JP2017053832A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017053832A5
JP2017053832A5 JP2015239056A JP2015239056A JP2017053832A5 JP 2017053832 A5 JP2017053832 A5 JP 2017053832A5 JP 2015239056 A JP2015239056 A JP 2015239056A JP 2015239056 A JP2015239056 A JP 2015239056A JP 2017053832 A5 JP2017053832 A5 JP 2017053832A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
imaging
incident
beam splitter
measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015239056A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6271493B2 (ja
JP2017053832A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to TW105110999A priority Critical patent/TWI619927B/zh
Priority to PCT/JP2016/064465 priority patent/WO2016190151A1/ja
Priority to EP16799857.4A priority patent/EP3306264B1/en
Priority to CN201680005622.0A priority patent/CN107110640B/zh
Priority to KR1020177015655A priority patent/KR101931190B1/ko
Publication of JP2017053832A publication Critical patent/JP2017053832A/ja
Publication of JP2017053832A5 publication Critical patent/JP2017053832A5/ja
Priority to US15/820,816 priority patent/US10704888B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6271493B2 publication Critical patent/JP6271493B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (12)

  1. 入射する所定の光を2つの光に分割し、一方の光を計測光として被計測物に照射可能としかつ他方の光を参照光として参照面に照射可能とすると共に、これらを再び合成して出射可能な所定の光学系と、
    前記所定の光学系の第1入出力部に対し入射させる、第1波長の偏光を含む第1光を出射可能な第1照射手段と、
    前記所定の光学系の第2入出力部に対し入射させる、第2波長の偏光を含む第2光を出射可能な第2照射手段と、
    前記第1入出力部に対し前記第1光を入射することにより前記第2入出力部から出射される前記第1光に係る出力光を撮像可能な第1撮像手段と、
    前記第2入出力部に対し前記第2光を入射することにより前記第1入出力部から出射される前記第2光に係る出力光を撮像可能な第2撮像手段と、
    前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段により撮像された干渉縞画像を基に前記被計測物の三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
  2. 入射する所定の光を偏光方向が互いに直交する2つの偏光に分割する境界面を有し、該分割した一方の偏光を計測光として被計測物に照射しかつ他方の偏光を参照光として参照面に照射すると共に、これらを再び合成して出射可能な偏光ビームスプリッタと、
    前記境界面を挟んで隣り合う前記偏光ビームスプリッタの第1面及び第2面のうち第1入出力部となる前記第1面に対し入射させる、第1波長の偏光を含む第1光を出射可能な第1照射手段と、
    前記偏光ビームスプリッタの第2入出力部となる前記第2面に対し入射させる、第2波長の偏光を含む第2光を出射可能な第2照射手段と、
    前記参照光が出入射される前記偏光ビームスプリッタの第3面と前記参照面との間に配置された第1の1/4波長板と、
    前記計測光が出入射される前記偏光ビームスプリッタの第4面と前記被計測物との間に配置される第2の1/4波長板と、
    前記偏光ビームスプリッタの前記第1面に対し前記第1光を入射することにより前記第2面から出射される前記第1光に係る出力光を撮像可能な第1撮像手段と、
    前記偏光ビームスプリッタの前記第2面に対し前記第2光を入射することにより前記第1面から出射される前記第2光に係る出力光を撮像可能な第2撮像手段と、
