JP7080718B2 - 光学装置及び形状測定方法 - Google Patents
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Description
まず、従来の光学装置5の概要、及び従来の位相シフト法の課題について説明する。図1は、従来の光学装置5の構成を示す図である。光学装置5は、光源11と、光学系12と、カメラ13、記憶部14と、制御部15と、参照面3と、測定対象物4とを備える。
ここで、参照面及び測定対象物に照射する光の波長を変更することによる位相シフト法について説明する。参照面3から反射した参照光と、測定対象物4から反射した測定光とを光路長差Δl(x、y)で干渉させた干渉光は、式(1)で表される。
ここで、位相を変数とする正接関数の絶対値が大きくなる場合、誤差が増大することについて説明する。図2は、正接関数の絶対値が大きくなると誤差が増大することを説明するための図である。図2(A)は、(I2-I4/I1-I3)=tanφのグラフの模式図である。なお、W=(I2-I4/I1-I3)である。図2(A)に示すように、φがπ/2に近づくほど、|tanφ|は大きくなる。
図4及び図5を参照しながら、光学装置1の構成及び機能について説明する。図4は、光学装置1の構成を説明するための図である。図5は、光学装置1の機能構成を示す図である。光学装置1は、光源11と、光学系12と、カメラ13aと、カメラ13bと、記憶部14と、制御部15と、表示部16と、参照面3と、測定対象物4とを備える。
以下、図5及び図6を参照しながら、光学装置1の制御部15が実行する処理について説明する。図6は、光学装置1の制御部15が実行する処理を説明するための図である。なお、以下の説明において、xは、カメラ13の画素のx座標を示し、yは、カメラ13の画素のy座標を示す。
φsynth=k1(φ1(x、y))・φ1(x、y)+k2(φ2(x、y))・φ2(x、y) 式(7)
そして、合成部153は、第1位相φ1(x、y)と第2位相φ2(x、y)とを合成した合成位相φsynth(x、y)を形状作成部154に送信する。
α≦φ1<β ⇒ k(φ1)=1、k(φ2)=0
φ1<α、β≦φ1、 ⇒ k(φ1)=0、k(φ2)=0 式(8)
図8(C)は、位相φの値が所定の区間内の位相の重みを1にし、区間外の位相の重みを0にして合成した合成関数φsynthをプロットしたグラフである。
光学装置1は、第1位相と第2位相とがともに所定の区間内である場合、位相を変数とする正接関数の値に基づいて決定した重みで、第1位相と第2位相とを合成する。以下、変形例1に係る光学装置1の合成部153について説明する。
光源11が照射する光の波長を変更する場合、設定した波長変化量Δλに対し、実際に変更される波長の変化量が異なってしまう場合がある。この場合、カメラ13で検出される光の強度Iは、設定した波長変化量Δλと、実際に変更される波長の変化量との差に比例する誤差が含まれる。誤差Erを含む場合の干渉光は、式(8)で表される。
第1干渉光を取得するカメラと、第2干渉光を取得するカメラとは、それぞれ異なっているため、カメラが検出した干渉光の強度のばらつきが異なることがある。例えば、カメラ13aで取得した第1干渉光の強度のばらつきより、カメラ13bで取得した第2干渉光の強度のばらつきの方が小さい場合、第2干渉光の強度の方が、強度の値の信頼性が高いといえる。このように、強度の値の信頼性が異なる場合、信頼性に基づいて位相の重みを補正すると、測定対象物4の形状の測定誤差を低減できる。
まず、取得部151は、第1干渉光群及び第2干渉光群を取得する。続いて、位相決定部152は、第1干渉光群の第1位相と、第2干渉光群の第2位相とをそれぞれ決定する。
以上説明したように、光学装置1は、位相をオフセットした複数の干渉光群に基づいて複数の位相を決定し、複数の位相のうち、位相を変数とする正接関数の絶対値が大きい方の重みを、位相を変数とする正接関数の絶対値が小さい方の重みより小さくして合成する。そして、光学装置1は、合成した位相を用いて測定対象物4の形状を作成する。このようにすることで、光学装置1は、測定原理上、干渉光の位相を変数とする正接関数の値が大きくなる場合においても、計算上の誤差を低減することができる。そのため、光学装置1は、測定対象物4の形状の測定誤差を低減できる。
3 参照面
4 測定対象物
5 光学装置
11 光源
12 光学系
13 カメラ
14 記憶部
15 制御部
16 表示部
120 ピンホール
121 レンズ
122 ビームスプリッタ
123 λ/4板
124 偏光板
