JP2015037124A5 - - Google Patents

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影レンズ制御装置114は、主制御装置103の制御の下、駆動部112、及びフィールドレンズ駆動装置113(レンズ駆動部)を制御する。
そこでレンズ加熱によって生ずる結像特性の変動を、モデル式を用いて表現し、幾つかの、極力少ない露光条件での最大変動量F1を検査時に取得することで、露光条件毎の結像特性変動を効率的に予測する。ここで、結像特性変動の予測は、主制御装置103により実行される。主制御装置103は、結像特性変動の予測結果に基づき、照明系制御装置108、レチクルステージ制御装置130、影レンズ制御装置114(影レンズ制御部)、ステージ制御装置120を制御する。照明系制御装置108、レチクルステージ制御装置130、影レンズ制御装置114、ステージ制御装置120のうち、少なくとも一つは、予測手段の予測結果を用いた制御を行うことで、結像特性を補正する。
主制御装置103(予測部)は、上記のモデル式により結像特性変動の予測を行行い、主制御装置103は、予測結果に基づき、照明系制御装置108、レチクルステージ制御装置130、影レンズ制御装置114、ステージ制御装置120を制御する。
照明系制御装置108、レチクルステージ制御装置130、影レンズ制御装置114、ステージ制御装置120は、予測部の予測結果により結像特性の変動を補正する補正部として機能する。照明系制御装置108、レチクルステージ制御装置130、影レンズ制御装置114、ステージ制御装置120は、予測結果を用いた制御を行うことで、結像特性を補正することができる。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017538156A (ja) 2014-12-02 2017-12-21 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ方法及び装置
JP6613074B2 (ja) * 2015-08-20 2019-11-27 キヤノン株式会社 決定方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法
WO2017050523A1 (en) 2015-09-24 2017-03-30 Asml Netherlands B.V. Method of reducing effects of reticle heating and/or cooling in a lithographic process
JP6554141B2 (ja) * 2017-05-26 2019-07-31 キヤノン株式会社 決定方法、露光方法、情報処理装置、プログラム及び物品の製造方法
JP6944323B2 (ja) * 2017-09-21 2021-10-06 キヤノン株式会社 計算方法、露光方法、プログラム、露光装置、および物品の製造方法
JP7054365B2 (ja) * 2018-05-25 2022-04-13 キヤノン株式会社 評価方法、露光方法、および物品製造方法
EP3702839B1 (en) * 2019-02-27 2021-11-10 ASML Netherlands B.V. Method of reducing effects of lens heating and/or cooling in a lithographic process
JP2020187334A (ja) * 2019-05-17 2020-11-19 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法
JP7213757B2 (ja) 2019-05-31 2023-01-27 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法
JP7431694B2 (ja) * 2020-07-28 2024-02-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、膜形成装置、物品の製造方法、およびプログラム

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58179834A (ja) 1982-04-14 1983-10-21 Canon Inc 投影露光装置及び方法
JP3720582B2 (ja) * 1998-06-04 2005-11-30 キヤノン株式会社 投影露光装置及び投影露光方法
TW500987B (en) * 2000-06-14 2002-09-01 Asm Lithography Bv Method of operating an optical imaging system, lithographic projection apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP2002184687A (ja) * 2000-10-02 2002-06-28 Canon Inc 露光装置
JP2006019561A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Canon Inc 露光方法
US7403264B2 (en) * 2004-07-08 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus
JP5264116B2 (ja) * 2007-07-26 2013-08-14 キヤノン株式会社 結像特性変動予測方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2013115348A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Canon Inc 投影光学系の結像特性の変動量の算出方法、露光装置およびデバイス製造方法

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