    前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段により撮像された干渉縞画像を基に前記被計測物の三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
  3. 第1波長の偏光を含む第1光を出射可能な第1照射手段と、
    第2波長の偏光を含む第2光を出射可能な第2照射手段と、
    前記第1照射手段から入射される前記第1光を偏光方向が互いに直交する2つの偏光に分割し、一方の偏光を計測光として被計測物に対し照射可能としかつ他方の偏光を参照光として参照面に対し照射可能とすると共に、前記被計測物を介して入射した前記第2光に係る計測光と、前記参照面を介して入射した前記第2光に係る参照光とを合成して出射可能な第1入出力部としての第1偏光ビームスプリッタと、
    前記第2照射手段から入射される前記第2光を偏光方向が互いに直交する2つの偏光に分割し、一方の偏光を計測光として被計測物に対し照射可能としかつ他方の偏光を参照光として参照面に対し照射可能とすると共に、前記被計測物を介して入射した前記第1光に係る計測光と、前記参照面を介して入射した前記第1光に係る参照光とを合成して出射可能な第2入出力部としての第2偏光ビームスプリッタと、
    前記第1偏光ビームスプリッタと前記参照面との間に配置された第1の1/4波長板と、
    前記第1偏光ビームスプリッタと前記被計測物との間に配置された第2の1/4波長板と、
    前記第2偏光ビームスプリッタと前記参照面との間に配置された第3の1/4波長板と、
    前記第2偏光ビームスプリッタと前記被計測物との間に配置された第4の1/4波長板と、
    前記第1偏光ビームスプリッタに対し前記第1光を入射することにより前記第2偏光ビームスプリッタから出射される前記第1光に係る出力光を撮像可能な第1撮像手段と、
    前記第2偏光ビームスプリッタに対し前記第2光を入射することにより前記第1偏光ビームスプリッタから出射される前記第2光に係る出力光を撮像可能な第2撮像手段と、
    前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段により撮像された干渉縞画像を基に前記被計測物の三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
  4. 第1の偏光方向を有する偏光である第1偏光を透過させ、第2の偏光方向を有する偏光である第2偏光を反射する境界面を有する偏光ビームスプリッタと、
    前記境界面を挟んで隣り合う前記偏光ビームスプリッタの第1面及び第2面のうち第1入出力部となる前記第1面に対し入射させる、第1波長の前記第1偏光を含む第1光を出射可能な第1照射手段と、
    前記偏光ビームスプリッタの第2入出力部となる前記第2面に対し入射させる、第2波長の前記第2偏光を含む第2光を出射可能な第2照射手段と、
    前記境界面を透過した第1光及び前記境界面に反射した第2光が出射される前記偏光ビームスプリッタの第3面と相対向するように配置された1/4波長板と、
    前記偏光ビームスプリッタとは反対側にて前記1/4波長板と相対向するように配置され、前記1/4波長板を介して照射された光の一部を計測光として透過して被計測物に照射しかつ残りの光を参照光として反射するハーフミラーと、
    前記偏光ビームスプリッタの前記第1面に対し前記第1光を入射することにより前記第2面から出射される前記第1光に係る出力光を撮像可能な第1撮像手段と、
    前記偏光ビームスプリッタの前記第2面に対し前記第2光を入射することにより前記第1面から出射される前記第2光に係る出力光を撮像可能な第2撮像手段と、
    前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段により撮像された干渉縞画像を基に前記被計測物の三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
  5. 前記第1照射手段から出射される第1光の少なくとも一部を前記第1入出力部に向け入射させると共に、前記第1入出力部から出射される前記第2光に係る出力光の少なくとも一部を前記第2撮像手段に向け入射させる第1導光手段と、
    前記第2照射手段から出射される第2光の少なくとも一部を前記第2入出力部に向け入射させると共に、前記第2入出力部から出射される第1光に係る出力光の少なくとも一部を前記第1撮像手段に向け入射させる第2導光手段とを備えたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の三次元計測装置。
  6. 前記第1照射手段と前記第1導光手段との間に、前記第1照射手段から出射される一方向の光のみを透過しかつ逆方向の光を遮断する第1光アイソレータを備えると共に、
    前記第2照射手段と前記第2導光手段との間に、前記第2照射手段から出射される一方向の光のみを透過しかつ逆方向の光を遮断する第2光アイソレータを備えたことを特徴とする請求項に記載の三次元計測装置。
  7. 入射する所定の光を偏光方向が互いに直交する2つの偏光に分割し、一方の偏光を計測光として被計測物に照射しかつ他方の偏光を参照光として参照面に照射すると共に、これらを再び合成して出射可能な所定の光学系と、
    前記所定の光学系に対し入射させる、第1波長を有する第1光を出射可能な第1照射手段と、
