WO2018229855A1 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents

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WO2018229855A1
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福田　修
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ギガフォトン株式会社
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    • H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component

Definitions

  • This disclosure relates to an extreme ultraviolet light generation apparatus.
  • an LPP laser produced
  • DPP discharge produced plasma
  • An extreme ultraviolet light source device comprises: A. A chamber for generating extreme ultraviolet light by irradiating the target material with laser light to turn the target material into plasma; B. A vessel which is a cylindrical member constituting the chamber; C. A reference member supporting the vessel; D. A collector mirror for collecting extreme ultraviolet light in the chamber, the collector mirror being replaceably attached to a reference member and being housed in the chamber by being covered by a vessel; E. A vessel moving mechanism provided on the reference member for moving the vessel between a first position where the vessel covers the collector mirror and a second position where the vessel retracts from the first position and exposes the collector mirror. Vessel moving mechanism to move the.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP type EUV light generation system.
  • FIG. 2 is a plan view showing a state in which the EUV light generation apparatus is connected to the exposure apparatus.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line IIB-IIB of the EUV light generation apparatus and exposure apparatus shown in FIG.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which the EUV light generation apparatus according to the comparative example is in the connection position connected to the exposure apparatus.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram showing a state where the EUV light generation apparatus according to the comparative example is shifted out of the exposure apparatus.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP type EUV light generation system.
  • FIG. 2 is a plan view showing a state in which the EUV light generation apparatus is connected to the exposure apparatus.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line IIB-IIB of the EUV light generation apparatus and exposure apparatus shown in FIG.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a state where a crane is attached to the chamber reference member of the EUV light generation apparatus according to the comparative example.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a state where the EUV light generation apparatus according to the comparative example is tilted up with a crane.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state where a support base and a stand are installed in the EUV light generation apparatus according to the comparative example.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a state where a crane is attached to the vessel of the EUV light generation apparatus according to the comparative example.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating a state where the vessel is separated from the chamber reference member in the EUV light generation apparatus according to the comparative example.
  • FIG. 11 is an external perspective view of the EUV light generation apparatus according to the first embodiment with the vessel in the first position.
  • FIG. 12 is an external perspective view of the EUV light generation apparatus according to the first embodiment in a state where the vessel is in the second position.
  • FIG. 13 is a side view of the EUV light generation apparatus according to the first embodiment in a state where the vessel is in the first position.
  • FIG. 14 is a side view of the EUV light generation apparatus according to the first embodiment in a state where the vessel is in the second position.
  • FIG. 15 is a plan view of the EUV light generation apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 16 is an external perspective view showing a taper pin as a vessel positioning mechanism.
  • FIG. 17 is a side view showing a fitting state of the taper pin and the fitting hole of FIG.
  • FIG. 18 is a perspective view showing an O-ring and a ring groove.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view of the ring groove.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram showing a state in which the EUV light generation apparatus according to the first embodiment is at a connection position connected to the exposure apparatus.
  • FIG. 21 is an explanatory diagram showing a state where the EUV light generation apparatus according to the first embodiment is shifted out of the exposure apparatus.
  • FIG. 22 is an explanatory diagram of a state where the vessel is moved to the second position in the EUV light generation apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 23 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram showing a state in which the EUV light generation apparatus according to the first embodiment is at a connection position connected to the exposure apparatus.
  • FIG. 21 is an explanatory diagram showing a state where the EUV light generation apparatus according to the first embodiment
  • FIG. 24 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 25 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the third embodiment.
  • FIG. 26 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the third embodiment.
  • FIG. 27 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the fourth embodiment.
  • FIG. 28 is a side view of the EUV light generation apparatus according to the fourth embodiment in a state where the vessel is at an intermediate position.
  • FIG. 29 is a side view of a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the fourth embodiment.
  • FIG. 30 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the fifth embodiment.
  • FIG. 31 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the fifth embodiment.
  • FIG. 32 is a side view of the EUV light generation apparatus according to the sixth embodiment in a state where the vessel is in the first position.
  • FIG. 33 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the sixth embodiment.
  • FIG. 30 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the fifth embodiment.
  • FIG. 31 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the fifth embodiment.
  • FIG. 32 is a side view of
  • FIG. 34 is a plan view showing a vessel moving mechanism including a belt mechanism in the EUV light generation apparatus according to the sixth embodiment.
  • FIG. 35 is a side view showing a state where the vessel is in the first position in the EUV light generation apparatus according to the seventh embodiment.
  • FIG. 36 is a side view showing a state where the vessel is in the second position in the EUV light generation apparatus according to the seventh embodiment.
  • FIG. 37 is a plan view showing a vessel moving mechanism including a belt mechanism in the EUV light generation apparatus according to the seventh embodiment.
  • FIG. 1 schematically shows the overall configuration of an extreme ultraviolet light generation system 11.
  • extreme ultraviolet light is referred to as EUV (Extreme Ultraviolet) light
  • extreme ultraviolet light generation system 11 is referred to as EUV light generation system.
  • the EUV light generation system 11 includes an EUV light generation apparatus 1 and a laser apparatus 3 that are extreme ultraviolet light generation apparatuses.
  • the EUV light generation system 11 is used as a light source of the exposure apparatus 6.
  • the EUV light generated by the EUV light generation system 11 is input to the exposure apparatus 6.
  • the EUV light generation apparatus 1 employs a laser generated plasma (LPP) system that generates EUV light by irradiating a target material with a laser beam and exciting it.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a vessel 13 that constitutes the chamber 2, a target supply device 26, and a laser beam traveling direction control device 34.
  • the vessel 13 is a cylindrical member that constitutes the chamber 2, and the chamber 2 that is the internal space can be sealed.
  • the target supply device 26 is attached to the vessel 13 so as to penetrate the wall of the chamber 2, for example.
  • the target supply device 26 uses, for example, molten tin (Sn) as a target material.
  • the material of the target substance is not limited to tin, and may be terbium, gadolinium, lithium, xenon, or may include a combination of any two or more thereof.
  • the target supply device 26 is arranged to supply a target 27 corresponding to the target material toward the plasma generation region 25 in the chamber 2.
  • the laser beam traveling direction control device 34 includes an optical system for defining the traveling direction of the laser beam 31 output from the laser device 3 and an actuator for adjusting the arrangement, posture, and the like of the optical system. .
  • the laser beam traveling direction control device 34 outputs the laser beam 31 whose traveling direction is controlled to the chamber 2 as the laser beam 32.
  • the vessel 13 is provided with a plurality of through holes leading to the chamber 2 in order to attach various components to the outer peripheral surface of the vessel 13.
  • One of the through holes is provided with a window 21 through which the laser light 32 passes.
  • a laser beam collector mirror 22 and an EUV beam collector mirror 23 are arranged inside the chamber 2.
  • the laser beam collector mirror 22 reflects the laser beam 32 incident on the inside of the chamber 2 through the window 21 toward the EUV beam collector mirror 23.
  • the laser beam 32 reflected by the laser beam collector mirror 22 travels to the EUV beam collector mirror 23 as a laser beam 33.
  • the EUV light collector mirror 23 has, for example, a spheroidal reflecting surface.
  • the EUV light collector mirror 23 has first and second focal points.
  • the EUV light collector mirror 23 is disposed, for example, such that its first focal point is located in the plasma generation region 25 and its second focal point is located in the intermediate focal point (IF) 292.
  • IF intermediate focal point
  • a through hole 24 for allowing the laser beam 33 reflected by the laser beam collector mirror 22 to pass through is provided at the center of the EUV beam collector mirror 23.
  • the EUV light collector mirror 23 corresponds to a collector mirror.
  • the EUV light generation apparatus 1 further includes an EUV light generation control apparatus 5 and a target sensor 4.
  • the target sensor 4 has an imaging function, and measures the presence, trajectory, position, speed, and the like of the target 27.
  • the vessel 13 is further provided with a target recovery unit 28.
  • the target recovery unit 28 recovers the target 27 output from the target supply device 26.
  • the EUV light generation controller 5 is configured to control the entire EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation controller 5 processes the image data of the target 27 imaged by the target sensor 4. Then, the EUV light generation controller 5 controls the timing for outputting the target 27, the output direction of the target 27, and the like. Further, the EUV light generation control device 5 controls the oscillation timing of the laser device 3, the traveling direction of the laser light 32, the condensing position of the laser light 33, and the like.
  • the various controls described above are merely examples, and other controls may be added as necessary.
  • the vessel 13 includes a main body portion 13a and a connection portion 13b that constitute the chamber 2.
  • the connecting portion 13b allows the chamber 2 and the exposure apparatus 6 to communicate with each other.
  • a wall 291 in which an aperture is formed is provided inside the connection portion 13b.
  • the wall 291 is arranged such that its aperture is located at an intermediate focusing point 292 corresponding to the second focal point of the EUV light focusing mirror 23.
  • the operation of the EUV light generation apparatus 1 will be described with reference to FIG.
  • the laser beam 31 output from the laser device 3 passes through the window 21 as the laser beam 32 through the laser beam traveling direction control device 34 and enters the chamber 2.
  • the laser beam 32 travels along the at least one laser beam path into the chamber 2, is reflected by the laser beam collector mirror 22, and is irradiated onto the at least one target 27 as the laser beam 33.
  • the target supply device 26 outputs the target 27 toward the plasma generation region 25 in the chamber 2.
  • the target 27 is irradiated with at least one pulse included in the laser beam 33.
  • the target 27 irradiated with the laser beam 33 is turned into plasma, and radiation light 251 is emitted from the plasma.
  • the EUV light 252 included in the radiation light 251 is selectively reflected by the EUV light collector mirror 23.
  • the EUV light 252 reflected by the EUV light condensing mirror 23 is output to the exposure apparatus 6 through the intermediate condensing point 292.
  • FIG. 2 is a plan view showing a state in which the EUV light generation apparatus 1 is connected to the exposure apparatus 6.
  • 3 is a cross-sectional view taken along the line IIB-IIB of the EUV light generation apparatus 1 and the exposure apparatus 6 shown in FIG.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes an installation mechanism 7 and a chamber reference member 9 in addition to the vessel 13.
  • the outer shape of the main body 13a of the vessel 13 is, for example, a rectangular tube having a square cross section.
  • the axial direction of the vessel 13 is a direction along a virtual axis that connects the plasma generation region 25 and the intermediate focal point 292 in the chamber 2. Therefore, the axial direction of the vessel 13 is the output axial direction of the EUV light 252 in the chamber 2.
  • the chamber 2 which is the internal space of the main body 13a is a space having a circular cross-sectional shape orthogonal to the axial direction of the vessel 13.
  • the connecting portion 13b has a substantially truncated cone shape in outer shape and internal space.
  • the base end side of the connecting portion 13b is connected to the main body portion 13a, and the diameter is narrowed from the base end side toward the tip end side connected to the exposure apparatus 6.
  • the chamber 2 which is the internal space of the vessel 13 and the internal space of the connecting portion 13b communicate with each other.
  • the EUV light generation apparatus 1 and the exposure apparatus 6 are installed on the floor surface 12 shown in FIG.
  • the installation mechanism 7 supports the chamber reference member 9.
  • the chamber reference member 9 supports the vessel 13 constituting the chamber 2.
  • the chamber reference member 9 is a reference member that serves as a reference for the positional relationship of various optical systems provided in the EUV light generation apparatus 1.
  • the X axis direction is the front-rear direction
  • the side facing the exposure apparatus 6 is the front
  • the opposite side is the rear.
  • the Y-axis direction is the width direction of the EUV light generation apparatus 1
  • the Z-axis direction is the height direction.
  • the installation mechanism 7 includes wheels (not shown) and functions as a carriage on which the chamber reference member 9 is mounted.
  • a rail 14 on which the installation mechanism 7 travels is laid on the floor 12, and the rail 14 extends in the X-axis direction.
  • the EUV light generation apparatus 1 moves in the front-rear direction.
  • the chamber reference member 9 and the vessel 13 supported by the chamber reference member 9 can move with respect to the exposure apparatus 6.
  • a stopper 15 that comes into contact with the installation mechanism 7 is provided on the rail 14.
  • the stopper 15 functions as a mechanism for positioning the position of the chamber reference member 9 in the X-axis direction.
  • the chamber reference member 9 on the installation mechanism 7 is positioned with respect to the exposure apparatus 6 by a stopper 15.
  • the chamber reference member 9 is provided with an attachment surface 9e to which the vessel 13 and the EUV light collecting mirror 23 are attached.
  • the attachment surface 9e is inclined with respect to a horizontal direction corresponding to an XY plane parallel to the floor surface 12.
  • the vessel 13 is fixed to the chamber reference member 9 with one end of the main body 13 a attached to the attachment surface 9 e.
