JP5559114B2 - アライメント測定システム、リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置においてのアライメントを決定する方法 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、マスクテーブルMTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTもしくは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、マスクテーブルMTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。マスクテーブルMTもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.その他のモードにおいては、マスクテーブルMTもしくは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
1.対象上のアライメントターゲットを測定するためのアライメント測定システムであって、
対象に向けて測定ビームを提供する照明源と、
対象で反射した後の測定ビームを受ける検出器システムと、
検出器システムが受けた測定ビームに基づいてアライメントを決定する処理ユニットと、を備え、
本測定システムは、
測定ビームを第1ビーム部分と第2ビーム部分とに分けるビーム分割デバイスと、
第1ビーム部分および/または第2ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える偏光デバイスと、を備え、
結果として得られる第1ビーム部分の偏光角は結果として得られる第2ビーム部分の偏光角とは異なり、
検出器システムは、第1ビーム部分を受ける第1検出器と第2ビーム部分を受ける第2検出器とを含み、
処理ユニットは、偏光した第1ビーム部分と偏光した第2ビーム部分との比較を含む信号に基づいてアライメントを決定するよう構成される、アライメント測定システム。
2.照明源は偏光した測定ビームを提供するよう構成される、実施の形態1に記載のシステム。
3.照明源は複数の波長を含む測定ビームを提供する、実施の形態1に記載のシステム。
4.照明源は単一の波長を有する測定ビームを提供する、実施の形態1に記載のシステム。
5.照明源はパルス状の測定ビームを提供する、実施の形態1に記載のシステム。
6.偏光デバイスは、第1ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える第1偏光デバイスと、第2ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変える第2偏光デバイスと、を含む、実施の形態1に記載のシステム。
7.検出器システムは干渉デバイスを含む、実施の形態1に記載のシステム。
8.検出器システムは第1および第2ビーム部分のそれぞれについて、ビーム分割デバイスと対応する検出器との間に分散ファイバを備える、実施の形態1に記載のシステム。
9.第1検出器、第2検出器はそれぞれ、第1ビーム部分、第2ビーム部分の強度を測定するよう構成されている、実施の形態8に記載のシステム。
10.比較は、第2検出器によって測定された強度を第1検出器によって測定された強度から減算することを含む、実施の形態9に記載のシステム。
11.放射ビームを調整するよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与することでパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたサポートと、
基板を保持するよう構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システムと、を備え、
本リソグラフィ装置は実施の形態1から11のいずれかに記載のアライメント測定システムを備える、リソグラフィ装置。
12.リソグラフィ装置において基板のアライメントを決定する方法であって、
照明源によって、基板上のアライメントターゲットを測定ビームで照明することと、
検出器システムによって、対象で反射した後の測定ビームを受けることと、
処理ユニットアライメントによって、検出器システムが受けた測定ビームに基づいて、基板のアライメントを決定することと、を含み、
本方法は、
ビーム分割デバイスによって、測定ビームを第1ビーム部分と第2ビーム部分とに分けることと、
第1および/または第2偏光デバイスによって、第1ビーム部分および/または第2ビーム部分を偏光させるかまたはその偏光を変えることと、を含み、
結果として得られる第1ビーム部分の偏光角は結果として得られる第2ビーム部分の偏光角とは異なり、
アライメントを決定するステップは、第1ビーム部分に基づく第1測定信号と第2ビーム部分に基づく第2測定信号との比較に基づく、方法。
13.第1および第2ビーム部分間の信号差を増やすために、アライメントターゲットは小区分化されている、実施の形態12に記載の方法。
14.アライメントマークはラインとスペースとを有し、ラインは小区分化されている、実施の形態13に記載の方法。
15.第1放射は高い繰り返しレートを有する高い強度の短パルス放射である、実施の形態12に記載の方法。
16.対象上のアライメントターゲットを測定するためのアライメント測定システムであって、
