JP2009295800A - Euv光発生装置における集光ミラーのクリーニング方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、クリーニング位置に位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送するようにしている。
【選択図】図4
Description
ターゲットをプラズマ状態にし、発生したEUV光を集光ミラーで集光するようにしたEUV光発生装置に適用され、集光ミラーに付着した汚染物質をクリーニングする方法であって、
集光ミラーが少なくとも2つ用意され、
一方の集光ミラーを、EUV光集光位置に位置させている間に、他の集光ミラーをクリーニング位置に位置させ、
クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことを判定するとともに、EUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることを判定し、
クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、クリーニング位置に位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする。
クリーニング位置に位置されている集光ミラーが寿命に達したことを判定し、
寿命に達したと判定された集光ミラーを新しい集光ミラーと交換し、
集光ミラーの交換を終え、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、交換を終えた集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする。
ターゲットをプラズマ状態にし、発生したEUV光を集光ミラーで集光するようにしたEUV光発生装置に適用され、集光ミラーに付着した汚染物質をクリーニングするEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置であって、
少なくとも2つの集光ミラーと、
集光ミラーをクリーニングするための少なくとも1つのクリーニングチャンバと、
クリーニングチャンバとEUV光集光位置との間で集光ミラーを搬送する搬送手段と、
クリーニングチャンバ内で集光ミラーのクリーニングが終了したことを判定するクリーニング終了判定手段と、
EUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることを判定するクリーニング必要判定手段と、
クリーニングチャンバ内の集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニングチャンバまで搬送するとともに、クリーニングチャンバに位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送するように、搬送手段を制御する制御手段と
が備えられていること
を特徴とする。
クリーニング位置に位置されている集光ミラーが寿命に達したことを判定する寿命判定手段と、
寿命に達したと判定された集光ミラーを新しい集光ミラーと交換し、
制御手段は、
集光ミラーの交換を終え、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、交換を終えた集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする。
クリーニングチャンバは、少なくとも2つの集光ミラーそれぞれに対応して設けられ、
搬送手段は、少なくとも2つの集光ミラーそれぞれに対応して設けられ、
制御手段は、EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、対応する搬送手段を作動させてクリーニングチャンバまで搬送するとともに、クリーニングチャンバに位置され、クリーニングが終了した集光ミラーを、対応する搬送手段を作動させてEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする。
集光ミラーのクリーニングは、集光ミラーに付着した汚染物質と反応する反応性ガスを集光ミラーに供給することにより行われること
を特徴とする。
反応性ガスは、H2、Ar、N2、F2、Cl2、Br2、I2、HF、HCl、HBr、HIのいずれかのガスまたはこれらの混合ガスであること
を特徴とする。
反応性ガスと集光ミラーに付着した汚染物質との反応を促進させる反応促進手段が更に設けられること
を特徴とする。
反応促進手段は、集光ミラーまたは/および反応性ガスを加熱することにより、または/および反応性ガスをプラズマにすることにより、反応性ガスと集光ミラーに付着した汚染物質との反応を促進させるものであること
を特徴とする。
クリーニングチャンバには、EUV光が発生するEUVチャンバと連通させるか、またはEUVチャンバとの連通を遮断させるためのゲートバルブが設けられていること
を特徴とする。
クリーニングチャンバは、差動排気装置によって差動排気されることによって大気に連通していること
を特徴とする。
クリーニングチャンバは、ロードロック室に連通していること
を特徴とする。
搬送手段は、少なくとも2つの集光ミラーが同一回転面上に配置された回転体と、この回転体を回転させるための回転軸を含んで構成されており、
制御手段は、回転軸を回転させて同一回転面上の各集光ミラーをそれぞれクリーニングチャンバ、EUV光集光位置に位置決めすること
を特徴とする。
搬送手段は、2つの集光ミラーがそれぞれ各表面、裏面に配置された回転板と、この回転板を表面、裏面が互いに反転するように回転させる回転軸を含んで構成されており、
制御手段は、回転軸を回転させて回転板の表面上の集光ミラー、裏面上の集光ミラーをそれぞれクリーニングチャンバ、EUV光集光位置に位置決めすること
を特徴とする。