  • the opening at one end of the chamber 2 formed in the main body portion 13a is blocked by the attachment surface 9e.
  • the EUV light collecting mirror 23 fixed to the attachment surface 9e is covered with the vessel 13. Thereby, the EUV light collecting mirror 23 is accommodated in the chamber 2.
  • the connection portion 13b of the vessel 13 is connected to the exposure apparatus 6.
  • the vessel 13 is fixed to the chamber reference member 9 in a posture in which the axial direction is orthogonal to the attachment surface 9e. Since the attachment surface 9e is inclined with respect to the horizontal direction, the vessel 13 is also arranged with the axial direction inclined upward toward the exposure apparatus 6 with respect to the horizontal direction.
  • the inclination angle of the attachment surface 9e to which the vessel 13 is fixed is determined so that the angle in the axial direction of the vessel 13 becomes a predetermined angle defined by the specification of the connection portion with the exposure apparatus 6 or the like.
  • the inclination angle of the attachment surface 9e in this example is about 45 ° with respect to the horizontal direction, but the inclination angle may be smaller or larger than 45 °.
  • the target sensor 4, the target supply device 26, the target recovery unit 28, and the like are attached to the vessel 13. These parts are provided so as to partially protrude from the outer peripheral surface of the vessel 13. However, in the drawings of FIG. 2 and the subsequent drawings, only the target sensor 4 is illustrated for the sake of convenience in order to avoid complication of the drawing. Further, the illustration of the target recovery unit 28 is omitted. In addition to these components, a cooling water pipe and the like are also connected to the vessel 13, but these are also not shown.
  • the vessel 13 is detachably attached to the chamber reference member 9. As will be described later, the vessel 13 is separated from the chamber reference member 9 during maintenance such as replacement of parts of the EUV light collector mirror 23 accommodated in the chamber 2. As shown in FIG. 2, convex portions 17 are provided on both side surfaces of the chamber reference member 9 and convex portions 18 are provided on both side surfaces of the vessel 13 in the width direction of the EUV light generation apparatus 1. As will be described later, each of the convex portions 17 and 18 functions as a hook portion for hooking a crane that is used when the vessel 13 is separated from the chamber reference member 9.
  • the EUV light collector mirror 23 is attached to the chamber reference member 9 in a replaceable manner.
  • the EUV light collector mirror 23 is fixed to the chamber reference member 9 via, for example, an EUV light collector mirror holder 23a.
  • the EUV light collector mirror holder 23a increases the positioning accuracy of the EUV light collector mirror 23 relative to the chamber reference member 9, and also suppresses fluctuations in the position, posture, etc. of the EUV light collector mirror 23.
  • the connection position As shown in FIGS. 2 and 3, a position where the vessel 13 and the exposure apparatus 6 are connected is referred to as a connection position.
  • a storage chamber 9a communicating with the inside of the chamber 2 through a through hole and a storage chamber 9b adjacent to the storage chamber 9a are formed.
  • a window 38 is provided between the storage chamber 9a and the storage chamber 9b.
  • the rear of the storage chamber 9b is an opening, and a lid 9c is attached to the opening.
  • the inside of the storage chamber 9b can be sealed with a lid 9c.
  • a laser beam condensing optical system 91 is arranged in the storage chamber 9a.
  • a laser beam introducing optical system including a beam splitter 152 and a high reflection mirror 153 is disposed in the storage chamber 9b.
  • the beam splitter 152 and the high reflection mirror 153 are fixed to the mounting base 154.
  • a laser beam measuring instrument 37 is further fixed to the mounting base 154 in the storage chamber 9b.
  • the laser beam condensing optical system 91 is positioned and fixed to the chamber reference member 9 by a holder. As a result, the positioning accuracy of the laser light focusing optical system 91 relative to the EUV light focusing mirror 23 is improved, and fluctuations in the position, posture, etc. of the laser light focusing optical system 91 are suppressed. Is done. Therefore, the position where the laser light is condensed by the laser light condensing optical system 91 is accurately set with respect to the EUV light condensing mirror 23.
  • the laser beam introducing optical system including the beam splitter 152 and the high reflection mirror 153 is positioned and fixed to the chamber reference member 9 by the mounting base 154.
  • the accuracy of positioning such as the relative position and orientation of the laser beam introduction optical system with respect to the laser beam condensing optical system 91 can be improved, and fluctuations in the position and orientation of the laser beam introduction optical system can be suppressed. Accordingly, the position, angle, etc., at which the laser beam is incident on the laser beam condensing optical system 91 are accurately set.
  • the laser beam measuring instrument 37 is also positioned and fixed to the chamber reference member 9 by the mounting base 154.
  • the accuracy of positioning such as the relative position and posture of the laser beam measuring instrument 37 with respect to the laser beam introduction optical system is enhanced, and fluctuations in the position and posture are suppressed. Therefore, it is possible to accurately measure the cross-sectional intensity profile, pointing, divergence, and the like of the laser beam supplied to the laser beam measuring instrument 37 via the laser beam introducing optical system.
  • an optical path tube 96 is attached to the chamber reference member 9 via a flexible tube 98.
  • the optical path tube 96 is connected to the laser device 3.
  • a high reflection mirror 97 is disposed in the optical path tube 96.
  • the EUV light generation system 11 includes a pair of magnets 16.
  • the pair of magnets 16 are arranged to face each other with the rail 14 interposed therebetween so that the magnetic field direction is a horizontal direction parallel to the Y-axis direction.
  • the vessel 13 enters between the pair of magnets 16.
  • the pair of magnets 16 are superconducting magnets that trap charged particles generated from plasma generated in the chamber 2 of the vessel 13 and prevent deterioration of the EUV light collector mirror 23.
  • the pair of magnets 16 has a large weight in order to generate a strong magnetic field. For this reason, the pair of magnets 16 are fixed to the floor 12.
  • the exposure apparatus 6 includes a reflection optical system including a plurality of high reflection mirrors 6a to 6d.
  • the exposure apparatus 6 is provided with a mask table MT and a workpiece table WT.
  • the exposure apparatus 6 irradiates the mask on the mask table MT with EUV light, and projects an image of the mask onto a workpiece (semiconductor wafer or the like) on the workpiece table WT.
  • the mask pattern is transferred onto the workpiece by simultaneously translating the mask table MT and the workpiece table WT.
  • the laser light output from the laser device 3 is reflected by the high reflection mirror 97 to supply the laser light toward the storage chamber 9 b of the chamber reference member 9. Is done.
  • the laser beam supplied into the storage chamber 9b is incident on the beam splitter 152 that constitutes the laser beam introducing optical system.
  • the beam splitter 152 reflects the incident laser light toward the high reflection mirror 153 with high reflectivity, and transmits a part of the incident laser light toward the laser light measuring instrument 37.
  • the high reflection mirror 153 introduces laser light into the storage chamber 9 a through the window 38 by reflecting the laser light reflected by the beam splitter 152.
  • the laser beam introduced into the storage chamber 9a enters the laser beam condensing optical system 91.
  • the laser beam condensing optical system 91 reflects the laser beam and focuses it on the plasma generation region 25.
  • the target supplied from the target supply device 26 (see FIG. 1) is irradiated with laser light, so that the target is turned into plasma and radiant light including EUV light is generated.
  • the EUV light is condensed by the EUV light condensing mirror 23 and output to the exposure apparatus 6 through the intermediate condensing point 292.
  • FIGS. 4 to 10 are explanatory diagrams of the EUV light focusing mirror 23 replacement procedure.
  • a pair of magnets 16 and an exposure device 6 are arranged around the EUV light generation apparatus 1.
  • the EUV light collector mirror 23 is replaced, first, in order to secure a working space, the EUV light generation apparatus 1 is exposed along the rail 14 as shown in FIG. 5 from the connection position shown in FIG. A shift-out that moves away from the device 6 is performed. Thereby, a work space is secured around the EUV light generation apparatus 1.
  • the chamber reference member 9 is tilted up and the vessel 13 is removed. If the posture shown in FIGS. 4 and 5 is the normal posture of the EUV light generation apparatus 1, in the normal posture, the attachment surface 9e to which the vessel 13 is attached is inclined with respect to the horizontal direction. When removing the vessel 13, first, the attachment surface 9e needs to be horizontal.
  • the target sensor 4 attached to the vessel 13 and protruding from the outer peripheral surface of the vessel 13 is removed.
  • a target supply device 26 and a target recovery unit 28 are provided on the outer peripheral surface of the vessel 13, and these components are also removed as necessary.
  • one end of the chain 42 attached to the crane 41 is hooked on the convex portions 17 on both side surfaces of the chamber reference member 9 as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 7, the crane 41 lifts the front of the chamber reference member 9 upward and tilts the chamber reference member 9 upward. Thereby, the attachment surface 9e becomes horizontal, and the axial direction of the vessel 13 is also perpendicular to the horizontal direction and coincides with the Z-axis direction.
  • a support base 43 is installed to maintain the EUV light generation apparatus 1 in a tilted-up posture. Further, a gantry 44 is installed around the EUV light generation apparatus 1. The gantry 44 is a table on which the vessel 13 removed from the chamber reference member 9 is placed.
  • the chain 42 is changed from the convex portion 17 of the chamber reference member 9 to the convex portion 18 of the vessel 13 as shown in FIG.
  • the vessel 13 is lifted upward by the crane 41 and separated from the mounting surface 9e as shown in FIG.
  • the vessel 13 separated from the attachment surface 9e is placed on the gantry 44.
  • the EUV light collecting mirror 23 covered with the vessel 13 is exposed to the outside. In this state, the EUV light collecting mirror 23 is exchanged. In addition, maintenance work such as replacement of other parts is performed as necessary.
  • the vessel 13 is attached to the attachment surface 9e, and the gantry 44 and the support base 43 are removed. Thereafter, using the crane 41, the posture of the EUV light generation apparatus 1 is returned to the normal posture shown in FIG. In this state, the crane 41 is removed from the chamber reference member 9 and the target sensor 4 and the like are attached to the vessel 13. Position adjustment is performed on the attached target sensor 4. After the position adjustment is completed, the EUV light generation apparatus 1 travels on the rail 14 and is moved to the connection position shown in FIG. Then, the connecting portion 13b of the exposure apparatus 6 and the vessel 13 is connected. Thus, the replacement work of the EUV light collector mirror 23 is completed.
  • the replacement work of the EUV light collecting mirror 23 involves a separation work of separating the vessel 13 from the mounting surface 9e of the chamber reference member 9 using the crane 41.
  • the crane 41 When the crane 41 is used, it takes a very long time to replace the EUV light collector mirror 23, and there is a problem that downtime during which the EUV light generation system 11 cannot be operated becomes long.
  • the EUV light generation apparatus 1 is required to have high accuracy in positioning the optical system of laser light or EUV light. Accordingly, the positioning accuracy of components such as the target sensor 4 is also required to be very high, so that the position adjustment takes a very long time. Specifically, to replace the EUV light collecting mirror 23 using the crane 41, the total work time reaches about 10 hours or more. In addition, the work for handling heavy objects such as the vessel 13 tends to increase the number of personnel necessary for the setup and the safety confirmation of the surroundings, and thus the work is troublesome.
  • FIGS. 1A and 2 the overall configuration of the EUV light generation system 1 using the EUV light generation apparatus 1 and the EUV light generation apparatus 1 described in the comparative example is substantially the same.
  • the main difference between the first embodiment and the comparative example is that the EUV light generation apparatus 1 ⁇ / b> A includes a vessel moving mechanism 45 ⁇ / b> A that moves the vessel 13.
  • the first embodiment will be described focusing on differences from the comparative example. In the following, the same components as those of the comparative example are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • the vessel moving mechanism 45A moves the vessel 13 along the axial direction of the vessel 13. This is a mechanism for separating the vessel 13 from the mounting surface 9e of the chamber reference member 9 by moving the chamber. Specifically, the vessel moving mechanism 45A moves the vessel 13 between a first position shown in FIGS. 11 and 13 and a second position shown in FIGS. The first position is a position where the vessel 13 covers the EUV light collector mirror 23, and the second position is a position where the vessel 13 is retracted from the first position and the EUV light collector mirror 23 is exposed to the outside. . In this example, the vessel 13 is in contact with the attachment surface 9e at the first position, and the vessel 13 is separated from the attachment surface 9e at the second position.
  • the vessel moving mechanism 45A includes an air cylinder 46 corresponding to a link member, and an air cylinder driving device 47 shown in FIGS. As shown in FIG. 15, for example, two air cylinders 46 are arranged on both sides of the vessel 13, and a total of four air cylinders 46 are provided.
  • the air cylinder 46 includes a piston rod 46a that functions as a main shaft, and a cylinder 46b that functions as a slide member that slides relative to the piston rod 46a in the axial direction of the piston rod 46a. It has. As is well known, the air cylinder 46 is extended in axial length by supplying compressed air into the cylinder 46b and contracted by discharging compressed air from the cylinder 46b.
