JP2015021904A5 - - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 22
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 2
- 210000001747 Pupil Anatomy 0.000 claims 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 230000002194 synthesizing Effects 0.000 description 1
Description
本発明は、干渉計測装置であって、光源からの光を分割し、前記分割された光の一方を参照面で反射させることで生成された参照光と、前記分割された光の他方を被検物に斜入射させ該被検物で反射させることで生成された測定光と、を合成して干渉光を生成する光学系と、前記光学系により生成された干渉光を検出する検出器と、前記光源からの光が前記検出器に検出される前に前記光源からの光に空間コヒーレンスを与える光学部材と、を備え、前記光学部材は、前記光源からの光、前記参照光、前記測定光および前記干渉光の光路を含む平面に垂直な第１方向よりも前記光学部材に入射する前記光源からの光の光束の断面と前記平面との交線の方向である第２方向に高い空間コヒーレンスを与える、ことを特徴とする。
Claims (19)
- 干渉計測装置であって、
光源からの光を分割し、前記分割された光の一方を参照面で反射させることで生成された参照光と、前記分割された光の他方を被検物に斜入射させ該被検物で反射させることで生成された測定光と、を合成して干渉光を生成する光学系と、
前記光学系により生成された干渉光を検出する検出器と、
前記光源からの光が前記検出器に検出される前に前記光源からの光に空間コヒーレンスを与える光学部材と、を備え、
前記光学部材は、前記光源からの光、前記参照光、前記測定光および前記干渉光の光路を含む平面に垂直な第１方向よりも前記光学部材に入射する前記光源からの光の光束の断面と前記平面との交線の方向である第２方向に高い空間コヒーレンスを与える、
ことを特徴とする干渉計測装置。 - 前記光学系により生成された干渉光を分光する分光部をさらに備え、
前記分光部による波長分解方向が、前記第２方向と平行である、
ことを特徴とする請求項１に記載の干渉計測装置。 - 前記光学部材は、前記第１方向および前記第２方向に互いに異なる長さの開口が形成されている開口絞りを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の干渉計測装置。
- 前記開口絞りは、前記光学系のうち前記光源からの光を前記被検物に入射させる照明光学系の瞳位置に配置されることを特徴とする請求項３に記載の干渉計測装置。
- 前記開口絞りの開口の短手方向により決定される開口数ＮＡは、前記光源からの光の中心波長をλｃ、前記被検物への入射角度をθｉｎ、前記被検物の前記第２方向の計測レンジをＺｒとするとき、ＮＡ≦０．６１λｃ／（Ｚｒ・sinθｉｎ）を満たすことを特徴とする請求項３または４に記載の干渉計測装置。
- 前記開口絞りの開口の短手方向により決定される開口数ＮＡは、前記光源からの光の中心波長をλｃ、前記被検物への入射角度をθｉｎ、前記被検物の第２方向の計測レンジをＺｒとするとき、ＮＡ≦０．３０５λｃ／（Ｚｒ・sinθｉｎ）を満たすことを特徴とする請求項３または４に記載の干渉計測装置。
- 前記光学部材は、前記第１方向および前記第２方向に異なる屈折力を有することを特徴とする請求項１または２に記載の干渉計測装置。
- 前記光学部材は、シリンドリカルレンズを含むことを特徴とする請求項７に記載の干渉計測装置。
- 前記光学部材は、前記光学系のうち前記測定光と前記参照光とを前記検出器に導く受光光学系に配置されることを特徴とする請求項７または８に記載の干渉計測装置。
- 前記分光部は、回折格子または分散プリズムを含むことを特徴とする請求項２に記載の干渉計測装置。
- 前記検出器は、二次元撮像素子であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
- 前記被検物を支持して移動するステージと、前記ステージを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記二次元撮像素子の１フレームの撮像の間、前記被検物を移動させることを特徴とする請求項１１に記載の干渉計測装置。 - 前記光源からの光の前記被検物への入射角度を６０度以上とすることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
- 前記干渉計測装置は、前記被検物の表面形状を計測することを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
- 前記被検物は、半透明膜が形成された基板であり、前記干渉計測装置は、前記半透明膜の膜厚を計測することを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
- 前記光源からの光は白色光であることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の干渉計測装置。
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板ステージと、
前記基板ステージに保持された基板の表面形状を計測する請求項１４に記載の干渉計測装置と、
を備える、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置は、基板を計測する計測処理を行う計測ステーションと、前記計測処理が行われた基板に露光処理を行う露光ステーションと、を備えた露光装置を含み、
前記干渉計測装置は、前記計測ステーションに配置されている、
ことを特徴とする請求項１７に記載のリソグラフィ装置。 - 請求項１７または１８に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンが形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013152096A JP6271896B2 (ja) | 2013-07-22 | 2013-07-22 | 干渉計測装置、リソグラフィ装置および物品の製造方法 |
| TW103122848A TWI579652B (zh) | 2013-07-22 | 2014-07-02 | 干涉儀、微影設備、和製造物品的方法 |
| US14/327,650 US9625836B2 (en) | 2013-07-22 | 2014-07-10 | Interferometer, lithography apparatus, and method of manufacturing article |
| KR1020140088285A KR101790830B1 (ko) | 2013-07-22 | 2014-07-14 | 간섭계, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013152096A JP6271896B2 (ja) | 2013-07-22 | 2013-07-22 | 干渉計測装置、リソグラフィ装置および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015021904A JP2015021904A (ja) | 2015-02-02 |
| JP2015021904A5 true JP2015021904A5 (ja) | 2016-09-08 |
| JP6271896B2 JP6271896B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=52343344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013152096A Active JP6271896B2 (ja) | 2013-07-22 | 2013-07-22 | 干渉計測装置、リソグラフィ装置および物品の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9625836B2 (ja) |
