JP5300181B2 - 計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。 - Google Patents
計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。 Download PDFInfo
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Description
スーパコンティニューム光源からの放射で構造を照射すること、及び、
センサを使用して構造から戻る放射を検出することを含む。
第1基板上に形成された微細構造のパラメータを、
スーパコンティニューム光源からの放射で構造を照射すること、及び、
センサを使用して構造から戻る放射を検出することによって、
測定すること、及び、
リソグラフィ・プロセスを使用して第2基板上にパターンを転写することを含み、リソグラフィ・プロセスのパラメータは、構造の測定されたパラメータに基づいて決定される。
−放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照射システム(イルミネータ)ILと、
−パターニング・デバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、一定のパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持体構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
−基板(例えば、レジストをコーティングしたウェハ)を保持するように構成され、一定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)と、
−パターニング・デバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを、基板Wの標的部分C(例えば、1つ又は複数のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズ系)PSを含む。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、放射ビームに与えられる全体のパターンが、標的部分C上に1度で投影される間、実質的に静止したままにされる(即ち、単一静止露光)。基板テーブルWTは、その後、異なる標的部分Cを露光できるようにX及び/又はY方向にシフトすることができる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静止露光で結像される標的部分Cのサイズを制限する。
2.スキャン・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、放射ビームに与えられるパターンが、標的部分C上に投影される間、同期して走査される(即ち、単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小率)拡大率及びイメージ反転特性によって決めることができる。スキャン・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光の標的部分(走査しない方向の)幅を制限し、走査運動の長さは、標的部分の(走査方向の)高さを決める。
3.別のモードでは、プログラム可能なパターニング・デバイスを保持するマスク・テーブルMTは、実質的に静止したままにされることができ、基板テーブルWTは、放射ビームに与えられるパターンが、標的部分C上に投影される間、移動する、又は、走査される。このモードでは、一般に、パルス放射源が採用され、プログラム可能なパターニング・デバイスは、基板テーブルWTのそれぞれの移動後か、又は、スキャン中における連続放射パルスの間に、更新することができる。この動作モードは、先に参照したタイプのプログラム可能なミラー・アレイ等の、プログラム可能なパターニング・デバイスを利用するマスク無しリソグラフィに容易に適用することができる。
IL 照射システム
MA パターニング・デバイス
PS 投影システム
PM 第1ポジショナ
WT 基板テーブル
W 基板
PW 第2ポジショナ
SO 放射源
CO コンデンサ
IN インテグレータ
C 標的部分
MT マスク・テーブル
IF 位置センサ
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
P1、P2 基板アライメント・マーク
AD 調整器
BD ビーム送出システム
2、102 光源(スーパコンティニューム光源)
6 基板
202、L1 顕微鏡対物レンズ
L2 レンズ系
21 ソース・レーザ
22 非線形ファイバ
30 干渉フィルタ
34 反射表面
40 瞳面
101、200、300 光波散乱計
102 ソース
103 コントローラ
201 ビーム・スプリッタ
203 ミラー
204 回折格子
205 検出器
301 偏光子
302 回転補償器
303 レンズ
304 コリメーション・レンズ
305 偏光解析器
307 分光器
308 検出器アレイ
Claims (12)
- 基板上の微細構造のパラメータを測定する計測装置であって、
測定ビームを生成するように構成されたスーパコンティニューム光源と、
前記測定ビームを前記基板上に送るように構成された光学系と、
前記構造によって反射された、かつ/又は、回折された放射を検出するセンサと
を備え、
前記光学系は対物レンズを備え、
前記対物レンズは、試験構造から戻る0次回折放射と少なくとも1つの1次回折放射が、前記瞳面において少なくとも部分的に重なるように構成され、
前記センサは、前記対物レンズの瞳面において、前記構造から戻る放射強度の空間的変動を検出する2次元センサを含み、
前記スーパコンティニューム光源は、第1ビームを生成するように構成されたソース・レーザを備え、
前記ソース・レーザはパルス・レーザを備え、
前記スーパコンティニューム光源の出力パルスを、前記基板を運ぶステージの移動に同期させるように構成されたコントローラとを含む、計測装置。 - 前記スーパコンティニューム光源は、前記第1ビームを受け取り、第2ビームを生成するように構成された非線形媒体を備え、前記第2ビームは、前記第1ビームより広い帯域を有する請求項1に記載の計測装置。
- 前記センサに対して前記基板を移動するように構成されたポジショナをさらに備える請求項2に記載の計測装置。
- 前記非線形媒体は、ドープ・ファイバ、テーパ付きファイバ、フォトニック・バンド・ギャップ・ファイバ、及びシリコン・ベース導波路からなる群から選択される請求項2に記載の計測装置。
- 前記対物レンズの前記瞳面を前記2次元センサ上に再結像するように構成された第2光学系をさらに備える請求項1に記載の計測装置。
- 前記対物レンズは、前記構造の画像が、前記センサ上で焦点が合わないように構成される請求項1に記載の計測装置。
- 基板上に形成された微細構造のパラメータを測定する計測方法であって、
スーパコンティニューム光源からの放射で前記構造を照射すること、及び、
対物レンズ、および、当該対物レンズの瞳面において前記構造から戻る放射強度の空間的変動を検出する2次元センサを介して、前記構造から戻る放射を検出すること、及び、
コントローラによって前記スーパコンティニューム光源の出力パルスを、前記基板を運ぶステージの移動に同期させることを含み、
前記スーパコンティニューム光源は、第1ビームを生成するように構成されたソース・レーザを備え、
前記ソース・レーザはパルス・レーザを備え、
前記対物レンズは、0次と少なくとも1つの1次が、前記瞳面において少なくとも部分的に重なるように、焦点ずれ位置に設定される、計測方法。 - 前記構造は、リソグラフィ・プロセスを使用して基板上に形成された構造である請求項7に記載の計測方法。
- 前記構造は、アライメント・マーク、オーバレイ標的、回折格子、及びデバイス構造からなる群から選択される請求項8に記載の計測方法。
- 前記構造はレジスト層における潜像である請求項9に記載の計測方法。
- 前記パラメータは、少なくとも1次元の前記基板上での前記構造の位置を含む請求項7に記載の計測方法。
- 前記パラメータはオーバレイに関連するパラメータを含む請求項7に記載の計測方法。
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