  • One end of the piston rod 46 a is attached to the chamber reference member 9, and one end of the cylinder 46 b is attached to the vessel 13.
  • the air cylinder 46 expands and contracts in the axial direction by relative sliding between the piston rod 46a and the cylinder 46b.
  • the air cylinder 46 moves the vessel 13 relative to the chamber reference member 9 by this expansion and contraction operation.
  • the air cylinder 46 is disposed in a posture in which the axial direction of the air cylinder 46 matches the axial direction of the vessel 13. Therefore, when the air cylinder 46 expands and contracts, the vessel 13 moves up and down between the first position and the second position along the axial direction of the vessel 13. Specifically, when the air cylinder 46 contracts, the vessel 13 moves to the first position shown in FIGS. 11 and 13, and when the air cylinder 46 extends, the vessel 13 moves to the second position shown in FIGS. 12 and 14. Move to position.
  • the air cylinder 46 is driven by an air cylinder driving device 47.
  • the air cylinder driving device 47 is a compressed air supply / discharge device that supplies and discharges compressed air to and from the air cylinder 46.
  • the air cylinder driving device 47 may be provided with a dedicated device for the EUV light generation apparatus 1A, or is provided in advance in a clean room where the EUV light generation apparatus 1A is installed as a shared facility that can be used for other devices.
  • a compressed air supply / discharge device may be used.
  • the EUV light generation apparatus 1 ⁇ / b> A is provided with a positioning mechanism that positions the vessel 13 with respect to the chamber reference member 9.
  • the positioning mechanism of this example includes a taper pin 51 and a fitting hole 52 that fits into the taper pin 51.
  • a total of four taper pins 51 are provided, one at each of the four corners of the end surface 13c facing the mounting surface 9e of the main body 13a of the vessel 13.
  • a circular opening of the chamber 2 is formed in the end face 13c, and the taper pin 51 is disposed around the end.
  • the attachment surface 9e is provided with four fitting holes 52 at positions corresponding to the four taper pins 51.
  • the taper pin 51 has a substantially truncated cone shape in which the diameter on the distal end side is narrow and the diameter is increased toward the proximal end side.
  • the diameter of the proximal end side of the taper pin 51 is substantially the same as the diameter of the fitting hole 52. Therefore, the tip of the taper pin 51 can be easily inserted into the fitting hole 52.
  • the taper pin 51 is advanced into the fitting hole 52 as indicated by a two-dot chain line, the taper pin 51 is guided by the contact between the outer peripheral surface of the taper pin 51 and the fitting hole 52, and the taper pin 51
  • the radial center of 51 and the radial center of the fitting hole 52 coincide. Thereby, the vessel 13 can be accurately positioned with respect to the chamber reference member 9.
  • an O-ring 53 is attached to the attachment surface 9 e of the chamber reference member 9.
  • the diameter of the O-ring 53 is slightly larger than the opening diameter of the chamber 2.
  • the O-ring 53 seals the gap between the attachment surface 9e and the end surface 13c of the main body portion 13a. Thereby, the chamber 2 is sealed in a state where the end surface 13c of the vessel 13 is in the first position in contact with the attachment surface 9e.
  • a circular ring groove 54 for attaching the O-ring 53 is formed on the attachment surface 9e.
  • the cross-sectional shape orthogonal to the circumferential direction is a substantially trapezoidal shape in which the width of the opening 54 a that is the entrance of the ring groove 54 is narrower than the inside 54 b of the ring groove 54. Yes.
  • the width of the opening 54 a is narrower than the diameter of the O-ring 53.
  • Such a ring groove 54 is called a dovetail groove or the like.
  • the vessel 13 moves from the first position shown in FIG. 21 to the second position shown in FIG. Thereby, as shown in FIG. 22, the EUV light collecting mirror 23 covered with the vessel 13 at the first position is exposed to the outside.
  • the used EUV light collector mirror 23 is replaced with a new EUV light collector mirror 23.
  • the air cylinder driving device 47 is operated and the compressed air is discharged from the air cylinder 46.
  • the vessel 13 moves from the second position to the first position, and the EUV light collecting mirror 23 is covered with the vessel 13 and accommodated in the chamber 2.
  • the vessel 13 is positioned at an appropriate position with respect to the chamber reference member 9 by fitting the taper pin 51 and the fitting hole 52.
  • the EUV light generation apparatus 1A according to the first embodiment includes the vessel movement mechanism 45A. 23 can be exchanged. As shown in FIGS. 6 to 9 of the comparative example, when the crane 41 is used, as a preparatory work for separating the vessel 13 from the chamber reference member 9, a tilt-up operation of the chamber reference member 9, a support base 43 and the installation work of the gantry 44 and the removal work from the vessel 13 such as the target sensor 4 are required. Since the EUV light generation apparatus 1A of the first embodiment includes the vessel moving mechanism 45A, such preparation work is not necessary.
  • the crane 41 since it is not necessary to attach the crane 41 to the vessel 13 in the replacement work, it is not necessary to remove parts such as the target sensor 4 from the vessel 13. Therefore, position adjustment when components such as the target sensor 4 are attached to the vessel 13 again is unnecessary. Since such preparation work and part position adjustment are not required, the replacement work of the EUV light collector mirror 23 can be performed in a shorter time than the comparative example. Furthermore, since the crane 41 is not used, it is possible to reduce the number of personnel required for the work, and the labor of the work can be reduced.
  • the EUV light generation apparatus 1 ⁇ / b> A according to the first embodiment can suppress downtime of the EUV light generation system 11 and can reduce the trouble of replacing the EUV light collection mirror 23 as compared with the comparative example. .
  • the vessel moving mechanism 45A when the mounting surface 9e of the EUV light collector mirror 23 is not horizontal but is inclined with respect to the horizontal direction in the normal posture, the vessel moving mechanism 45A. It is effective to provide This is because, when the mounting surface 9e is inclined, as shown in FIGS. 7 and 8 of the comparative example, in order to remove the vessel 13 in a stable posture with the mounting surface 9e horizontal, the chamber reference member 9 tilt-up work and installation work of the support base 43 and the gantry 44 are required. For this reason, the inclined mounting surface 9e requires more preparation work and more time for replacement work than the case where the attachment face 9e is horizontal, and the need for shortening the work time is great.
  • the vessel moving mechanism 45A of this example is a linear moving mechanism that moves the vessel 13 in a straight line to move between the first position and the second position. Therefore, the configuration of the vessel moving mechanism 45A can be relatively simplified.
  • the air cylinder 46 uses compressed air as a source of driving force. Therefore, there is less concern about contamination compared to, for example, a hydraulic cylinder that uses oil instead of compressed air. Therefore, the air cylinder 46 is preferable to the hydraulic cylinder when used in the EUV light generation apparatus 1A installed in a clean room.
  • the vessel moving mechanism 45A a link member constituted by a main shaft and a slide member that slides relatively in the axial direction of the main shaft, such as the air cylinder 46, is used. Compared to the case of using a link member to be combined, the moving mechanism can be realized with a simple configuration.
  • the O-ring 53 that is in close contact with the end surface 13c of the vessel 13 at the first position is attached to a ring groove 54 having a substantially trapezoidal cross section. Therefore, when the end surface 13c of the vessel 13 is separated from the attachment surface 9e, the O-ring 53 is prevented from being detached from the ring groove 54 in a state where the O-ring 53 is adsorbed to the end surface 13c of the vessel 13. If the O-ring 53 is detached from the ring groove 54 when the vessel 13 is separated, the time and labor for remounting the O-ring 53 will increase. By using the ring groove 54 in which the O-ring 53 is unlikely to come off, the time and labor for replacing the EUV light collector mirror 23 can be further reduced.
  • the taper pin 51 having a small distal end diameter and a large proximal end diameter is used as the positioning mechanism, the taper pin 51 can be easily inserted into the fitting hole 52. Even if the initial fitting position is slightly deviated, the positioning is automatically performed in the process of inserting the taper pin 51 into the back of the fitting hole 52. Therefore, the positioning operation is simplified as compared with a case where a straight pin having a constant diameter from the distal end to the proximal end is used. If the positioning operation is simplified, the time and labor for replacing the EUV light collector mirror 23 can be further reduced.
  • the number of air cylinders 46 is four. However, the number of air cylinders 46 can be appropriately changed according to the load applied to the air cylinder 46 according to the weight of the vessel 13 or the like. is there. As for the method of attaching the air cylinder 46, the cylinder 46 b may be attached to the chamber reference member and the piston rod 46 a may be attached to the vessel 13, contrary to the above example.
  • the taper pin 51 of the positioning mechanism is provided on the vessel 13.
  • the taper pin 51 may be provided on the chamber reference member 9 and the fitting hole 52 may be provided on the vessel 13.
  • the ring groove 54 is provided in the chamber reference member 9, but the ring groove 54 may be provided in the end surface 13 c of the vessel 13.
  • the outer shape of the vessel 13 has been described as a rectangular tube having a square cross section, but the outer shape of the vessel 13 may be a polygonal rectangular tube having a hexagonal shape or an octagonal cross section, or a cylindrical shape. But you can.
  • Second Embodiment An EUV light generation apparatus 1B according to a second embodiment shown in FIGS. 23 and 24 will be described.
  • the basic configuration of the second embodiment is the same as that of the first embodiment, and the difference is the configuration of the vessel 131 of the second embodiment and the configuration of the vessel moving mechanism 45B.
  • the differences will be mainly described, and the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • the EUV light generation device 1B of the second embodiment includes a vessel 131. Similar to the vessel 13 of the first embodiment, the vessel 131 is a cylindrical member that constitutes the chamber 2, and includes a rectangular tube-shaped main body portion 131a and a connection portion 131b having a substantially truncated cone shape.
  • the mounting surface 9e of the chamber reference member 9 is provided with a pedestal portion 57 that functions as a pedestal for the vessel 131.
  • the pedestal 57 is arranged around the EUV light collector mirror 23 attached to the attachment surface 9 e and constitutes the chamber 2 together with the vessel 131.
  • the pedestal 57 has an annular shape, the outer diameter is the same as the diameter of the base end portion of the vessel 131, and the inner diameter is the same as the inner diameter of the vessel 131.
  • the pedestal 57 is formed such that the height from the mounting surface 9 e in the axial direction of the vessel 13 is higher than that of the EUV light collector mirror 23.
  • the vessel moving mechanism 45 ⁇ / b> B slides the vessel 131 in a direction intersecting the axial direction of the vessel 131, more specifically, in a direction orthogonal to the axial direction of the vessel 131. Thereby, the vessel moving mechanism 45B moves the vessel 131 between the first position shown in FIG. 23 and the second position shown in FIG.
  • the direction of this sliding movement is a direction parallel to the upper end surface 57 a of the pedestal portion 57.
  • the axial center of the vessel 131 and the radial center of the annular pedestal portion 57 coincide with each other, and the base end side end surface 131c of the vessel 131 and the pedestal portion 57 are aligned. Is in contact with the upper end surface 57a. In this state, the EUV light collecting mirror 23 is covered by the vessel 131.
  • the second position shown in FIG. 24 is a position where the vessel 131 is slid obliquely upward with respect to the first position. In the second position, the vessel 131 is retracted from above the EUV light collector mirror 23 and the EUV light collector mirror 23 is exposed to the outside.
  • the vessel moving mechanism 45B of the second embodiment includes an air cylinder 46 and an air cylinder driving device 47, like the vessel moving mechanism 45A of the first embodiment.
  • the vessel moving mechanism 45B of the second embodiment differs from the first embodiment in the mounting posture of the air cylinder 46, and is arranged so that the axial direction of the air cylinder 46 intersects the axial direction of the vessel 131.
  • a support portion 58 to which one end of the air cylinder 46 is fixed is provided at one end portion of the mounting surface 9e of the chamber reference member 9.
  • the other end of the air cylinder 46 is fixed to the vessel 131.
  • the number of air cylinders 46 is two in total, and one air cylinder 46 is provided on each side surface in the width direction of the EUV light generation apparatus 1B. As described in the first embodiment, the number of air cylinders 46 can be changed as appropriate.
  • the vessel 131 is provided with a taper pin 51 at a portion facing the support portion 58 on the side surface of the main body portion 13a.
  • the support portion 58 is provided with a fitting hole similar to the fitting hole 52 of the first embodiment that fits with the taper pin 51.
  • the taper pin 51 and the fitting hole constitute a positioning mechanism for the vessel 131 as described in the first embodiment.
  • the vessel moving mechanism 45B since the vessel moving mechanism 45B is provided, it is not necessary to use the crane 41 for exchanging the EUV light collecting mirror 23. Therefore, it is possible to replace the EUV light collecting mirror 23 in a shorter time compared to the comparative example using the crane 41, and the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
  • the positioning of the vessel 131 is easy due to the action of the positioning mechanism including the taper pin 51.