複数の波長の光を含む測定ビームパルスを対象に向けて提供する照明源と、
対象で反射した後の測定ビームパルスを受ける検出器システムと、
検出器システムが受けた測定ビームパルスに基づいてアライメントを決定する処理ユニットと、を備え、
検出器システムは第1検出器および分散ファイバを含み、
前記測定ビームパルスの異なる波長成分が前記分散ファイバのなかで分光されて第1検出器に異なる時刻に到達するよう、分散ファイバは測定ビームパルスの少なくとも一部を第1検出器へ案内するよう構成される、アライメント測定システム。
17.放射ビームを調整するよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与することでパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたサポートと、
基板を保持するよう構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システムと、を備え、
本リソグラフィ装置は対象上のアライメントターゲットを測定するためのアライメント測定システムを備え、
アライメント測定システムは、
複数の波長の光を含む測定ビームパルスを対象に向けて提供する照明源と、
対象で反射した後の測定ビームパルスを受ける検出器システムと、
検出器システムが受けた測定ビームパルスに基づいてアライメントを決定する処理ユニットと、を備え、
検出器システムは第1検出器および分散ファイバを含み、
前記測定ビームパルスの異なる波長成分が前記分散ファイバのなかで分光されて第1検出器に異なる時刻に到達するよう、分散ファイバは測定ビームパルスの少なくとも一部を第1検出器へ案内するよう構成される、リソグラフィ装置。
18.リソグラフィ装置において基板のアライメントを決定する方法であって、
照明源によって、複数の波長の光を含む測定ビームパルスで基板上のアライメントターゲットを照明することと、
検出器システムによって、対象で反射した後の測定ビームパルスを受けることとと、
処理ユニットによって、検出器システムが受けた測定ビームパルスに基づいてアライメントを決定することと、を含み、
前記検出器システムによって前記測定ビームパルスを受けるステップは、
前記測定ビームパルスの異なる波長成分が分散ファイバのなかで分光されて第1検出器に異なる時刻に到達するよう、前記分散ファイバを通じて測定ビームパルスの少なくとも一部を検出器システムの第1検出器へ案内することを含む、方法。
Claims (4)
- 対象上のアライメントターゲットを測定するためのアライメント測定システムであって、
対象に向けて複数の波長の光を含む測定ビームパルスを提供する照明源と、
対象で反射した後の測定ビームパルスの異なる偏光成分間の差を検出する検出器システムと、
検出器システムによって検出された差に基づいてアライメントを決定する処理ユニットと、を備え、
前記検出器システムは、検出器および分散ファイバを含み、前記測定ビームパルスの異なる波長成分が前記分散ファイバのなかで分光されて前記検出器に異なる時刻に到達するよう、前記分散ファイバは前記測定ビームパルスの少なくとも一部を前記検出器へ案内するよう構成され、
前記処理ユニットは、前記測定ビームパルスの異なる波長についての強度変動応答を得るために、最初の測定ビームパルス後の適切な時間を選択することにより、前記検出器によって受信された測定強度と各波長とを対応付ける、アライメント測定システム。 - 照明源は偏光した測定ビームパルスを提供するよう構成される、請求項1に記載のシステム。
- 放射ビームを調整するよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与することでパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたサポートと、
基板を保持するよう構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システムと、を備え、
本リソグラフィ装置は請求項1または2に記載のアライメント測定システムを備える、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置において基板のアライメントを決定する方法であって、
照明源によって、基板上のアライメントターゲットを複数の波長の光を含む測定ビームパルスで照明することと、
検出器システムによって、対象で反射した後の測定ビームパルスの異なる偏光成分間の差を検出することと、
処理ユニットによって、検出器システムが検出した差に基づいて、基板のアライメントを決定することと、を含み、
前記検出器システムは、検出器および分散ファイバを含み、
前記検出器システムによる検出ステップは、前記測定ビームパルスの異なる波長成分が前記分散ファイバのなかで分光されて前記検出器に異なる時刻に到達するよう、前記分散ファイバを通じて前記測定ビームパルスの少なくとも一部を前記検出器へ案内することを含み、
前記処理ユニットによる決定ステップは、前記測定ビームパルスの異なる波長についての強度変動応答を得るために、最初の測定ビームパルス後の適切な時間を選択することにより、前記検出器によって受信された測定強度と各波長とを対応付けることを含む、方法。
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