JP2014132695A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 対象上のアライメントターゲットを測定するためのアライメント測定システムであって、
   対象に向けて測定ビームを提供する照明源と、
   対象で反射した後の測定ビームを受ける検出器システムと、
   検出器システムが受けた測定ビームに基づいてアライメントを決定する処理ユニットと、を備え、
   本測定システムは、
   測定ビームを第１ビーム部分と第２ビーム部分とに分けるビーム分割デバイスと、
   第１ビーム部分および／または第２ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える偏光デバイスと、を備え、
   結果として得られる第１ビーム部分の偏光角は結果として得られる第２ビーム部分の偏光角とは異なり、
   検出器システムは、第１ビーム部分を受ける第１検出器と第２ビーム部分を受ける第２検出器とを含み、
   処理ユニットは、偏光した第１ビーム部分と偏光した第２ビーム部分との比較を含む信号に基づいてアライメントを決定するよう構成される、アライメント測定システム。
2. 照明源は偏光した測定ビームを提供するよう構成される、請求項１に記載のシステム。
3. 照明源は複数の波長を含む測定ビームを提供する、請求項１に記載のシステム。
4. 照明源は単一の波長を有する測定ビームを提供する、請求項１に記載のシステム。
5. 照明源はパルス状の測定ビームを提供する、請求項１に記載のシステム。
6. 偏光デバイスは、第１ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える第１偏光デバイスと、第２ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える第２偏光デバイスと、を含む、請求項１に記載のシステム。
7. 検出器システムは干渉デバイスを含む、請求項１に記載のシステム。
8. 放射ビームを調整するよう構成された照明システムと、
   放射ビームの断面にパターンを付与することでパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたサポートと、
   基板を保持するよう構成された基板テーブルと、
   パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システムと、を備え、
   本リソグラフィ装置は請求項１から７のいずれかに記載のアライメント測定システムを備える、リソグラフィ装置。
9. リソグラフィ装置において基板のアライメントを決定する方法であって、
   照明源によって、基板上のアライメントターゲットを測定ビームで照明することと、
   検出器システムによって、対象で反射した後の測定ビームを受けることと、
   処理ユニットアライメントによって、検出器システムが受けた測定ビームに基づいて、基板のアライメントを決定することと、を含み、
   本方法は、
   ビーム分割デバイスによって、測定ビームを第１ビーム部分と第２ビーム部分とに分けることと、
   第１および／または第２偏光デバイスによって、第１ビーム部分および／または第２ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変えることと、を含み、
   結果として得られる第１ビーム部分の偏光角は結果として得られる第２ビーム部分の偏光角とは異なり、
   アライメントを決定するステップは、第１ビーム部分に基づく第１測定信号と第２ビーム部分に基づく第２測定信号との比較に基づく、方法。