  • the vessel moving mechanism 45B of the second embodiment is a direction in which the sliding direction of the vessel 131 intersects the axial direction of the vessel 13. Therefore, in the second position shown in FIG. 24, since the vessel 131 is retracted from above the EUV light collecting mirror 23 and the mounting surface 9e, the mounting surface 9e and the EUV light collecting mirror 23 are easily accessible.
  • Third Embodiment An EUV light generation apparatus 1C according to a third embodiment shown in FIGS. 25 and 26 will be described.
  • the basic configuration of the third embodiment is the same as that of the first embodiment, and the differences are the movement mode of the vessel 13 and the configuration of the vessel moving mechanism 45C. In the following, the differences will be mainly described, and the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • An EUV light generation device 1C of the third embodiment includes a vessel 13 similar to that of the first embodiment.
  • the movement mode of the vessel 13 of the third embodiment is a mode of rotational movement unlike the first embodiment of linear movement.
  • the vessel 13 is rotatably attached to the chamber reference member 9 via a hinge 61 at one end of the attachment surface 9e.
  • the hinge 61 is attached to the rear upper end portion of the chamber reference member 9 on the attachment surface 9e.
  • the vessel 13 rotates between a first position that covers the EUV light collector mirror 23 as shown in FIG. 25 and a second position that exposes the EUV light collector mirror 23 to the outside as shown in FIG. Moving.
  • the vessel 13 rotates counterclockwise from the hinge 61 and jumps up toward the rear of the chamber reference member 9 as if the lid is opened.
  • the end surface 13c of the vessel 13 isolate separates from the attachment surface 9e of the chamber reference member 9, and the EUV light condensing mirror 23 is exposed outside.
  • the vessel moving mechanism 45C includes an air cylinder 46 and an air cylinder driving device 47 as in the first embodiment.
  • One end of the air cylinder 46 is attached to the vessel 13 and the other end is attached to the chamber reference member 9 via an attachment shaft 62.
  • each end of the air cylinder 46 is rotatable with respect to the vessel 13 and the chamber reference member 9 around the respective attachment shafts 62.
  • the vessel 13 When the air cylinder 46 is extended, the vessel 13 is rotationally moved from the first position shown in FIG. 25 to the second position shown in FIG. In this process, the air cylinder 46 rotates relative to each of the vessel 13 and the chamber reference member 9 around the respective attachment shafts 62.
  • the vessel 13 is provided with a taper pin 51 constituting a positioning mechanism, as in the first embodiment. Also in the third embodiment, the same O-ring 53 and ring groove 54 as in the first embodiment may be provided.
  • the vessel moving mechanism 45C since the vessel moving mechanism 45C is provided, it is not necessary to use the crane 41 for exchanging the EUV light collecting mirror 23. Therefore, it is possible to replace the EUV light collecting mirror 23 in a shorter time compared to the comparative example using the crane 41, and the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, the positioning of the vessel 13 is also easy due to the action of the positioning mechanism including the taper pin 51.
  • the vessel moving mechanism 45C of the third embodiment rotates the vessel 13 with the hinge 61 as a base point. Therefore, in the second position shown in FIG. 26, since the vessel 13 is retracted from above the EUV light collector mirror 23 and the attachment surface 9e, the attachment surface 9e and the EUV light collector mirror 23 are easily accessible.
  • the vessel 13 is supported on one side by the chamber reference member 9 via the hinge 61 even at the second position where the end surface 13c is separated from the mounting surface 9e. Therefore, there is no need for the air cylinder 46 to support the entire weight of the vessel 13, and the load applied to the air cylinder 46 can be reduced. If the load applied to the air cylinder 46 is small, the effect that the number of the air cylinders 46 can be reduced or the size can be reduced can be expected.
  • Fourth Embodiment An EUV light generation apparatus 1D according to a fourth embodiment shown in FIGS. 27 to 29 will be described.
  • the basic configuration of the fourth embodiment is the same as that of the first to third embodiments, and the difference is the movement mode of the vessel 13 and the configuration of the vessel moving mechanism 45D.
  • differences will be mainly described, and the same components as those in the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • An EUV light generation apparatus 1D according to the fourth embodiment includes a vessel 13 similar to that of the first embodiment.
  • the movement mode of the vessel 13 of the fourth embodiment is a mode in which linear movement and rotational movement are combined.
  • the vessel 13 is provided to be separable from the chamber reference member 9 as in the first embodiment.
  • the vessel moving mechanism 45 ⁇ / b> D includes a motor 66 in addition to the air cylinder 46 and the air cylinder driving device 47.
  • the air cylinder driving device 47 is a driving device for expanding and contracting the air cylinder 46
  • the motor 66 is a driving device for rotating the air cylinder 46.
  • the air cylinder 46 is attached to the vessel 13 at one end and to the chamber reference member 9 at the other end via an attachment shaft 62. Further, each end of the air cylinder 46 is rotatable with respect to the vessel 13 and the chamber reference member 9 around the respective attachment shafts 62. A total of four air cylinders 46 are provided on each side surface of the EUV light generation apparatus 1D.
  • the vessel 13 of the fourth embodiment has a first position that covers the EUV light collector mirror 23 as shown in FIG. 27 and a second position that exposes the EUV light collector mirror 23 to the outside as shown in FIG. It can move freely between.
  • the vessel 13 of the fourth embodiment passes through the intermediate position shown in FIG. 28 in the process of moving between the first position shown in FIG. 27 and the second position shown in FIG.
  • the air cylinder 46 is arranged in a posture in which the axial direction coincides with the axial direction of the vessel 13 when the vessel 13 is in the first position.
  • the vessel moving mechanism 45D extends the air cylinder 46 from the first position shown in FIG. 27, and linearly moves the vessel 13 along the axial direction of the vessel 13 toward the intermediate position shown in FIG. .
  • the motor 66 is driven to rotate the air cylinder 46 around the mounting shaft 62 provided in the chamber reference member 9. As a result, the vessel 13 rotates and moves toward the rear of the chamber reference member 9.
  • the air cylinder driving device 47 When rotating the air cylinder 46, not only the motor 66 but also the air cylinder driving device 47 is driven to adjust the length of the air cylinder 46 while expanding and contracting the air cylinder 46.
  • two air cylinders 46 are arranged on both sides of the EUV light generation apparatus 1D, and the rotation center of the vessel 13 is set to one end of the air cylinder 46 on the rear side among the air cylinders 46. ing. Therefore, the length of the air cylinder 46 on the front side is adjusted with the rotational movement of the vessel 13.
  • the vessel 13 By driving the air cylinder 46 as described above, the vessel 13 is moved to the second position shown in FIG. 29 where the axial direction is substantially vertical.
  • the vessel 13 is provided with a taper pin 51 constituting a positioning mechanism, as in the first to third embodiments.
  • a taper pin 51 constituting a positioning mechanism, as in the first to third embodiments.
  • an O-ring 53 and a ring groove 54 similar to those in the first embodiment may be provided.
  • the vessel moving mechanism 45D since the vessel moving mechanism 45D is provided, it is not necessary to use the crane 41 for exchanging the EUV light collecting mirror 23. Therefore, it is possible to replace the EUV light collecting mirror 23 in a shorter time compared to the comparative example using the crane 41, and the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, the positioning of the vessel 13 is also easy due to the action of the positioning mechanism including the taper pin 51.
  • the vessel moving mechanism 45D of the fourth embodiment has the vessel 13 from above the EUV light collecting mirror 23 and the mounting surface 9e at the second position shown in FIG. Therefore, the attachment surface 9e and the EUV light collector mirror 23 are easily accessible. Furthermore, the vessel moving mechanism 45D of the fourth embodiment moves the vessel 13 between the first position and the second position by combining linear movement and rotational movement. Therefore, the vessel 13 can be moved in a relatively free trajectory, and a position suitable for the replacement work of the EUV light collector mirror 23, such as a position where a sufficient access space to the EUV light collector mirror 23 can be secured. It is easy to move the vessel 13. As a result, the effect of shortening the replacement work can be expected.
  • FIGS. 30 to 31 Fifth Embodiment An EUV light generation apparatus 1E according to a fifth embodiment shown in FIGS. 30 to 31 will be described.
  • the basic configuration of the fifth embodiment is the same as that of the first embodiment.
  • the movement mode in which the vessel 13 linearly moves along the axial direction of the vessel 13 and the configuration of the air cylinder 46 are the same as those in the first embodiment.
  • the difference is the configuration of the positioning mechanism of the vessel moving mechanism 45E.
  • the differences will be mainly described, and the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • the vessel moving mechanism 45E includes a ball spline 71 instead of the taper pin 51 as a positioning mechanism.
  • the ball spline 71 includes a spline shaft 71a having a key groove in the axial direction and a slider 71b that slides relative to the spline shaft 71a along the key groove. The slider 71b and the keyway are engaged via a ball that rolls in the keyway.
  • one end of the spline shaft 71 a is attached to the chamber reference member 9, and the slider 71 b is attached to the vessel 13.
  • Such a ball spline 71 makes it possible to accurately position the vessel 13 and the chamber reference member 9.
  • FIGS. 32 to 34 Sixth Embodiment An EUV light generation apparatus 1F according to a sixth embodiment shown in FIGS. 32 to 34 will be described.
  • the basic configuration of the sixth embodiment is the same as that of the first embodiment.
  • the sixth embodiment is the same as the first embodiment with respect to the movement mode in which the vessel 13 moves linearly along the axial direction of the vessel 13.
  • the difference is the configuration of the vessel moving mechanism 45F.
  • the differences will be mainly described, and the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • the vessel moving mechanism 45F includes a ball screw 76 instead of the air cylinder 46 as a link member.
  • the ball screw 76 includes a screw shaft 761 and a nut 762.
  • the screw shaft 761 has a thread groove that engages with a nut 762 on the outer periphery of the shaft, and corresponds to a main shaft.
  • the nut 762 corresponds to a slide member that engages with the screw shaft 761 and relatively slides in the axial direction of the screw shaft 761 while relatively rotating around the axis of the screw shaft 761.
  • the ball screw 76 slides in the axial direction when one of the screw shaft 761 and the nut 762 rotates around the axis.
  • the screw shaft 761 and the nut 762 are engaged via a ball that rolls in the thread groove.
  • the ball screw 76 in the ball screw 76, one end of a screw shaft 761 is attached to the chamber reference member 9, and a nut 762 is attached to the vessel 13.
  • the screw shaft 761 is attached to the chamber reference member 9 so as to be rotatable about the axis.
  • the ball screw 76 is arranged along the axial direction of the vessel 13 in the axial direction. In this example, like the air cylinder 46 of the first embodiment, the ball screw 76 is arranged along the axial direction of the vessel 13. . Since the nut 762 is fixed to the vessel 13, when the screw shaft 761 rotates, the vessel 13 moves linearly in the axial direction of the screw shaft 761 together with the nut 762.
  • FIG. 34 is a plan view of the mounting surface 9e and the vessel moving mechanism 45F viewed from above in the direction orthogonal to the mounting surface 9e.
  • the vessel moving mechanism 45F includes a motor 77 and a belt mechanism 78 as a driving device for driving the ball screw 76.
  • the belt mechanism 78 includes a drive belt 79 and a gear 81.
  • the gear 81 is attached to each ball screw 76.
  • reference numeral 76 is given subdivision symbols A to D, which are indicated as ball screws 76A to 76D.
  • the drive belt 79 is shown as drive belts 79A to 79D in FIG. 34 in order to distinguish the drive belts 79 from each other.
  • the ball screw 76A directly connected by the motor 77 and the drive belt 79A is provided with three gears 81.
  • a drive belt 79A is hung on one gear 81.
  • the drive belt 79B is hung on the other gear 81.
  • Drive belt 79B is connected to gear 81 of ball screw 76B.
  • a drive belt 79C is hung on the third gear 81 of the ball screw 76A and is connected to the gear 81 of the ball screw 76C.
  • the ball screw 76C is provided with another gear 81, and the ball screw 76C is connected to the ball screw 76D and the driving belt 79D via the respective gears 81.
  • Such a belt mechanism 78 enables the four ball screws 76B to be simultaneously rotated in the same direction by one motor 77. Therefore, it is possible to move the vessel 13 by driving the four ball screws 76 ⁇ / b> B with one motor 77.
  • a taper pin 51 is provided as a positioning mechanism.
  • the basic operational effect by providing the vessel moving mechanism 45F is the same as that of the first embodiment. Since the vessel moving mechanism 45F uses a ball screw 76 instead of the air cylinder 46, the vessel moving mechanism 45F is effective when the air cylinder 46 cannot be used due to the shape of the vessel 13 or the chamber reference member 9. Further, since the vessel moving mechanism 45F uses the motor 77 as a drive device, for example, even when a compressed air supply / discharge device that functions as an air cylinder drive device cannot be used, the vessel 13 can be moved.
