7. リソグラフィ装置であって、
   放射ビームを供給する照明システムと、
   前記放射ビームの断面にパターンを与える役目を果たすパターニングデバイスを支持するサポート構造と、
   基板を保持する基板テーブルと、
   前記パターン形成された放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備え、
   該リソグラフィ装置は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法に従ってリソグラフィ装置を動作させるように構成されたコントローラをさらに備える、リソグラフィ装置。
8. コントローラに請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法を実行させる機械読取可能命令を備えるプログラム。
9. 請求項８に記載のプログラムを保持する機械読取可能媒体。