搬送手段は、EUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間で集光ミラーを直線状に往復移動させる直線導入機であること
を特徴とする。
搬送手段は、EUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間で集光ミラーを搬送する搬送ロボットであること
を特徴とする。
搬送手段は、集光ミラーをステージ上に載せてEUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間を往復移動させる移動ステージであること
を特徴とする。
搬送手段は、ワイヤを用いて集光ミラーをEUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間を往復移動させるものであること
を特徴とする。
クリーニング終了判定手段、クリーニング必要判定手段は、水晶発振子マイクロバランス測定法または/および分光エリプソメトリー法を用いて集光ミラーの膜厚を計測することにより、または/および集光ミラーの反射率を計測することにより、または/および汚染物質と反応性ガスの濃度を計測することにより、または/およびクリーニングに要した時間を計測することにより、集光ミラーのクリーニングが終了否かの判定、集光ミラーのクリーニングが必要か否かの判定を行うものであること
を特徴とする。
寿命判定手段は、水晶発振子マイクロバランス測定法または/および分光エリプソメトリー法を用いて集光ミラーの膜厚を計測することにより、または/および集光ミラーの反射率を計測することにより、または/および汚染物質と反応性ガスの濃度を計測することにより、または/およびクリーニングに要した時間を計測することにより、集光ミラーが寿命に達したか否かの判定を行うものであること
を特徴とする。
図2は、第1実施例の装置構成を示している。
つぎに、計測した集光ミラー3−1に付着、堆積した汚染物質の量を、所定のしきい値と対比するなどして、集光ミラー3−1がクリーニングを必要としているか否かが判断される。この判断は、コントローラ50のクリーニング必要判定部52で行われる(ステップ203)。
つぎに、計測した集光ミラー3−2のクリーニング進行状態を、所定のしきい値と対比するなどして、集光ミラー3−2のクリーニングが終了したか否かが判断される。この判断は、コントローラ50のクリーニング終了判定部51で行われる(ステップ303)。
Claims (20)
- ターゲットをプラズマ状態にし、発生したEUV光を集光ミラーで集光するようにしたEUV光発生装置に適用され、集光ミラーに付着した汚染物質をクリーニングする方法であって、
集光ミラーが少なくとも2つ用意され、
一方の集光ミラーを、EUV光集光位置に位置させている間に、他の集光ミラーをクリーニング位置に位置させ、
クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことを判定するとともに、EUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることを判定し、
クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、クリーニング位置に位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とするEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング方法。 - クリーニング位置に位置されている集光ミラーが寿命に達したことを判定し、
寿命に達したと判定された集光ミラーを新しい集光ミラーと交換し、
集光ミラーの交換を終え、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、交換を終えた集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする請求項1記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング方法。 - ターゲットをプラズマ状態にし、発生したEUV光を集光ミラーで集光するようにしたEUV光発生装置に適用され、集光ミラーに付着した汚染物質をクリーニングするEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置であって、
少なくとも2つの集光ミラーと、
集光ミラーをクリーニングするための少なくとも1つのクリーニングチャンバと、
クリーニングチャンバとEUV光集光位置との間で集光ミラーを搬送する搬送手段と、
クリーニングチャンバ内で集光ミラーのクリーニングが終了したことを判定するクリーニング終了判定手段と、
EUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることを判定するクリーニング必要判定手段と、
クリーニングチャンバ内の集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニングチャンバまで搬送するとともに、クリーニングチャンバに位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送するように、搬送手段を制御する制御手段と
が備えられていること
を特徴とするEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニング位置に位置されている集光ミラーが寿命に達したことを判定する寿命判定手段と、
寿命に達したと判定された集光ミラーを新しい集光ミラーと交換し、
制御手段は、
集光ミラーの交換を終え、かつEUV光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、
EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、交換を終えた集光ミラーをEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニングチャンバは、少なくとも2つの集光ミラーそれぞれに対応して設けられ、