  • FIGS. 35 to 37 Seventh Embodiment An EUV light generation apparatus 1G according to a seventh embodiment shown in FIGS. 35 to 37 will be described.
  • the basic configuration of the seventh embodiment is the same as that of the sixth embodiment, and the difference is that a ball spline 71 is used instead of the taper pin 51 as a positioning mechanism for the vessel moving mechanism 45G. .
  • Other configurations are the same as those of the sixth embodiment.
  • each ball spline 71 has a spline shaft 71 a attached to the chamber reference member 9 and a slider 71 b attached to the vessel 13.
  • the basic function and effect are the same as in the sixth embodiment.

Abstract

極端紫外光生成装置は、以下を備える：Ａ．ターゲット物質にレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ；Ｂ．チャンバを構成する筒状部材であるベッセル；Ｃ．ベッセルを支持する基準部材；Ｄ．チャンバ内において極端紫外光を集光するコレクタミラーであって、基準部材に交換可能に取り付けられ、かつ、ベッセルによって覆われることによりチャンバ内に配置されるコレクタミラー；Ｅ．基準部材に設けられ、ベッセルを移動させるベッセル移動機構であって、ベッセルがコレクタミラーを覆う第１位置と、ベッセルが第１位置から退避してコレクタミラーを露出する第２位置との間でベッセルを移動させるベッセル移動機構。

Description

極端紫外光生成装置
　本開示は、極端紫外光生成装置に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：extreme ultraviolet）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（laser produced plasma）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（discharge produced plasma）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（synchrotron radiation）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特開２００４－１２８１０５号公報 特開２００４－０６３９３４号公報 特許４９４３１２１号 特開２００８－１０８５９９号公報
概要
　本開示の１つの観点に係る極端紫外光源装置は、以下を備える：
　Ａ．ターゲット物質にレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ；
　Ｂ．チャンバを構成する筒状部材であるベッセル；
　Ｃ．ベッセルを支持する基準部材；
　Ｄ．チャンバ内において極端紫外光を集光するコレクタミラーであって、基準部材に交換可能に取り付けられ、かつ、ベッセルによって覆われることによりチャンバ内に収容されるコレクタミラー；
　Ｅ．基準部材に設けられ、ベッセルを移動させるベッセル移動機構であって、ベッセルがコレクタミラーを覆う第１位置と、ベッセルが第１位置から退避してコレクタミラーを露出する第２位置との間でベッセルを移動させるベッセル移動機構。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。 図２は、ＥＵＶ光生成装置が露光装置に接続された状態を示す平面図である。 図３は、図２に示すＥＵＶ光生成装置及び露光装置のＩＩＢ－ＩＩＢ線における断面図である。 図４は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置が露光装置に接続された接続位置にある状態を示す説明図である。 図５は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置を露光装置からシフトアウトした状態を示す説明図である。 図６は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置のチャンバ基準部材にクレーンを取り付けた状態を示す説明図である。 図７は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置をクレーンでチルトアップした状態を示す説明図である。 図８は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置に支持台や架台を設置した状態を示す説明図である。 図９は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置のベッセルにクレーンを取り付けた状態を示す説明図である。 図１０は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置において、チャンバ基準部材からベッセルを分離した状態を示す説明図である。 図１１は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の外観斜視図である。 図１２は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の外観斜視図である。 図１３は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図１４は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図１５は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置の平面図である。 図１６は、ベッセルの位置決め機構であるテーパピンを示す外観斜視図である。 図１７は、図１６のテーパピンと嵌合穴の嵌合状態を示す側面図である。 図１８は、Ｏリングとリング溝を示す斜視図である。 図１９は、リング溝の断面図である。 図２０は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置が露光装置に接続された接続位置にある状態を示す説明図である。 図２１は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置を露光装置からシフトアウトした状態を示す説明図である。 図２２は、第１実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルを第２位置に移動した状態の説明図である。 図２３は、第２実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図２４は、第２実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図２５は、第３実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図２６は、第３実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図２７は、第４実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図２８は、第４実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが中間位置にある状態の側面図である。 図２９は、第４実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図３０は、第５実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図３１は、第５実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図３２は、第６実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図３３は、第６実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図３４は、第６実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベルト機構を含むベッセル移動機構を示す平面図である。 図３５は、第７実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第１位置にある状態の側面図である。 図３６は、第７実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベッセルが第２位置にある状態の側面図である。 図３７は、第７実施形態に係るＥＵＶ光生成装置において、ベルト機構を含むベッセル移動機構を示す平面図である。
実施形態
　＜内容＞
　１．比較例
　　１．１　極端紫外光生成システムの全体説明
　　　１．１．１　構成
　　　１．１．２　動作
　　１．２　ＥＵＶ光生成装置の詳細な説明
　　　１．２．１　構成
　　　１．２．２　動作
　　１．３　ＥＵＶ光集光ミラーの交換手順の説明
　　１．４　課題
　２．第１実施形態
　　２．１　第１実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　　　２．１．１　ベッセル移動機構の構成
　　　２．１．２　位置決め機構の構成
　　　２．１．３　Ｏリングのリング溝
　　２．２　ＥＵＶ光集光ミラーの交換手順の説明
　　２．３　作用効果
　　　２．３．１　ベッセル移動機構の作用効果
　　　２．３．２　エアシリンダの作用効果
　　　２．３．３　リング溝の作用効果
　　　２．３．４　位置決め機構の作用効果
　　２．４　その他
　３．第２実施形態
　　３．１　第２実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　　３．２　作用効果
　４．第３実施形態
　　４．１　第３実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　　４．２　作用効果
　５．第４実施形態
　　５．１　第４実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　　５．２　作用効果
　６．第５実施形態
　７．第６実施形態
　８．第７実施形態
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
　１．比較例
　　１．１　極端紫外光生成システムの全体説明
　　　１．１．１　構成
　図１において、極端紫外光生成システム１１の全体構成を概略的に示す。以下において、極端紫外光をＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光といい、極端紫外光生成システム１１をＥＵＶ光生成システムという。ＥＵＶ光生成システム１１は、極端紫外光生成装置であるＥＵＶ光生成装置１とレーザ装置３とを含む。ＥＵＶ光生成システム１１は、露光装置６の光源として使用される。ＥＵＶ光生成システム１１が生成するＥＵＶ光は、露光装置６に入力される。
　ＥＵＶ光生成装置１は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりＥＵＶ光を生成するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）方式を採用している。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２を構成するベッセル１３、ターゲット供給装置２６及びレーザ光進行方向制御装置３４を含んでいる。
　ベッセル１３は、チャンバ２を構成する筒状部材であり、内部空間であるチャンバ２は密閉可能である。ターゲット供給装置２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するようにベッセル１３に取り付けられている。ターゲット供給装置２６は、ターゲット物質として、例えば、溶融された錫（Ｓｎ）を用いる。ターゲット物質の材料は、錫に限られず、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンであってもよく、さらには、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。ターゲット供給装置２６は、ターゲット物質に相当するターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向けて供給するように配置されている。
　レーザ光進行方向制御装置３４は、レーザ装置３から出力されるレーザ光３１の進行方向を規定するための光学系と、この光学系の配置、姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えている。レーザ光進行方向制御装置３４は、進行方向を制御したレーザ光３１を、チャンバ２に対してレーザ光３２として出力する。
　ベッセル１３には、ベッセル１３の外周面に各種の部品を取り付けるために、チャンバ２に通じる複数の貫通孔が設けられている。その貫通孔の１つには、ウインドウ２１が設けられており、ウインドウ２１をレーザ光３２が透過する。チャンバ２の内部には、レーザ光集光ミラー２２及びＥＵＶ光集光ミラー２３が配置されている。レーザ光集光ミラー２２は、ウインドウ２１を介してチャンバ２の内部に入射したレーザ光３２をＥＵＶ光集光ミラー２３に向けて反射する。レーザ光集光ミラー２２で反射したレーザ光３２は、レーザ光３３としてＥＵＶ光集光ミラー２３に向かう。
　ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、回転楕円面形状の反射面を有する。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有する。ＥＵＶ光集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されている。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点が、プラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が、中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置される。また、ＥＵＶ光集光ミラー２３の中央部には、レーザ光集光ミラー２２で反射されたレーザ光３３を通過させるための貫通孔２４が設けられている。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、コレクタミラーに相当する。