    前記所定の光学系に対し入射させる、前記第1波長とは異なる第2波長を有する第2光を出射可能な第2照射手段と、
    前記所定の光学系から出射される前記第1光に係る出力光を撮像可能な第1撮像手段と、
    前記所定の光学系から出射される前記第2光に係る出力光を撮像可能な第2撮像手段と、
    前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段により撮像された干渉縞画像を基に前記被計測物の三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備え、
    前記第1光と前記第2光をそれぞれ前記所定の光学系の異なる位置に入射させ、
    前記所定の光学系が、
    前記第1光を、第1の偏光方向を有する第1偏光よりなる前記参照光と、第2の偏光方向を有する第2偏光よりなる前記計測光とに分割し、
    前記第2光を、前記第2偏光よりなる前記参照光と、前記第1偏光よりなる前記計測光とに分割し、
    これらを再び合成した前記第1光に係る出力光と前記第2光に係る出力光をそれぞれ前記所定の光学系の異なる位置から出射させることを特徴とする三次元計測装置。
  8. 前記第1光に係る前記参照光と前記計測光との間に相対的な位相差を付与する第1位相シフト手段と、
    前記第2光に係る前記参照光と前記計測光との間に相対的な位相差を付与する第2位相シフト手段とを備え、
    前記画像処理手段は、
    前記第1位相シフト手段により複数通りに位相シフトされた前記第1光に係る出力光を前記第1撮像手段により撮像した複数通りの干渉縞画像を基に、位相シフト法により前記被計測物の形状に対応した位相の計測を行い、当該位相を第1計測値として取得可能な第1計測値取得手段と、
    前記第2位相シフト手段により複数通りに位相シフトされた前記第2光に係る出力光を前記第2撮像手段により撮像した複数通りの干渉縞画像を基に、位相シフト法により前記被計測物の形状に対応した位相の計測を行い、当該位相を第2計測値として取得可能な第2計測値取得手段と、
    前記第1計測値及び前記第2計測値から特定される高さ情報を、前記被計測物の高さ情報として取得可能な高さ情報取得手段とを備えた請求項1乃至のいずれかに記載の三次元計測装置。
  9. 前記第1光に係る出力光を複数の光に分割する第1の分光手段と、
    前記第1位相シフト手段として、前記第1の分光手段により分割された複数の分割光のうち、少なくとも前記位相シフト法による計測に必要な数の分割光に対してそれぞれ異なる位相差を付与する第1のフィルタ手段と、
    前記第2光に係る出力光を複数の光に分割する第2の分光手段と、
    前記第2位相シフト手段として、前記第2の分光手段により分割された複数の分割光のうち、少なくとも前記位相シフト法による計測に必要な数の分割光に対してそれぞれ異なる位相差を付与する第2のフィルタ手段とを備え、
    前記第1撮像手段は、少なくとも前記第1のフィルタ手段を透過する前記複数の分割光を同時に撮像可能に構成され、
    前記第2撮像手段は、少なくとも前記第2のフィルタ手段を透過する前記複数の分割光を同時に撮像可能に構成されていることを特徴とする請求項に記載の三次元計測装置。
  10. 前記分光手段は、
    第1の平面に沿った断面形状が三角形状となる三角柱形状をなし、該第1の平面と直交する方向に沿った3つの面のうちの第1面と第2面との交線を通り第3面と直交する平面に沿って第1分岐手段を有する第1の光学部材と、
    前記第1の平面と直交する第2の平面に沿った断面形状が三角形状となる三角柱形状をなし、該第2の平面と直交する方向に沿った3つの面のうちの第1面と第2面との交線を通り第3面と直交する平面に沿って第2分岐手段を有する第2の光学部材とを備え、
    前記第1の光学部材の第3面と前記第2の光学部材の第1面とを相対向するように配置することにより、
    前記第1の光学部材の前記第1面に対し入射される光を前記第1分岐手段にて2方向に分岐させ、このうち前記第1分岐手段にて反射した分割光を前記第1面にて前記第3面側に向け反射させ、前記第1分岐手段を透過した分割光を前記第2面にて前記第3面側に向け反射させることにより、前記第3面から平行する2つの分割光として出射させ、
    前記第1の光学部材の第3面から出射された2つの分割光を前記第2の光学部材の第1面に対し入射させ、該2つの分割光をそれぞれ前記第2分岐手段にて2方向に分岐させ、このうち前記第2分岐手段にて反射した2つの分割光をそれぞれ前記第1面にて前記第3面側に向け反射させ、前記第2分岐手段を透過した2つの分割光をそれぞれ前記第2面にて前記第3面側に向け反射させることにより、前記第3面から平行する4つの分割光として出射させることを特徴とする請求項に記載の三次元計測装置。
  11. 前記第1撮像手段は、少なくとも前記第1のフィルタ手段を透過する前記複数の分割光を同時に撮像可能な単一の撮像素子を備え、
    前記第2撮像手段は、少なくとも前記第2のフィルタ手段を透過する前記複数の分割光を同時に撮像可能な単一の撮像素子を備えていることを特徴とする請求項9又は10に記載の三次元計測装置。
  12. 前記被計測物が、プリント基板に印刷されたクリーム半田、又は、ウエハ基板に形成された半田バンプであることを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載の三次元計測装置。