搬送手段は、少なくとも2つの集光ミラーそれぞれに対応して設けられ、
制御手段は、EUV光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、対応する搬送手段を作動させてクリーニングチャンバまで搬送するとともに、クリーニングチャンバに位置され、クリーニングが終了した集光ミラーを、対応する搬送手段を作動させてEUV光集光位置まで搬送すること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 集光ミラーのクリーニングは、集光ミラーに付着した汚染物質と反応する反応性ガスを集光ミラーに供給することにより行われること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 反応性ガスは、H2、Ar、N2、F2、Cl2、Br2、I2、HF、HCl、HBr、HIのいずれかのガスまたはこれらの混合ガスであること
を特徴とする請求項6記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 反応性ガスと集光ミラーに付着した汚染物質との反応を促進させる反応促進手段が更に設けられること
を特徴とする請求項6記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 反応促進手段は、集光ミラーまたは/および反応性ガスを加熱することにより、または/および反応性ガスをプラズマにすることにより、反応性ガスと集光ミラーに付着した汚染物質との反応を促進させるものであること
を特徴とする請求項8記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニングチャンバには、EUV光が発生するEUVチャンバと連通させるか、またはEUVチャンバとの連通を遮断させるためのゲートバルブが設けられていること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニングチャンバは、差動排気装置によって差動排気されることによって大気に連通していること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニングチャンバは、ロードロック室に連通していること
を特徴とする請求項4記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 搬送手段は、少なくとも2つの集光ミラーが同一回転面上に配置された回転体と、この回転体を回転させるための回転軸を含んで構成されており、
制御手段は、回転軸を回転させて同一回転面上の各集光ミラーをクリーニングチャンバ、EUV光集光位置に位置決めすること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 搬送手段は、2つの集光ミラーがそれぞれ各表面、裏面に配置された回転板と、この回転板を表面、裏面が互いに反転するように回転させる回転軸を含んで構成されており、
制御手段は、回転軸を回転させて回転板の表面上の集光ミラー、裏面上の集光ミラーをクリーニングチャンバ、EUV光集光位置に位置決めすること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置 - 搬送手段は、EUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間で集光ミラーを直線状に往復移動させる直線導入機であること
を特徴とする請求項5記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 搬送手段は、EUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間で集光ミラーを搬送する搬送ロボットであること
を特徴とする請求項5記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 搬送手段は、集光ミラーをステージ上に載せてEUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間を往復移動させる移動ステージであること
を特徴とする請求項5記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 搬送手段は、ワイヤを用いて集光ミラーをEUV光集光位置とクリーニングチャンバとの間を往復移動させるものであること
を特徴とする請求項5記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - クリーニング終了判定手段は、水晶発振子マイクロバランス測定法または/および分光エリプソメトリー法を用いて集光ミラーの膜厚を計測することにより、または/および集光ミラーの反射率を計測することにより、または/および汚染物質と反応性ガスの濃度を計測することにより、または/およびクリーニングに要した時間を計測することにより、集光ミラーのクリーニングが終了否かの判定、集光ミラーのクリーニングが必要か否かの判定を行うものであること
を特徴とする請求項3記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。 - 寿命判定手段は、水晶発振子マイクロバランス測定法または/および分光エリプソメトリー法を用いて集光ミラーの膜厚を計測することにより、または/および集光ミラーの反射率を計測することにより、または/および汚染物質と反応性ガスの濃度を計測することにより、または/およびクリーニングに要した時間を計測することにより、集光ミラーが寿命に達したか否かの判定を行うものであること
を特徴とする請求項4記載のEUV光発生装置における集光ミラーのクリーニング装置。
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