　ＥＵＶ光生成装置１は、さらに、ＥＵＶ光生成制御装置５及びターゲットセンサ４を含んでいる。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有しており、ターゲット２７の存在、軌道、位置、速度等を計測する。ベッセル１３には、さらに、ターゲット回収部２８が設けられている。ターゲット回収部２８は、ターゲット供給装置２６から出力されたターゲット２７を回収する。
　ＥＵＶ光生成制御装置５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するように構成される。ＥＵＶ光生成制御装置５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理する。そして、ＥＵＶ光生成制御装置５は、ターゲット２７を出力するタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御する。さらに、ＥＵＶ光生成制御装置５は、レーザ装置３の発振タイミング、レーザ光３２の進行方向、レーザ光３３の集光位置等を制御する。ＥＵＶ光生成制御装置５において、上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
　ベッセル１３は、チャンバ２を構成する本体部１３ａと、接続部１３ｂとを備えている。接続部１３ｂは、チャンバ２と露光装置６の内部とを連通させる。接続部１３ｂ内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられている。壁２９１は、そのアパーチャが、ＥＵＶ光集光ミラー２３の第２の焦点に相当する中間集光点２９２に位置するように配置される。
　　１．１．２　動作
　図１を参照してＥＵＶ光生成装置１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御装置３４を経て、レーザ光３２としてウインドウ２１を透過して、チャンバ２内に入射する。レーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、レーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射される。
　ターゲット供給装置２６は、ターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向けて出力する。ターゲット２７には、レーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射される。レーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射される。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって選択的に反射される。ＥＵＶ光集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２を通って露光装置６に出力される。
　　１．２　ＥＵＶ光生成装置の詳細な説明
　　　１．２．１　構成
　図２は、ＥＵＶ光生成装置１が露光装置６に接続された状態を示す平面図である。図３は、図２に示すＥＵＶ光生成装置１及び露光装置６のＩＩＢ－ＩＩＢ線における断面図である。
　図２及び図３に示すように、ＥＵＶ光生成装置１は、ベッセル１３に加えて、設置機構７と、チャンバ基準部材９とを含んでいる。ベッセル１３の本体部１３ａの外形は、例えば断面形状が四角形の角筒状をしている。図１及び図３に示すように、ベッセル１３の軸方向は、チャンバ２におけるプラズマ生成領域２５と中間集光点２９２とを結ぶ仮想軸に沿う方向である。したがって、ベッセル１３の軸方向は、チャンバ２におけるＥＵＶ光２５２の出力軸方向である。本体部１３ａの内部空間であるチャンバ２は、ベッセル１３の軸方向と直交する断面形状が円形の空間である。接続部１３ｂは、外形及び内部空間が略円錐台形状をしている。
　接続部１３ｂは、基端側が本体部１３ａと接続されており、基端側から、露光装置６に接続される先端側に向けて径が細くなっている。図１にも示したとおり、ベッセル１３の内部空間であるチャンバ２と接続部１３ｂの内部空間は連通している。
　図３に示す床面１２に、ＥＵＶ光生成装置１及び露光装置６等が設置される。設置機構７はチャンバ基準部材９を支持する。チャンバ基準部材９は、チャンバ２を構成するベッセル１３を支持する。チャンバ基準部材９は、後述するように、ＥＵＶ光生成装置１に設けられる種々の光学系の位置関係の基準となる基準部材である。ここで、ＥＵＶ光生成装置１において、Ｘ軸方向を前後方向として、露光装置６と対面する側を前方、反対側を後方とする。そして、Ｙ軸方向をＥＵＶ光生成装置１の幅方向とし、Ｚ軸方向を高さ方向とする。
　設置機構７は、図示しない車輪を備えており、チャンバ基準部材９が搭載される台車として機能する。床面１２には設置機構７が走行するレール１４が敷設されており、レール１４は、Ｘ軸方向に延びている。設置機構７がレール１４を走行することにより、ＥＵＶ光生成装置１が前後方向に移動する。これにより、チャンバ基準部材９とチャンバ基準部材９に支持されるベッセル１３とが、露光装置６に対して移動可能となる。レール１４上には、設置機構７と当接するストッパ１５が設けられている。ストッパ１５は、Ｘ軸方向におけるチャンバ基準部材９の位置を位置決めする機構として機能する。設置機構７上のチャンバ基準部材９は、ストッパ１５によって、露光装置６に対して位置決めされる。
　チャンバ基準部材９には、ベッセル１３及びＥＵＶ光集光ミラー２３が取り付けられる取り付け面９ｅが設けられている。取り付け面９ｅは、床面１２と平行なＸ－Ｙ平面に相当する水平方向に対して傾斜している。ベッセル１３は、本体部１３ａの一端が取り付け面９ｅに取り付けられてチャンバ基準部材９に固定される。ベッセル１３が取り付け面９ｅに取り付けられると、本体部１３ａに形成されるチャンバ２の一端の開口は、取り付け面９ｅによって塞がれる。ベッセル１３が取り付け面９ｅに取り付けられた状態では、取り付け面９ｅに固定されるＥＵＶ光集光ミラー２３がベッセル１３によって覆われる。これにより、ＥＵＶ光集光ミラー２３はチャンバ２内に収容される。
　ベッセル１３は、接続部１３ｂが露光装置６と接続する。ベッセル１３は軸方向が、取り付け面９ｅに対して直交する姿勢でチャンバ基準部材９に固定される。取り付け面９ｅは水平方向に対して傾斜しているため、ベッセル１３も、軸方向が水平方向に対して、露光装置６に向けて上方に傾斜した状態で配置される。ベッセル１３の軸方向の角度が露光装置６との接続部分の仕様などによって規定される所定の角度になるように、ベッセル１３が固定される取り付け面９ｅの傾斜角が決められる。本例における取り付け面９ｅの傾斜角は、水平方向を基準に約４５°であるが、傾斜角は４５°よりも小さくても大きくてもよい。
　図１に示したように、ベッセル１３には、ターゲットセンサ４、ターゲット供給装置２６及びターゲット回収部２８などが取り付けられている。これらの部品は、ベッセル１３の外周面から一部突出して設けられるが、図２以下の図面においては、図面の煩雑化を避けるため、便宜上、ターゲットセンサ４のみを図示して、ターゲット供給装置２６及びターゲット回収部２８については図示を省略している。また、ベッセル１３には、これらの部品の他、冷却水の配管なども接続されるが、これらについても図示を省略している。
　ベッセル１３は、チャンバ基準部材９に対して分離可能に取り付けられる。後述するように、チャンバ２内に収容されるＥＵＶ光集光ミラー２３の部品交換など、メンテナンスの際に、ベッセル１３がチャンバ基準部材９から分離される。図２に示すように、ＥＵＶ光生成装置１の幅方向において、チャンバ基準部材９の両側面には凸部１７が、ベッセル１３の両側面には凸部１８が、それぞれ設けられている。後述するように、各凸部１７、１８は、ベッセル１３をチャンバ基準部材９から分離する際に使用するクレーンを引っ掛けるための引っ掛け部として機能する。
　また、図３に示すように、ＥＵＶ光集光ミラー２３は、チャンバ基準部材９に交換可能に取り付けられる。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、ＥＵＶ光集光ミラーホルダ２３ａを介してチャンバ基準部材９に固定される。ＥＵＶ光集光ミラーホルダ２３ａによって、チャンバ基準部材９に対するＥＵＶ光集光ミラー２３の位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、ＥＵＶ光集光ミラー２３の位置、姿勢等の変動も抑制される。ベッセル１３が露光装置６に接続される際には、設置機構７がストッパ１５に押し付けられる。これにより、露光装置６に対するチャンバ基準部材９の位置が正確に調整されて、露光装置６に対するＥＵＶ光集光ミラー２３の位置も正確に調整される。以下において、図２及び図３に示すように、ベッセル１３と露光装置６が接続される位置を接続位置と呼ぶ。
　チャンバ基準部材９内には、例えば、貫通孔を介してチャンバ２内部に連通する収納室９ａと、収納室９ａに隣接する収納室９ｂとが形成されている。収納室９ａと収納室９ｂとの間には、ウインドウ３８が設けられている。これにより、チャンバ２内の圧力が低圧に維持されると共に、チャンバ２内のガスが密閉される。収納室９ｂの後方は、開口部となっており、開口部には蓋９ｃが取り付けられる。収納室９ｂ内は蓋９ｃによって密閉可能である。
　収納室９ａ内には、レーザ光集光光学系９１が配置されている。収納室９ｂ内には、ビームスプリッタ１５２と高反射ミラー１５３とを含むレーザ光導入光学系が配置される。ビームスプリッタ１５２と高反射ミラー１５３は、取り付け台１５４に固定される。また、図２に示すように、収納室９ｂ内には、さらにレーザ光計測器３７が取り付け台１５４に固定されて配置されている。
　レーザ光集光光学系９１は、ホルダによってチャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、ＥＵＶ光集光ミラー２３に対するレーザ光集光光学系９１の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、レーザ光集光光学系９１の位置、姿勢等の変動が抑制される。従って、レーザ光集光光学系９１によってレーザ光が集光される位置が、ＥＵＶ光集光ミラー２３に対して正確に設定される。
　ビームスプリッタ１５２と高反射ミラー１５３とを含むレーザ光導入光学系は、取り付け台１５４によってチャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、レーザ光集光光学系９１に対するレーザ光導入光学系の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、レーザ光導入光学系の位置、姿勢等の変動が抑制され得る。従って、レーザ光がレーザ光集光光学系９１に入射する位置、角度等が正確に設定される。
　加えて、レーザ光計測器３７も、取り付け台１５４によってチャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、レーザ光導入光学系に対するレーザ光計測器３７の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、位置、姿勢等の変動が抑制される。従って、レーザ光導入光学系を介してレーザ光計測器３７へ供給されるレーザ光の断面強度プロファイル、ポインティング、ダイバージェンス等をその計測器により正確に計測することが可能となる。
　図２において、チャンバ基準部材９には、フレキシブル管９８を介して光路管９６が取り付けられている。光路管９６は、レーザ装置３に接続されている。光路管９６内には、高反射ミラー９７が配置されている。
　また、図２及び図４に示すように、ＥＵＶ光生成システム１１は、一対のマグネット１６を備えている。一対のマグネット１６は、磁場方向がＹ軸方向と平行な水平方向になるように、レール１４を挟んで対向して配置されている。ベッセル１３が露光装置６に接続される接続位置では、ベッセル１３が一対のマグネット１６の間に進入する。一対のマグネット１６は、ベッセル１３のチャンバ２内で発生したプラズマから発生する荷電粒子をトラップし、ＥＵＶ光集光ミラー２３の劣化を防ぐ超伝導磁石である。一対のマグネット１６は、強力な磁場を発生するために大きな重量を有している。このため、一対のマグネット１６は、床面１２に固定されている。
　図３に示すように、露光装置６は、複数の高反射ミラー６ａ～６ｄを含む反射光学系を備えている。露光装置６には、マスクテーブルＭＴと、ワークピーステーブルＷＴとが設置されている。露光装置６は、例えば、マスクテーブルＭＴ上のマスクにＥＵＶ光を照射し、マスクの像をワークピーステーブルＷＴ上のワークピース（半導体ウエハ等）に投影する。ここで、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同時に平行移動させることにより、マスクのパターンがワークピース上に転写される。
　　　１．２．２　動作
　図２に示すように、レーザ装置３から出力されるレーザ光が、高反射ミラー９７によって反射されることにより、レーザ光がチャンバ基準部材９の収納室９ｂに向けて供給される。
　収納室９ｂ内に供給されたレーザ光は、レーザ光導入光学系を構成するビームスプリッタ１５２に入射する。ビームスプリッタ１５２は、入射したレーザ光を高い反射率で高反射ミラー１５３に向けて反射すると共に、入射したレーザ光の一部をレーザ光計測器３７に向けて透過させる。高反射ミラー１５３は、ビームスプリッタ１５２によって反射されたレーザ光を反射することにより、ウインドウ３８を介して収納室９ａ内にレーザ光を導入する。
　収納室９ａ内に導入されたレーザ光は、レーザ光集光光学系９１に入射する。レーザ光集光光学系９１は、レーザ光を反射してプラズマ生成領域２５に集光する。プラズマ生成領域２５において、ターゲット供給装置２６（図１参照）から供給されるターゲットにレーザ光が照射されることにより、そのターゲットがプラズマ化し、ＥＵＶ光を含む放射光が生成される。ＥＵＶ光は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって集光されて、中間集光点２９２を通って露光装置６に出力される。
　　１．３　ＥＵＶ光集光ミラーの交換手順の説明
　図４～図１０は、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換手順の説明図である。図４に示す接続位置において、ＥＵＶ光生成装置１の周囲には、一対のマグネット１６や露光装置６が配置されている。ＥＵＶ光集光ミラー２３を交換する際には、まず、作業スペースを確保するため、ＥＵＶ光生成装置１を、図４に示す接続位置から、図５に示すように、レール１４に沿って露光装置６から離れる方向に移動するシフトアウトが行われる。これにより、ＥＵＶ光生成装置１の周囲に作業スペースが確保される。
　次に、クレーン４１を用いて、チャンバ基準部材９のチルトアップとベッセル１３の取り外しが行われる。図４及び図５に示す姿勢をＥＵＶ光生成装置１の正姿勢とすると、正姿勢においては、ベッセル１３が取り付けられる取り付け面９ｅは水平方向に対して傾斜している。ベッセル１３を取り外す際には、まず、取り付け面９ｅを水平にする必要がある。