150 波長変更部
151 取得部
152 位相決定部
153 合成部
154 形状作成部
155 指示受信部
156 位相調整部
Claims (8)
- 参照面から反射した反射光と、測定対象物から反射した測定光とが干渉したそれぞれ位相が異なる複数の干渉光の第1干渉光群と、前記第1干渉光群の位相をオフセットした第2干渉光群とを取得する取得部と、
前記第1干渉光群を位相シフト法により解析して前記測定対象物の複数の位置それぞれにおける位相である第1位相を決定し、前記第2干渉光群を前記位相シフト法により解析して前記測定対象物の複数の位置それぞれにおける位相である第2位相を決定する位相決定部と、
前記測定対象物の複数の位置それぞれについて、前記位相決定部により決定された前記位相が所定の区間内である場合、前記位相が区間外である場合より重みを大きくして前記第1位相と前記第2位相とを合成する合成部と、
を備える光学装置。 - 前記合成部は、前記第1位相と前記第2位相とのうち、一方の位相が所定の区間内であり、もう一方の位相が所定の区間外である場合、前記区間内である位相の重みを1にするとともに、前記区間外である位相の重みを0にする、
請求項1に記載の光学装置。 - 前記合成部は、前記測定対象物の複数の位置それぞれについて、前記位相決定部により決定された前記第1位相と前記第2位相とのうち、前記位相を変数とする正接関数の値の絶対値が大きい方の重みを、前記位相を変数とする正接関数の値の絶対値が小さい方の重みより小さくして、前記第1位相と前記第2位相とを合成する、
請求項1に記載の光学装置。 - 前記合成部は、前記第1位相と前記第2位相との重みを等しくして合成する、
請求項1に記載の光学装置。 - 前記位相決定部が決定した前記第1位相と前記第2位相とのそれぞれに周期的に発生する位相解析誤差が反転するように、前記第1干渉光群と前記第2干渉光群との位相差を調整する位相調整部をさらに備える、
請求項4に記載の光学装置。 - 前記合成部は、前記第1位相と前記第2位相とのそれぞれの重みを予め前記第1位相と前記第2位相とのそれぞれに設定された補正値を用いて補正して前記第1位相と前記第2位相とを合成する、
請求項1から5のいずれか一項に記載の光学装置。 - 前記参照面及び前記測定対象物に光を照射する光源と、
前記複数の干渉光の位相それぞれが異なるように前記光源が照射する光の波長を変更させる波長変更部と、をさらに備える請求項1から6のいずれか一項に記載の光学装置。 - コンピュータが実行する、
参照面から反射した反射光と、測定対象物から反射した測定光とが干渉したそれぞれ位相が異なる複数の干渉光の第1干渉光群と、前記第1干渉光群の位相をオフセットした第2干渉光群とを取得するステップと、
前記第1干渉光群を位相シフト法により解析して前記測定対象物の複数の位置それぞれにおける位相である第1位相を決定し、前記第2干渉光群を前記位相シフト法により解析して前記測定対象物の複数の位置それぞれにおける位相である第2位相を決定するステップと、
前記測定対象物の複数の位置それぞれについて、前記決定するステップで決定された前記位相が所定の区間内である場合、前記位相が区間外である場合より重みを大きくして、前記第1位相と前記第2位相とを合成するステップと、
を有する形状測定方法。
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JP2019196947A JP2019196947A (ja) | 2019-11-14 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20190039323A (ko) * | 2016-10-04 | 2019-04-10 | 카본콤피텐스 게엠베하 | 탄소 층을 도포하기 위한 장치 및 방법 |
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JP2012112705A (ja) | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Kosaka Laboratory Ltd | 表面形状測定方法 |
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KR102109305B1 (ko) | 2016-10-04 | 2020-05-29 | 카본콤피텐스 게엠베하 | 탄소 층을 도포하기 위한 장치 및 방법 |
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