JP2010073818A - 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010073818A JP2010073818A JP2008238388A JP2008238388A JP2010073818A JP 2010073818 A JP2010073818 A JP 2010073818A JP 2008238388 A JP2008238388 A JP 2008238388A JP 2008238388 A JP2008238388 A JP 2008238388A JP 2010073818 A JP2010073818 A JP 2010073818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- test
- radius
- numerical aperture
- imaging surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0257—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/54—Lamp housings; Illuminating means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
【解決手段】被検光学系の開口数を測定する測定装置は、前記被検光学系を通過する被検光を反射する反射鏡と、撮像センサを含み、参照光と前記反射鏡によって反射された被検光とによって前記撮像センサの撮像面に干渉縞を形成する干渉計ユニットと、前記干渉計ユニットを制御するとともに、前記撮像センサによって撮像された干渉縞に基づいて前記被検光学系の開口数を計算する制御部とを備える。前記制御部は、前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径(R)の変化(ΔR)に対する前記被検光学系の開口数(NA)の変化(ΔNA)を示す係数(ΔNA/ΔR)に対して前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径(R)を乗じることによって、前記被検光学系の開口数(NA)を計算する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態の測定装置の概略構成を示す図である。第1実施形態の測定装置は、被検光学系(例えば、露光装置の投影光学系)の波面収差を測定するための干渉計としてフィゾー型干渉計を含むが、他の方式の干渉計を含んでもよい。以下、図1を参照しながら本発明の第1実施形態の測定装置の構成および動作を説明する。
まず、被検光学系116を通過する被検光を反射する反射鏡であるRS117の被検光学系116に対する位置を第1状態とし、当該第1状態において撮像センサ109の撮像面に形成される第1干渉縞を撮像センサ109によって撮像する。次に、被検光学系116に対するRS117の位置を第1状態から第2状態に変更し、当該第2状態において撮像センサ109の撮像面に形成される第2干渉縞を撮像センサ109によって撮像する。
一方、RS117をΔXだけ移動させることによって発生する差分波面Wは、被検光学系116の開口数をNAとして、式(2)で示される。
式(2)をNAについて変形すると、式(3)が得られる。
撮像センサ109の撮像面における被検光学系116の瞳の半径Rの変化ΔRに対する開口数NAの変化ΔNAを示す係数ΔNA/ΔRは、式(3)より、式(4)のように表される。
よって、式(1)に従って得られるΔW/ΔRと、RS117の移動量ΔXとに基づいて、式(4)に従って撮像センサ109の撮像面における被検光学系116の瞳の半径Rの変化ΔRに対する開口数NAの変化ΔNAを示す係数ΔNA/ΔRを得ることができる。
以下、図2に示すフローチャートを参照しながら被検光学系116の開口数(NA)を測定する動作を説明する。この動作は、主制御部(制御部)131によって制御される。
図4は、本発明の第2実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。この路装置は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有するとともに、該投影光学系を被検光学系としてその開口数を測定する測定装置が組み込まれている。この測定装置の原理、動作、構成は、第1実施形態に従いうる。
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイスの製造に好適であり、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の露光装置を用いて原版のパターンを転写する工程と、該感光剤を現像する工程とを含みうる。さらに、他の周知の工程(エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を経ることによりデバイスが製造される。
Claims (6)
- 被検光学系の開口数を測定する測定装置であって、
前記被検光学系を通過する被検光を反射する反射鏡と、
撮像センサを含み、参照光と前記反射鏡によって反射された被検光とによって前記撮像センサの撮像面に干渉縞を形成する干渉計ユニットと、
前記干渉計ユニットを制御するとともに、前記撮像センサによって撮像された干渉縞に基づいて前記被検光学系の開口数を計算する制御部とを備え、
前記制御部は、前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径(R)の変化(ΔR)に対する前記被検光学系の開口数(NA)の変化(ΔNA)を示す係数(ΔNA/ΔR)に対して前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径(R)を乗じることによって、前記被検光学系の開口数(NA)を計算する、
ことを特徴とする測定装置。 - 前記反射鏡を駆動する駆動機構を更に備え、
前記制御部は、前記被検光学系に対する前記反射鏡の位置が第1状態および第2状態になるように前記駆動機構を制御し、
前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径として第1半径(R1)を用いて前記第1状態において前記撮像面に形成される第1干渉縞に基づいて計算される前記被検光学系の波面と、前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径として前記第1半径(R1)を用いて前記第2状態において前記撮像面に形成される第2干渉縞に基づいて計算される前記被検光学系の波面と、の差分である差分波面W1と、
前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径として第2半径(R2)を用いて前記第1干渉縞に基づいて計算される前記被検光学系の波面と、前記撮像面における前記被検光学系の瞳の半径として前記第2半径(R2)を用いて前記第2干渉縞に基づいて計算される前記被検光学系の波面との差分である差分波面W2と、
前記第1状態と前記第2状態との間における前記反射鏡の移動量(ΔX)とに基づいて、
ΔNA/ΔR=(W1−W2)/{(R1−R2)・ΔX}
に従って前記係数(ΔNA/ΔR)を計算する、
ことを特徴とする請求項1に記載の測定装置。 - 前記参照光は、前記被検光学系の物体面に配置された透過球面によって形成され、前記反射鏡は、前記被検光学系の像面に配置された反射球面である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。 - 前記被検光学系は、露光装置において原版のパターンを基板に投影する投影光学系を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の測定装置。 - 投影光学系によって原版のパターンを基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系を通過する被検光を反射する反射鏡と、
撮像センサを含み、参照光と前記反射鏡によって反射された被検光とによって前記撮像センサの撮像面に干渉縞を形成する干渉計ユニットと、
前記干渉計ユニットを制御するとともに、前記撮像センサによって撮像された干渉縞に基づいて前記投影光学系の開口数を計算する制御部とを備え、
前記制御部は、前記撮像面における前記投影光学系の瞳の半径(R)の変化(ΔR)に対する前記投影光学系の開口数(NA)の変化(ΔNA)を示す係数(ΔNA/ΔR)に対して前記撮像面における前記投影光学系の瞳の半径(R)を乗じることによって、前記投影光学系の開口数(NA)を計算する、
ことを特徴とする露光装置。 - デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板を請求項5に記載の露光装置を用いて露光する工程と、
前記感光剤を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008238388A JP5129702B2 (ja) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US12/560,024 US8542345B2 (en) | 2008-09-17 | 2009-09-15 | Measurement apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method to measure numerical aperture of the optical system using interference fringe |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008238388A JP5129702B2 (ja) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010073818A true JP2010073818A (ja) | 2010-04-02 |
JP5129702B2 JP5129702B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=42007525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008238388A Active JP5129702B2 (ja) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8542345B2 (ja) |
JP (1) | JP5129702B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118807A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | アサヒビール株式会社 | 酵母の培養方法 |