　というのも、ベッセル１３が取り付け面９ｅに取り付けられている状態では、ベッセル１３の軸方向が水平方向に対して傾斜している。このようにベッセル１３が傾斜した姿勢のまま、ベッセル１３をクレーン４１で吊り上げると、バランスが非常に悪く、クレーン４１に吊されたベッセル１３の姿勢が安定しないためである。取り付け面９ｅを水平にすると、取り付け面９ｅに対して直交するベッセル１３の軸方向は垂直になる。これにより、ベッセル１３を安定した姿勢で吊り上げることが可能になる。
　なお、クレーン４１を用いる際には、ベッセル１３に取り付けられて、ベッセル１３の外周面から突出しているターゲットセンサ４が取り外される。上述のとおり、図示は省略しているが、ベッセル１３の外周面にはターゲット供給装置２６やターゲット回収部２８が設けられており、必要に応じてこれらの部品も取り外される。
　ターゲットセンサ４などの部品がベッセル１３から取り外された後、図６に示すように、クレーン４１に取り付けられたチェーン４２の一端が、チャンバ基準部材９の両側面の凸部１７に引っ掛けられる。そして、図７に示すように、クレーン４１によって、チャンバ基準部材９の前方を上方に引き上げて、チャンバ基準部材９を上方に傾けるチルトアップが行われる。これにより、取り付け面９ｅが水平になり、ベッセル１３の軸方向も、水平方向に対して垂直になりＺ軸方向と一致する。
　この後、図８に示すように、ＥＵＶ光生成装置１をチルトアップされた姿勢で維持するために支え台４３が設置される。さらに、ＥＵＶ光生成装置１の周囲には架台４４が設置される。架台４４は、チャンバ基準部材９から取り外されたベッセル１３を載置するための台である。
　架台４４が設置された後、図９に示すように、チェーン４２が、チャンバ基準部材９の凸部１７からベッセル１３の凸部１８に掛け替えられる。チェーン４２が凸部１８に掛け替えられた後、図１０に示すように、クレーン４１によって、ベッセル１３が上方に吊り上げられて、取り付け面９ｅから分離される。取り付け面９ｅから分離されたベッセル１３は、架台４４上に載置される。
　ベッセル１３が取り付け面９ｅから分離されると、ベッセル１３によって覆われていたＥＵＶ光集光ミラー２３が外部に露出される。この状態で、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換が行われる。この他、必要に応じて他の部品の交換等、メンテナンス作業が行われる。
　交換作業が終了した後、ベッセル１３の取り付け面９ｅへの取り付けや、架台４４及び支え台４３の取り外しが行われる。この後、クレーン４１を用いて、ＥＵＶ光生成装置１の姿勢を図６に示す正姿勢に戻す。この状態で、チャンバ基準部材９からクレーン４１が取り外され、ターゲットセンサ４などがベッセル１３に取り付けられる。取り付けられたターゲットセンサ４に対しては位置調整が行われる。位置調整が終了した後、ＥＵＶ光生成装置１は、レール１４上を走行させて、図４に示す接続位置に移動される。そして、露光装置６とベッセル１３の接続部１３ｂが接続される。こうしてＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業が完了する。
　　１．４　課題
　比較例に示したとおり、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業には、クレーン４１を用いて、チャンバ基準部材９の取り付け面９ｅからベッセル１３を分離する分離作業が伴う。クレーン４１を使用する場合、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業に非常に時間が掛かってしまい、ＥＵＶ光生成システム１１が稼働できないダウンタイムが長くなってしまうという問題があった。
　というのも、図４～図１０を用いて説明したとおり、クレーン４１を使用する場合には、ベッセル１３を分離するための準備作業として、チャンバ基準部材９のチルトアップ作業、支え台４３や架台４４の設置作業、ターゲットセンサ４などの部品をベッセル１３から取り外す部品取り外し作業が必要になる。ＥＵＶ光生成装置１は、ベッセル１３の重量だけでも、数百ｋｇに達するため、こうした重量物をチルトアップしたり、吊り上げたりといった作業には、非常に時間が掛かる。
　また、ターゲットセンサ４などの部品をベッセル１３からいったん取り外すと、再度取り付ける場合に位置調整が必要になる。上述のとおり、ＥＵＶ光生成装置１においては、レーザ光やＥＵＶ光の光学系の位置決め精度は高い精度が要求される。それに伴ってターゲットセンサ４などの部品の位置決め精度にも非常に高い精度が要求されるため、位置調整に非常に時間が掛かる。具体的には、クレーン４１を使用してＥＵＶ光集光ミラー２３を交換するには、トータルの作業時間が約１０時間以上に達する。また、ベッセル１３などの重量物を取り扱う作業には、段取りや周囲の安全確認などに必要な人員も多くなる傾向があるため、作業の手間も掛かる。
　そのため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業に伴うダウンタイムを抑制すること、かつ、交換作業の手間を減らすことが求められる。
　２．第１実施形態
　図１１～図２２を用いて、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１Ａについて説明する。第１の実施形態においても、比較例において説明したＥＵＶ光生成装置１及びＥＵＶ光生成装置１を用いるＥＵＶ光生成システムの全体的な構成はほぼ同様である。第１実施形態と比較例の主な相違点は、ＥＵＶ光生成装置１Ａにおいては、ベッセル１３を移動するベッセル移動機構４５Ａを備えている点である。第１実施形態については、比較例との相違点を中心に説明する。以下において、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　２．１　第１実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　　　２．１．１　ベッセル移動機構の構成
　図１１～図１５に示すように、ベッセル移動機構４５Ａは、ベッセル１３をベッセル１３の軸方向に沿って移動することにより、チャンバ基準部材９の取り付け面９ｅからベッセル１３を分離する機構である。具体的には、ベッセル移動機構４５Ａは、図１１及び図１３に示す第１位置と、図１２及び図１４に示す第２位置との間でベッセル１３を移動させる。第１位置は、ベッセル１３がＥＵＶ光集光ミラー２３を覆う位置であり、第２位置は、ベッセル１３を第１位置から退避して、ＥＵＶ光集光ミラー２３を外部に露出する位置である。本例では、第１位置において、ベッセル１３が取り付け面９ｅと接し、第２位置において、ベッセル１３が取り付け面９ｅから分離する。
　ベッセル移動機構４５Ａは、リンク部材に相当するエアシリンダ４６と、図１３及び図１４に示すエアシリンダ駆動装置４７とを備える。図１５に示すように、エアシリンダ４６は、例えばベッセル１３の両側に２本ずつ配置され、合計４本設けられている。
　図１１～図１４に示すように、エアシリンダ４６は、主軸として機能するピストンロッド４６ａと、ピストンロッド４６ａに対してピストンロッド４６ａの軸方向に相対的にスライドするスライド部材として機能するシリンダ４６ｂとを備えている。エアシリンダ４６は、周知のように、シリンダ４６ｂ内に圧縮空気を供給することで軸方向の長さが伸長し、シリンダ４６ｂから圧縮空気を排出することで収縮する。
　ピストンロッド４６ａの一端は、チャンバ基準部材９に取り付けられ、シリンダ４６ｂの一端は、ベッセル１３に取り付けられる。エアシリンダ４６は、ピストンロッド４６ａとシリンダ４６ｂとの相対的なスライドによって、軸方向に伸縮する。エアシリンダ４６は、この伸縮動作により、チャンバ基準部材９に対してベッセル１３を移動させる。
　図１３及び図１４に示すように、エアシリンダ４６は、エアシリンダ４６の軸方向が、ベッセル１３の軸方向と一致する姿勢で配置されている。そのため、エアシリンダ４６が伸縮すると、ベッセル１３は、ベッセル１３の軸方向に沿って第１位置と第２位置の間で昇降する。具体的には、エアシリンダ４６が収縮すると、ベッセル１３は、図１１及び図１３に示す第１位置に移動し、エアシリンダ４６が伸長すると、ベッセル１３は、図１２及び図１４に示す第２位置に移動する。
　図１３及び図１４に示すように、エアシリンダ４６は、エアシリンダ駆動装置４７によって駆動される。エアシリンダ駆動装置４７は、エアシリンダ４６に対して圧縮空気の供給と排出を行う圧縮空気給排出装置である。エアシリンダ駆動装置４７は、ＥＵＶ光生成装置１Ａ用の専用の装置を設けてもよいし、ＥＵＶ光生成装置１Ａが設置されるクリーンルームにおいて、他の装置にも利用可能な共用設備として予め配備されている圧縮空気給排出装置を利用してもよい。
　　　２．１．２　位置決め機構の構成
　また、ＥＵＶ光生成装置１Ａには、チャンバ基準部材９に対してベッセル１３を位置決めする位置決め機構が設けられている。図１６に示すように、本例の位置決め機構は、テーパピン５１と、テーパピン５１と嵌合する嵌合穴５２とを備えている。テーパピン５１は、例えば、ベッセル１３の本体部１３ａの取り付け面９ｅと対向する端面１３ｃの四隅に１つずつ合計４本設けられている。端面１３ｃには、チャンバ２の円形の開口部が形成されており、テーパピン５１は、その周囲に配置されている。取り付け面９ｅには、４本のテーパピン５１に対応する位置に４つの嵌合穴５２が設けられている。
　図１７に示すように、テーパピン５１は、先端側の径が細く基端側に向けて径が大きくなる略円錐台形をしている。テーパピン５１の基端側の径は、嵌合穴５２の径とほぼ一致している。そのため、テーパピン５１の先端は、嵌合穴５２に挿入させやすい。そして、テーパピン５１を、二点鎖線で示すように、嵌合穴５２の奥に進入させていくとテーパピン５１の外周面と嵌合穴５２との当接により、テーパピン５１がガイドされて、テーパピン５１の径方向の中心と嵌合穴５２の径方向の中心が一致する。これにより、チャンバ基準部材９に対してベッセル１３を精度よく位置決めすることができる。
　　　２．１．３　Ｏリングのリング溝
　また、図１８に示すように、チャンバ基準部材９の取り付け面９ｅには、Ｏリング５３が取り付けられる。Ｏリング５３の径は、チャンバ２の開口径よりも一回り大きい。Ｏリング５３は、取り付け面９ｅと、本体部１３ａの端面１３ｃとの隙間を封止する。これにより、ベッセル１３の端面１３ｃが取り付け面９ｅと接する第１位置にある状態では、チャンバ２内が密閉される。取り付け面９ｅには、Ｏリング５３を取り付けるための円形のリング溝５４が形成されている。
　図１９に示すように、リング溝５４において、周方向に直交する断面形状は、リング溝５４の内部５４ｂよりも、リング溝５４の入口である開口部５４ａの幅が狭い略台形状をしている。開口部５４ａの幅は、Ｏリング５３の直径よりも狭い。こうしたリング溝５４は、あり溝などと呼ばれる。Ｏリング５３がリング溝５４に取り付けられる際には、Ｏリング５３が弾性変形して開口部５４ａを通過して内部５４ｂに進入する。Ｏリング５３がリング溝５４に取り付けられると、開口部５４ａの幅が狭いため、外れにくい。
　ベッセル１３がチャンバ基準部材９に取り付けられている状態では、本体部１３ａの端面１３ｃと取り付け面９ｅのＯリング５３が密着している。Ｏリング５３はリング溝５４から外れにくいため、ベッセル１３を取り付け面９ｅから分離する際に、ベッセル１３の端面１３ｃに粘着してリング溝５４から外れてしまうことが抑制される。
　　２．２　ＥＵＶ光集光ミラーの交換手順の説明
　図２０～図２２を参照しながら、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａにおける、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換手順を説明する。比較例と同様に、図２０に示す接続位置から、レール１４上を走行させてＥＵＶ光生成装置１Ａを後方に向けて図２１に示すようにシフトアウトする。この後、エアシリンダ駆動装置４７をエアシリンダ４６に装着する。
　エアシリンダ駆動装置４７を作動させて、エアシリンダ４６に圧縮空気が供給されると、ベッセル１３が図２１に示す第１位置から図２２に示す第２位置に移動する。これにより、図２２に示すように、第１位置においてベッセル１３によって覆われていたＥＵＶ光集光ミラー２３が外部に露出される。
　この状態で、使用済みのＥＵＶ光集光ミラー２３が、新しいＥＵＶ光集光ミラー２３に交換される。交換作業が終了すると、エアシリンダ駆動装置４７を作動させて、エアシリンダ４６から圧縮空気を排出する。これにより、ベッセル１３が第２位置から第１位置に移動して、ＥＵＶ光集光ミラー２３がベッセル１３に覆われてチャンバ２内に収容される。ベッセル１３は、テーパピン５１と嵌合穴５２との嵌合によって、チャンバ基準部材９に対して適切な位置に位置決めされる。
　　２．３　作用効果
　　　２．３．１　ベッセル移動機構の作用効果
　第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａは、ベッセル移動機構４５Ａを備えているため、クレーン４１を用いることなく、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業が可能になる。比較例の図６～図９に示したように、クレーン４１を使用する場合には、ベッセル１３をチャンバ基準部材９から分離するための準備作業として、チャンバ基準部材９のチルトアップ作業、支え台４３や架台４４の設置作業、ターゲットセンサ４などのベッセル１３からの取り外し作業が必要になる。第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａでは、ベッセル移動機構４５Ａを備えているため、こうした準備作業が不要になる。
　また、交換作業において、ベッセル１３にクレーン４１を取り付けなくて済むため、ターゲットセンサ４などの部品をベッセル１３から取り外さなくて済む。そのため、ターゲットセンサ４などの部品をベッセル１３に再度取り付けた際の位置調整も不要である。こうした準備作業や部品の位置調整が不要となるため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業を比較例よりも短時間で行うことが可能になる。さらに、クレーン４１を使用しないため、作業に必要な人員を減らすことも可能となり、作業の手間も軽減される。
　そのため、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａは、比較例と比べて、ＥＵＶ光生成システム１１のダウンタイムを抑制し、かつ、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業の手間を減らすことができる。
　特に、本例のＥＵＶ光生成装置１Ａのように、正姿勢において、ＥＵＶ光集光ミラー２３の取り付け面９ｅが水平ではなく、水平方向に対して傾斜している場合には、ベッセル移動機構４５Ａを設けることは有効である。というのも、取り付け面９ｅが傾斜している場合には、比較例の図７及び図８に示したとおり、取り付け面９ｅを水平にしてベッセル１３を安定した姿勢で取り外すために、チャンバ基準部材９のチルトアップ作業や支え台４３や架台４４の設置作業が必要になる。そのため、取り付け面９ｅが傾斜している方が、水平である場合と比べて、準備作業が多く、より交換作業に時間が掛かることになり、作業時間短縮の必要性が大きいからである。
