JP2017507358A5 - - Google Patents

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Claims (22)

  1. 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系のサブアセンブリであって、
    素子(10、20、30、40、50、60、70)と、
    前記素子の温度を制御する少なくとも1つの温度制御デバイスと
    を備え、前記少なくとも1つの温度制御デバイスは、少なくとも1つの管状部を有する閉回路内に冷媒を有し、該冷媒は、2相転移を行いながら前記管状部内で前記素子から又は該素子へ輸送可能であり、
    加熱デバイス(15、25)が、前記冷媒を加熱することにより該冷媒の輸送を遮断するために設けられるサブアセンブリ。
  2. 請求項1に記載のサブアセンブリにおいて、前記加熱デバイス(15、25)は電気加熱デバイスであることを特徴とするサブアセンブリ。
  3. 請求項1又は2に記載のサブアセンブリにおいて、前記管状部は弾性変形可能であることを特徴とするサブアセンブリ。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記管状部の長さ対外径の比が、少なくとも5:1、より詳細には少なくとも10:1であることを特徴とするサブアセンブリ。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記管状部の長さ対外径の比が、少なくとも50:1、より詳細には少なくとも80:1であることを特徴とするサブアセンブリ。
  6. 請求項1〜のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、該サブアセンブリは、少なくとも1自由度での前記素子の調整を可能にする少なくとも1つのフレクシャ(26、36、46、56、66、76)を有することを特徴とするサブアセンブリ。
  7. 請求項に記載のサブアセンブリにおいて、前記フレクシャ(26、56、66)は管状部に形成されることを特徴とするサブアセンブリ。
  8. 請求項1〜のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記管状部は変断面を有することを特徴とするサブアセンブリ。
  9. 請求項1〜のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、ポンプデバイスも設けられることを特徴とするサブアセンブリ。
  10. 請求項に記載のサブアセンブリにおいて、前記ポンプデバイスは、前記回路内に存在する前記冷媒を操作するよう構成されることを特徴とするサブアセンブリ。
  11. 請求項に記載のサブアセンブリにおいて、前記ポンプデバイスは、第1回路と熱交換する2次回路に設けられることを特徴とするサブアセンブリ。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法において、前記温度制御デバイスはヒートパイプ(13、33、43、53、63、73)として構成されることを特徴とするサブアセンブリ。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記温度制御デバイスは2相熱サイフォン(23、53)として構成されることを特徴とするサブアセンブリ。
  14. 請求項1〜13のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、該サブアセンブリは、特に行列状配置の複数の温度制御デバイスを有することを特徴とするサブアセンブリ。
  15. 請求項1〜14に記載のサブアセンブリにおいて、前記素子(10、20、30、40、50、60、70)は反射光学素子であることを特徴とするサブアセンブリ。
  16. 請求項1〜14のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記素子はEUV光源のコレクタミラーであることを特徴とするサブアセンブリ。
  17. 請求項1〜14のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記素子はマイクロリソグラフィマスクであることを特徴とするサブアセンブリ。
  18. 請求項1〜14のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記素子(10、20、30、40、50、60、70)は、相互に独立して調整可能な複数のミラー素子を備えたミラー構成体のミラー素子であることを特徴とするサブアセンブリ。
  19. 請求項18に記載のサブアセンブリにおいて、前記ミラー構成体は、ファセットミラー、特に視野ファセットミラー(803)又は瞳ファセットミラー(804)であることを特徴とするサブアセンブリ。
  20. 請求項1〜19のいずれか1項に記載のサブアセンブリにおいて、前記素子(10、20、30、40、50、60、70)は、30nm未満、特に15nm未満の作動波長用に設計されることを特徴とするサブアセンブリ。
  21. 請求項1〜20のいずれか1項に記載のサブアセンブリを備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系、特に照明デバイス又は投影レンズ。
  22. マイクロリソグラフィ投影露光装置(800)であって、請求項21に記載の光学系を備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置。
JP2016553420A 2014-02-21 2015-02-11 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系のサブアセンブリ Pending JP2017507358A (ja)

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