| JP (1) | JP6271896B2 (ja) |
| KR (1) | KR101790830B1 (ja) |
| TW (1) | TWI579652B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6449310B2 (ja) | 2014-01-18 | 2019-01-09 | デイライト ソリューションズ、インコーポレイテッド | 低ノイズ分光画像化システム |
| US10437033B2 (en) | 2014-01-18 | 2019-10-08 | Daylight Solutions, Inc. | Modulating spectroscopic imaging system using substantially coherent illumination |
| US11803044B2 (en) | 2014-01-18 | 2023-10-31 | Daylight Solutions, Inc. | Low-noise spectroscopic imaging system with steerable substantially coherent illumination |
| EP2966489A1 (de) * | 2014-06-30 | 2016-01-13 | Carl Zeiss SMT GmbH | Beleuchtungsoptik sowie abbildende optik für ein metrologiesystem für die untersuchung eines objekts mit euv-beleuchtungs- und abbildungslicht sowie metrologiesystem mit einer derartigen beleuchtungsoptik bzw. einer derartigen abbildungsoptik |
| KR102552792B1 (ko) * | 2015-02-23 | 2023-07-06 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
| EP3680717A1 (en) | 2015-02-23 | 2020-07-15 | Nikon Corporation | Substrate processing system and substrate processing method, and device manufacturing method |
| TWI768342B (zh) | 2015-02-23 | 2022-06-21 | 日商尼康股份有限公司 | 測量裝置、微影系統及曝光裝置、測量方法及曝光方法 |
| EP3309616A1 (en) | 2016-10-14 | 2018-04-18 | ASML Netherlands B.V. | Method of inspecting a substrate, metrology apparatus, and lithographic system |
| JP6818501B2 (ja) * | 2016-10-19 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
| JP2020060690A (ja) * | 2018-10-10 | 2020-04-16 | ウシオ電機株式会社 | 光照射方法、機能素子の製造方法および光照射装置 |
| US11162897B2 (en) * | 2019-05-15 | 2021-11-02 | Onto Innovation Inc. | Optical metrology device using numerical aperture reduction |
| EP4201055A1 (en) * | 2020-08-18 | 2023-06-28 | Zygo Corporation | Variable-zoom imaging apparatus |
| KR102492803B1 (ko) * | 2022-04-19 | 2023-01-31 | (주)오로스테크놀로지 | 조리개를 이용하여 입사 각도 또는 개구수를 조절하는 편광 분석 장치 및 방법 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5398113A (en) | 1993-02-08 | 1995-03-14 | Zygo Corporation | Method and apparatus for surface topography measurement by spatial-frequency analysis of interferograms |
| JP3685667B2 (ja) * | 1999-10-27 | 2005-08-24 | 株式会社日立製作所 | 立体形状検出方法及び装置、並びに検査方法及び装置 |
| US7884947B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-02-08 | Zygo Corporation | Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination |
| WO2007044786A2 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Zygo Corporation | Interferometry method and system including spectral decomposition |
| JP5084558B2 (ja) | 2008-02-28 | 2012-11-28 | キヤノン株式会社 | 表面形状計測装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009210466A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Canon Inc | 位置測定装置、位置測定方法及び露光装置 |
| JP5787483B2 (ja) * | 2010-01-16 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 計測装置及び露光装置 |
| EP2526373B1 (de) * | 2010-01-22 | 2013-12-11 | Universität Stuttgart | Verfahren und anordnung zur robusten interferometrie |
| JP2013024747A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Canon Inc | 計測装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2013
- 2013-07-22 JP JP2013152096A patent/JP6271896B2/ja active Active
-
2014
- 2014-07-02 TW TW103122848A patent/TWI579652B/zh active
- 2014-07-10 US US14/327,650 patent/US9625836B2/en active Active
- 2014-07-14 KR KR1020140088285A patent/KR101790830B1/ko active IP Right Grant
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