JP2015076491A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての検出装置は、基板に設けられた第１マークおよび前記第１マークとは異なる第２マークを検出する検出装置であって、反射面を有する光学部材と、第１の光を前記基板に照射し、前記基板で反射された前記第１の光を受光する第１スコープと、第２の光を前記反射面で反射させて前記基板に照射し、前記基板で反射され前記反射面で反射された前記第２の光を受光する第２スコープと、前記第１スコープを用いて前記第１マークを検出すると共に前記第２スコープを用いて前記第２マークを検出するために、前記光学部材と前記第１スコープとの前記基板に沿った方向の位置関係を変更する変更手段と、を有することを特徴とする。

Claims (21)

1. 基板に設けられた第１マークおよび前記第１マークとは異なる第２マークを検出する検出装置であって、
   反射面を有する光学部材と、
   第１の光を前記基板に照射し、前記基板で反射された前記第１の光を受光する第１スコープと、
   第２の光を前記反射面で反射させて前記基板に照射し、前記基板で反射され前記反射面で反射された前記第２の光を受光する第２スコープと、
   前記第１スコープを用いて前記第１マークを検出すると共に前記第２スコープを用いて前記第２マークを検出するために、前記光学部材と前記第１スコープとの前記基板に沿った方向の位置関係を変更する変更手段と、を有することを特徴とする検出装置。
2. 前記第１スコープからの前記第１の光が、前記反射面で反射することなく前記基板に照射され、前記基板で反射された前記第１の光が前記反射面で反射することなく前記第１スコープに受光されることを特徴とする請求項１に記載の検出装置。
3. 前記第１スコープおよび前記第２スコープはそれぞれ、対物レンズを有する光学系と該光学系が形成するマークの像を検出する撮像素子とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の検出装置。
4. 前記第１スコープは、前記第１の光を前記光学部材を通して前記基板に照射し、且つ、前記基板で反射され前記光学部材を通った前記第１の光を受光することを特徴とする請求項１又は２に記載の検出装置。
5. 基板に設けられた第１マークおよび前記第１マークとは異なる第２マークを検出する検出装置であって、
   反射面を有する光学部材と、
   第１対物レンズを有する第１光学系と、前記光学部材を通して前記基板に照射され且つ前記基板で反射され再び前記光学部材を通った第１の光を用いて前記第１光学系が形成するマークの像を検出する第１撮像素子と、を有する第１スコープと、
   第２対物レンズを有する第２光学系と、前記反射面で反射させて前記基板に照射され且つ前記基板で反射され再び前記反射面で反射された第２の光を用いて前記第２光学系が形成するマークの像を検出する第２撮像素子と、を有する第２スコープと、
   前記第１スコープを用いて前記第１マークを検出するとともに前記第２スコープを用いて前記第２マークを検出するために、前記光学部材と前記第１スコープとの前記基板に沿った方向の位置関係を変更する変更手段と、を有することを特徴とする検出装置。
6. 前記光学部材は、前記反射面を端部に有し、前記基板の表面に沿って前記基板側の面が対面するよう設けられた透明な部材であることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の検出装置。
7. 前記反射面は、前記基板側に傾いていることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の検出装置。
8. 前記変更手段が前記光学部材と前記第１スコープとの位置関係を変更することにより、前記方向において前記第１の光が前記光学部材に入射する位置と前記反射面との位置関係が変更されることを特徴とする請求項４乃至７のうちいずれか１項に記載の検出装置。
9. 前記光学部材は、前記基板に入射するときの前記第１の光の主光線と前記第２の光の主光線とが前記基板の表面に対してそれぞれ垂直になるように構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の検出装置。
10. 前記反射面は、前記第１の光を透過し、且つ前記第２の光を反射するように構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の検出装置。
11. 前記第１の光および前記第２の光は、互いに異なる偏光特性を有し、
    前記反射面には、入射した光の偏光特性に応じて当該光を反射または透過させる偏光ビームスプリッタ膜が設けられている、ことを特徴とする請求項１０に記載の検出装置。
12. 前記第１の光は、第１の波長帯域における光であり、前記第２の光は、前記第１の波長帯域とは異なる第２の波長帯域における光であり、
    前記反射面には、入射した光の波長帯域に応じて当該光を反射または透過させるダイクロイック膜が設けられている、ことを特徴とする請求項１０に記載の検出装置。
13. 前記反射面には、前記第２の光を反射する反射膜が設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の検出装置。
14. 前記変更手段は、前記第１スコープを前記光学部材に対して前記方向に移動させることにより、前記光学部材と前記第１スコープとの位置関係を変更することを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の検出装置。
15. 前記変更手段は、前記基板に入射するときの前記第１の光の焦点の高さが変わらないように前記第１スコープを移動させることを特徴とする請求項１４に記載の検出装置。
16. 前記変更手段は、前記光学部材を前記方向に移動させる手段であることを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の検出装置。
17. 前記第１スコープは、その光軸が前記基板の表面に垂直になるように配置され、
    前記第２スコープは、前記第１スコープの光軸と前記第２スコープの光軸との間の角度が９０度未満になるように配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の検出装置。
18. 前記光学部材における前記反射面に、前記第１の光および前記第２の光を透過可能なプリズムが接合されている、ことを特徴とする請求項１乃至１７のうちいずれか１項に記載の検出装置。
19. 前記変更手段は、前記方向のうち、前記第１マークと前記第２マークとが並んでいる方向において前記位置関係を変更する、ことを特徴とする請求項１乃至１８のうちいずれか１項に記載の検出装置。
20. 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
    前記基板に設けられた前記第１マークと前記第２マークとを検出する請求項１乃至１９のうちいずれか１項に記載の検出装置を含み、該検出装置による前記第１マークと前記第２マークとの検出結果に応じて前記基板の位置合わせを行うことを特徴とするリソグラフィ装置。
21. 請求項２０に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する形成工程と、
    前記形成工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する加工工程と、を有し、
    前記加工工程で加工した前記基板の少なくとも一部から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。