JP2015239056A 2015-05-25 2015-12-08 三次元計測装置 Active JP6271493B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW105110999A TWI619927B (zh) 2015-05-25 2016-04-08 Three-dimensional measuring device
EP16799857.4A EP3306264B1 (en) 2015-05-25 2016-05-16 Three-dimensional measurement device
CN201680005622.0A CN107110640B (zh) 2015-05-25 2016-05-16 三维测量装置
KR1020177015655A KR101931190B1 (ko) 2015-05-25 2016-05-16 삼차원 계측 장치
PCT/JP2016/064465 WO2016190151A1 (ja) 2015-05-25 2016-05-16 三次元計測装置
US15/820,816 US10704888B2 (en) 2015-05-25 2017-11-22 Three-dimensional measurement device

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015105495 2015-05-25
JP2015105495 2015-05-25
JP2015177399 2015-09-09
JP2015177399 2015-09-09

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017053832A JP2017053832A (ja) 2017-03-16
JP2017053832A5 true JP2017053832A5 (ja) 2017-06-01
JP6271493B2 JP6271493B2 (ja) 2018-01-31

Family

ID=58320729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015239056A Active JP6271493B2 (ja) 2015-05-25 2015-12-08 三次元計測装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10704888B2 (ja)
EP (1) EP3306264B1 (ja)
JP (1) JP6271493B2 (ja)
KR (1) KR101931190B1 (ja)
CN (1) CN107110640B (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6279013B2 (ja) * 2016-05-26 2018-02-14 Ckd株式会社 三次元計測装置
JP6513619B2 (ja) * 2016-09-28 2019-05-15 Ckd株式会社 三次元計測装置
KR101860347B1 (ko) * 2016-11-29 2018-05-23 국방과학연구소 마이켈슨 간섭계의 하우징 시스템
KR102400937B1 (ko) * 2017-09-21 2022-05-24 (주)테크윙 형상 측정장치
JP7028623B2 (ja) 2017-12-07 2022-03-02 Ckd株式会社 三次元計測装置
JP7565670B2 (ja) 2018-03-29 2024-10-11 Ckd株式会社 検査装置、ptp包装機、及び、検査方法
JP7080718B2 (ja) * 2018-05-08 2022-06-06 株式会社ミツトヨ 光学装置及び形状測定方法
TWI770182B (zh) * 2018-05-31 2022-07-11 揚明光學股份有限公司 測量系統及測量方法
JP7192447B2 (ja) * 2018-11-30 2022-12-20 セイコーエプソン株式会社 分光カメラおよび電子機器
JP7300432B2 (ja) 2020-10-27 2023-06-29 Ckd株式会社 三次元計測装置
JP2024509390A (ja) * 2021-02-23 2024-03-01 ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド 光学システム、装置、及び端末
JP7442145B2 (ja) 2021-02-25 2024-03-04 Ckd株式会社 三次元計測装置
EP4141379A1 (en) * 2021-08-27 2023-03-01 Mitutoyo Corporation Polarizing fizeau interferometer
WO2023059618A1 (en) 2021-10-07 2023-04-13 Additive Monitoring Systems, Llc Structured light part quality monitoring for additive manufacturing and methods of use