CN112033647A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-12-04 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种多孔径系统光瞳检测与校正方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005069080A2 (de) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung und verfahren zur optischen vermessung eines optischen systems, messstrukturträger und mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlage |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002005787A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nikon Corp | 結像特性測定方法及び結像特性測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2002093695A (ja) * | 2000-05-02 | 2002-03-29 | Canon Inc | 投影露光装置 |
JP2002184667A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-28 | Nikon Corp | 補正部材の製造方法、投影光学系の製造方法および露光装置の調整方法 |
JP2004297046A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-10-21 | Canon Inc | 収差測定方法 |
JP2006148102A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、リソグラフィ機器の特性を測定する方法、及びコンピュータ・プログラム |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7095509B2 (en) * | 2003-03-07 | 2006-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Aberration measuring method for projection optical system with a variable numerical aperture in an exposure apparatus |
JP2007294934A (ja) | 2006-03-30 | 2007-11-08 | Canon Inc | 計測方法及び装置、露光装置及び方法、調整方法、並びに、デバイス製造方法 |
-
2008
- 2008-09-17 JP JP2008238388A patent/JP5129702B2/ja active Active
-
2009
- 2009-09-15 US US12/560,024 patent/US8542345B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093695A (ja) * | 2000-05-02 | 2002-03-29 | Canon Inc | 投影露光装置 |
JP2002005787A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nikon Corp | 結像特性測定方法及び結像特性測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2002184667A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-28 | Nikon Corp | 補正部材の製造方法、投影光学系の製造方法および露光装置の調整方法 |
JP2004297046A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-10-21 | Canon Inc | 収差測定方法 |
JP2006148102A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、リソグラフィ機器の特性を測定する方法、及びコンピュータ・プログラム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118807A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | アサヒビール株式会社 | 酵母の培養方法 |
CN112033647A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-12-04 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种多孔径系统光瞳检测与校正方法 |
CN112033647B (zh) * | 2020-08-27 | 2022-08-02 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种多孔径系统光瞳检测与校正方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8542345B2 (en) | 2013-09-24 |
JP5129702B2 (ja) | 2013-01-30 |
US20100068634A1 (en) | 2010-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100879306B1 (ko) | 측정방법 및 장치와, 노광장치 | |
US7911624B2 (en) | Device and method for the interferometric measurement of phase masks | |
US7746479B2 (en) | Wavefront-aberration measuring device and exposure apparatus including the device | |
TWI608308B (zh) | 控制光學組件相對於表面之位置的方法與系統、製造裝置之方法、非暫時性電腦程式產品、及偵測設備 | |
KR102326190B1 (ko) | 정정 유도 방법 및 장치, 구조체의 속성을 결정하는 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법 | |
US7508488B2 (en) | Projection exposure system and method of manufacturing a miniaturized device | |
US6961132B2 (en) | Interference system and semiconductor exposure apparatus having the same | |
JP3728187B2 (ja) | 結像光学系性能測定方法及び装置 | |
US7787103B2 (en) | Projection exposure apparatus, optical member, and device manufacturing method | |
JP2006250859A (ja) | 面形状測定方法、面形状測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 | |
JP2013024747A (ja) | 計測装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP5129702B2 (ja) | 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP5650272B2 (ja) | リソグラフィ方法および装置 | |
JP2017040583A (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP5033015B2 (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
US20160025480A1 (en) | Interferometric level sensor | |
US20090219494A1 (en) | Evaluation method, evaluation apparatus, and exposure apparatus | |
JP2009283635A (ja) | 測定装置、測定方法、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4416540B2 (ja) | 収差測定方法 | |
JP7361787B2 (ja) | リソグラフィ測定のためのセンサ装置及び方法 | |
JP4078361B2 (ja) | 投影光学系の光学性能測定方法及び投影露光装置 | |
JP2005156511A (ja) | 測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 | |
KR20220138803A (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 물품의 제조 방법 | |
JP2005135935A (ja) | シアリング干渉計測装置 | |
JP2010101701A (ja) | 測長計の非線形誤差を算出する算出方法及び算出装置、該算出装置を備える測長計、該算出装置又は該測長計を備える露光装置、及び電子デバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110916 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121005 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121102 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5129702 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109 Year of fee payment: 3 |