JP2006269941A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 光源から放射された光を導光する光学系を備え、前記光学系を介して基板を露光する露光装置において、
   前記光学系を構成する光学部材の温度を調整する温度調整手段と、
   前記温度調整手段の負荷を検出する検出手段と、
   検出された前記負荷に基づいて、前記光学系を構成する光学部材の光学特性を取得する取得手段とを具備することを特徴とする露光装置。
2. 前記温度調整手段により温度を調整され且つ前記取得手段により前記光学特性を取得される光学部材は、前記光を反射するミラーであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記温度調整手段により温度を調整される光学部材は、前記光学系の光路上に配置されて前記光を吸収する光吸収部材であり、前記取得手段により前記光学特性を取得される光学部材は、前記光を反射するミラーであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
4. 前記光吸収部材は、前記光の形状を整形するためのマスキングブレード、ＮＡ絞り、およびσ絞りの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記光学系は複数の光学部材を有し、
   前記光学部材ごとに前記温度調整手段を設け、
   前記検出手段は、前記光学部材ごとに前記負荷を検出することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記温度調整手段は、前記光学部材と熱交換する媒体を加熱するヒータを含み、前記負荷は、前記ヒータの負荷であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 取得された前記光学特性が閾値を超えて変化しているか判定する判定手段と、前記光学特性が閾値を超えて変化していると判定された場合、その旨を警告する警告手段とを更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 取得された前記光学特性が閾値を超えて変化しているか判定する判定手段と、前記光学特性が閾値を超えて変化していると判定された場合、前記光学部材を洗浄する手段とを更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 取得された前記光学特性が閾値を超えて変化しているか判定する判定手段と、前記光学特性が閾値を超えて変化していると判定された場合、前記光学部材の交換を促すために報知する手段と、前記光学部材を交換する手段とを更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 前記光学系は、マスクを照明する照明光学系、および前記マスクからの光を前記基板に投影する投影光学系とを含むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
11. 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、前記ステップで露光された基板を現像するステップとを含むことを特徴とするデバイス製造方法。