CN114485476B (zh) * 2022-03-03 2024-03-15 华侨大学 一种晶圆测量设备、系统及方法
US20240133743A1 (en) * 2022-10-17 2024-04-25 Lawrence Livermore National Security, Llc Three phase spectral interferometry
KR102705899B1 (ko) * 2023-03-13 2024-09-11 류영화 기하적 위상 광학 소자를 적용한 위상천이 방식의 위상 검출 장치

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11211417A (ja) * 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 光波干渉測定方法および装置
JP2000074618A (ja) * 1998-08-27 2000-03-14 Fuji Xerox Co Ltd 干渉計測方法および干渉計測装置
JP4115624B2 (ja) * 1999-04-27 2008-07-09 オリンパス株式会社 3次元形状測定装置
JP3426552B2 (ja) * 2000-02-18 2003-07-14 株式会社ミツトヨ 形状計測装置
DE10249409B4 (de) * 2001-10-25 2007-09-20 Canon K.K. Interferometer und Positionsmessvorrichtung
CN100590421C (zh) * 2003-06-19 2010-02-17 麻省理工学院 用于相位测量的系统和方法
US7315381B2 (en) * 2004-10-26 2008-01-01 Mitutoyo Corporation Monolithic quadrature detector
US7268887B2 (en) * 2004-12-23 2007-09-11 Corning Incorporated Overlapping common-path interferometers for two-sided measurement
US7251039B1 (en) * 2005-04-29 2007-07-31 Agilent Technologies, Inc. Low non-linear error displacement measuring interferometer
JP2007093288A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光計測装置及び光計測方法
TWI326354B (en) * 2007-05-18 2010-06-21 Univ Nat Taipei Technology Method and apparatus for simultaneously acquiring interferograms and method for solving the phase
JP5213730B2 (ja) * 2009-01-14 2013-06-19 キヤノン株式会社 調整方法
JP6087705B2 (ja) * 2012-04-20 2017-03-01 国立大学法人東北大学 多機能画像取得装置およびケスタープリズム
JP6053138B2 (ja) * 2013-01-24 2016-12-27 株式会社日立エルジーデータストレージ 光断層観察装置及び光断層観察方法
CN104359862B (zh) * 2014-11-06 2017-02-01 佛山市南海区欧谱曼迪科技有限责任公司 一种基于光外差干涉术的共聚焦扫描显微成像方法及系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017053832A5 (ja)
US10704888B2 (en) Three-dimensional measurement device
KR101056926B1 (ko) Off-axis 방식의 이중 파장 디지털 홀로그래피를 이용한 3D 측정장치
US10782122B2 (en) Three-dimensional measurement device
KR102137568B1 (ko) 3차원 계측 장치
JP2008032690A (ja) 斜入射干渉計
CN111051810B (zh) 三维测量装置
CN110914634B (zh) 全息干涉度量的方法及系统
KR102021400B1 (ko) 계측 장치
US11892292B2 (en) Methods and systems of holographic interferometry
US11892801B2 (en) Systems and methods for simultaneous multi-channel off-axis holography
TWI619927B (zh) Three-dimensional measuring device
CN107923735B (zh) 用于推导物体表面的形貌的方法和设备
JP2005233772A (ja) 干渉計
JP7043555B2 (ja) 三次元計測装置
KR100726459B1 (ko) 3차원 형상측정장치
JP2022070426A (ja) 三次元計測装置
KR20230168341A (ko) 검사장비의 광학계