　また、本例のベッセル移動機構４５Ａは、ベッセル１３を直線移動させて、第１位置と第２位置の間の移動を行う直線移動機構である。そのため、ベッセル移動機構４５Ａの構成を比較的簡単にすることが可能である。
　　　２．３．２　エアシリンダの作用効果
　また、エアシリンダ４６は、圧縮空気を駆動力の源泉として使用する。そのため、例えば、圧縮空気の代わりにオイルを使用する油圧シリンダなどと比較して、汚染の懸念が少ない。そのため、エアシリンダ４６は、クリーンルームに設置されるＥＵＶ光生成装置１Ａに使用する場合には、油圧シリンダよりも好ましい。
　また、ベッセル移動機構４５Ａとして、エアシリンダ４６のように、主軸と主軸の軸方向に相対的にスライドするスライド部材とによって構成されるリンク部材を使用しているため、複数本のロッドを複雑に組み合わせるリンク部材を使用する場合と比較して、簡単な構成で移動機構を実現することができる。
　　　２．３．３　リング溝の作用効果
　また、第１位置においてベッセル１３の端面１３ｃと密着するＯリング５３は、断面形状が略台形状のリング溝５４に取り付けられている。そのため、ベッセル１３の端面１３ｃが取り付け面９ｅから分離する際に、Ｏリング５３がベッセル１３の端面１３ｃに吸着した状態で、リング溝５４から外れてしまうことが抑制される。ベッセル１３を分離する際にＯリング５３がリング溝５４から外れてしまうと、Ｏリング５３を再装着する作業の時間や手間が増加する。Ｏリング５３が外れにくいリング溝５４とすることで、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業の時間や手間をさらに軽減することができる。
　　　２．３．４　位置決め機構の作用効果
　また、位置決め機構として、先端の径が細く基端側の径が太いテーパピン５１を用いているため、テーパピン５１を嵌合穴５２に挿入させやすい。また、初期の嵌合位置が多少ずれていても、テーパピン５１を嵌合穴５２の奥に挿入していく過程で自動的に位置決めが行われる。そのため、先端から基端まで径の太さが一定のストレートピンを用いる場合と比較して、位置決め作業が簡単になる。位置決め作業が簡単になれば、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業の時間や手間をさらに軽減することができる。
　　２．４　その他
　上記例において、エアシリンダ４６の数を４本としているが、エアシリンダ４６の数は、ベッセル１３の重量等に応じてエアシリンダ４６に掛かる負荷に応じて、適宜変更が可能である。また、エアシリンダ４６の取り付け方法について、上記例とは逆に、シリンダ４６ｂをチャンバ基準部材に取り付けて、ピストンロッド４６ａをベッセル１３に取り付けてもよい。
　また、上記例において、位置決め機構のテーパピン５１をベッセル１３に設けているが、反対に、チャンバ基準部材９にテーパピン５１を設けて、ベッセル１３に嵌合穴５２を設けてもよい。
　また、上記例において、リング溝５４をチャンバ基準部材９に設けているが、リング溝５４をベッセル１３の端面１３ｃに設けてもよい。
　また、上記例において、ベッセル１３の外形を断面が四角形の角筒状として説明したが、ベッセル１３の外形としては、断面が六角形や八角形の多角形の角筒状でもよいし、円筒状でもよい。
　３．　第２実施形態
　図２３及び図２４に示す第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂについて説明する。第２実施形態の基本的な構成は、第１実施形態と同様であり、相違点は、第２実施形態のベッセル１３１の形態と、ベッセル移動機構４５Ｂの構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　３．１　第２実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂは、ベッセル１３１を備えている。ベッセル１３１は、第１実施形態のベッセル１３と同様に、チャンバ２を構成する筒状部材であり、角筒状の本体部１３１ａと、略円錐台形状の接続部１３１ｂとを備えている。
　チャンバ基準部材９の取り付け面９ｅには、ベッセル１３１の台座として機能する台座部５７が設けられている。台座部５７は、取り付け面９ｅに取り付けられた状態のＥＵＶ光集光ミラー２３の周囲に配置され、ベッセル１３１とともにチャンバ２を構成する。台座部５７は、円環状をしており、外径はベッセル１３１の基端部分の径と同じであり、内径はベッセル１３１の内径と同じである。台座部５７は、ベッセル１３の軸方向における取り付け面９ｅからの高さが、ＥＵＶ光集光ミラー２３よりも高く形成されている。
　ベッセル移動機構４５Ｂは、ベッセル１３１を、ベッセル１３１の軸方向と交差する方向、より具体的には、ベッセル１３１の軸方向と直交する方向にスライドさせる。これにより、ベッセル移動機構４５Ｂは、ベッセル１３１を、図２３に示す第１位置と図２４に示す第２位置との間で移動する。このスライド移動の方向は、台座部５７の上端面５７ａと平行な方向である。
　図２３に示すように、第１位置では、ベッセル１３１の軸方向の中心と円環状の台座部５７の径方向の中心が一致しており、ベッセル１３１の基端側の端面１３１ｃと台座部５７の上端面５７ａとが接する。この状態では、ベッセル１３１によってＥＵＶ光集光ミラー２３が覆われる。
　一方、図２４に示す第２位置は、ベッセル１３１を、第１位置に対して斜め上方にスライド移動させた位置である。第２位置では、ＥＵＶ光集光ミラー２３の上方からベッセル１３１が退避して、ＥＵＶ光集光ミラー２３が外部に露出される。
　第２実施形態のベッセル移動機構４５Ｂは、第１実施形態のベッセル移動機構４５Ａと同様に、エアシリンダ４６とエアシリンダ駆動装置４７とを備えている。しかし、第２実施形態のベッセル移動機構４５Ｂは、エアシリンダ４６の取り付け姿勢が第１実施形態と異なり、エアシリンダ４６の軸方向が、ベッセル１３１の軸方向と交差するように配置されている。
　第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂにおいては、チャンバ基準部材９の取り付け面９ｅの一端部には、エアシリンダ４６の一端が固定される支持部５８が設けられている。エアシリンダ４６の他端は、ベッセル１３１に固定される。これにより、ベッセル移動機構４５Ｂは、エアシリンダ４６を伸縮させることにより、ベッセル１３１の軸方向と交差するようにベッセル１３１をスライドさせる。
　なお、第２実施形態においては、エアシリンダ４６の数は合計２本であり、ＥＵＶ光生成装置１Ｂの幅方向の両側面にそれぞれ１本ずつエアシリンダ４６が設けられている。第１実施形態で述べたとおり、エアシリンダ４６の数は適宜変更可能である。
　また、ベッセル１３１には、本体部１３ａの側面において、支持部５８と対向する部分にテーパピン５１が設けられている。支持部５８には、テーパピン５１と嵌合する、第１実施形態の嵌合穴５２と同様の嵌合穴が設けられている。これらテーパピン５１と嵌合穴は、第１実施形態で説明したとおり、ベッセル１３１の位置決め機構を構成する。
　　３．２　作用効果
　第２実施形態においても、ベッセル移動機構４５Ｂを備えているため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業にクレーン４１を用いなくて済む。そのため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業について、クレーン４１を使用する比較例と比べて短時間で可能となり、手間も軽減される、という第１実施形態と同様の作用効果が得られる。また、テーパピン５１を備えた位置決め機構の作用により、ベッセル１３１の位置決めも簡単である。
　また、第２実施形態のベッセル移動機構４５Ｂは、第１実施形態と異なり、ベッセル１３１のスライド方向が、ベッセル１３の軸方向と交差する方向である。そのため、図２４に示す第２位置において、ＥＵＶ光集光ミラー２３及び取り付け面９ｅの上方からベッセル１３１が退避するため、取り付け面９ｅ及びＥＵＶ光集光ミラー２３にアクセスしやすい。
　４．第３実施形態
　図２５及び図２６に示す第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｃについて説明する。第３実施形態の基本的な構成は、第１実施形態と同様であり、相違点は、ベッセル１３の移動態様とベッセル移動機構４５Ｃの構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　４．１　第３実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｃは、第１実施形態と同様のベッセル１３を備えている。第３実施形態のベッセル１３の移動態様は、直線移動する第１実施形態と異なり、回転移動する態様である。
　具体的には、第３実施形態において、ベッセル１３は、取り付け面９ｅの一端において、チャンバ基準部材９に対してヒンジ６１を介して回転自在に取り付けられている。ヒンジ６１は、取り付け面９ｅにおいて、チャンバ基準部材９の後方側の上端部分に取り付けられている。
　ベッセル１３は、図２５に示すように、ＥＵＶ光集光ミラー２３を覆う第１位置と、図２６に示すように、ＥＵＶ光集光ミラー２３を外部に露出する第２位置との間で回転移動する。ベッセル１３は、第１位置から第２位置に向けて移動する際に、ヒンジ６１を基点に反時計方向に回転して、チャンバ基準部材９の後方に向けて跳ね上がり、あたかも蓋が開くような態様で移動する。これにより、第２位置において、ベッセル１３の端面１３ｃがチャンバ基準部材９の取り付け面９ｅから分離して、ＥＵＶ光集光ミラー２３が外部に露出される。
　また、ベッセル移動機構４５Ｃは、第１実施形態と同様に、エアシリンダ４６とエアシリンダ駆動装置４７とを備えている。エアシリンダ４６は、一端がベッセル１３に、他端がチャンバ基準部材９に、それぞれ取り付け軸６２を介して取り付けられている。第３実施形態においては、エアシリンダ４６の各端部は、それぞれ各取り付け軸６２を中心に、ベッセル１３及びチャンバ基準部材９に対して回転自在である。
　エアシリンダ４６が伸長すると、ベッセル１３がヒンジ６１を基点にして、図２５に示す第１位置から図２６に示す第２位置に回転移動する。この過程で、エアシリンダ４６は、ベッセル１３及びチャンバ基準部材９のそれぞれに対して各取り付け軸６２を中心に相対的に回転する。
　また、ベッセル１３には、第１実施形態と同様に、位置決め機構を構成するテーパピン５１が設けられている。また、第３実施形態においても、第１実施形態と同様のＯリング５３とリング溝５４を設けてもよい。
　　４．２　作用効果
　　第３実施形態においても、ベッセル移動機構４５Ｃを備えているため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業にクレーン４１を用いなくて済む。そのため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業について、クレーン４１を使用する比較例と比べて短時間で可能となり、手間も軽減される、という第１実施形態と同様の作用効果が得られる。また、テーパピン５１を備えた位置決め機構の作用により、ベッセル１３の位置決めも簡単である。
　また、第３実施形態のベッセル移動機構４５Ｃは、第１実施形態と異なり、ベッセル１３を、ヒンジ６１を基点にして回転移動させる。そのため、図２６に示す第２位置において、ＥＵＶ光集光ミラー２３及び取り付け面９ｅの上方からベッセル１３が退避するため、取り付け面９ｅ及びＥＵＶ光集光ミラー２３にアクセスしやすい。
　また、第３実施形態においては、ベッセル１３は、端面１３ｃが取り付け面９ｅから分離する第２位置においても、ヒンジ６１を介してチャンバ基準部材９に片側が支持されている。そのため、エアシリンダ４６がベッセル１３の全重量を支える必要が無く、エアシリンダ４６に掛かる負荷を軽減できる。エアシリンダ４６に掛かる負荷が小さければ、エアシリンダ４６の数を減らしたり、小型化できるという効果が期待できる。
　５．第４実施形態
　図２７～図２９に示す第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｄについて説明する。第４実施形態の基本的な構成は、第１～第３実施形態と同様であり、相違点は、ベッセル１３の移動態様とベッセル移動機構４５Ｄの構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１～第３実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　５．１　第４実施形態のＥＵＶ光生成装置の説明
　第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｄは、第１実施形態と同様のベッセル１３を備えている。第４実施形態のベッセル１３の移動態様は、直線移動と回転移動を組み合わせた態様である。
　ベッセル１３は、第１実施形態と同様にチャンバ基準部材９から分離可能に設けられている。ベッセル移動機構４５Ｄは、エアシリンダ４６とエアシリンダ駆動装置４７に加えて、モータ６６を備えている。エアシリンダ駆動装置４７はエアシリンダ４６を伸縮させるための駆動装置であり、モータ６６はエアシリンダ４６を回転させるための駆動装置である。
　エアシリンダ４６は、第３実施形態と同様に、一端がベッセル１３に、他端がチャンバ基準部材９に、それぞれ取り付け軸６２を介して取り付けられている。また、エアシリンダ４６の各端部は、それぞれ各取り付け軸６２を中心に、ベッセル１３及びチャンバ基準部材９のそれぞれに対して回転自在である。エアシリンダ４６は、ＥＵＶ光生成装置１Ｄの両側面に２本ずつ合計４本設けられている。
　第４実施形態のベッセル１３は、図２７に示すように、ＥＵＶ光集光ミラー２３を覆う第１位置と、図２９に示すように、ＥＵＶ光集光ミラー２３を外部に露出する第２位置との間で移動自在である。第４実施形態のベッセル１３は、図２７に示す第１位置と図２９に示す第２位置との間で移動する過程において、図２８に示す中間位置を経由する。
　エアシリンダ４６は、ベッセル１３が第１位置にある状態では、軸方向がベッセル１３の軸方向と一致する姿勢で配置されている。ベッセル移動機構４５Ｄは、まず、図２７に示す第１位置から、エアシリンダ４６を伸長して、ベッセル１３を、ベッセル１３の軸方向に沿って、図２８に示す中間位置に向けて直線移動させる。その後、図２８に示す状態から、モータ６６を駆動して、エアシリンダ４６を、チャンバ基準部材９に設けられる取り付け軸６２を中心に回転させる。これにより、ベッセル１３がチャンバ基準部材９の後方に向けて回転移動する。
　エアシリンダ４６を回転させる際には、モータ６６だけでなく、エアシリンダ駆動装置４７も駆動して、エアシリンダ４６を伸縮させながら、エアシリンダ４６の長さを調節する。本例において、エアシリンダ４６は、ＥＵＶ光生成装置１Ｄの両側に２本ずつ配置されており、ベッセル１３の回転中心は、各エアシリンダ４６のうち、後方側のエアシリンダ４６の一端に設定されている。そのため、ベッセル１３の回転移動に伴って、前方側のエアシリンダ４６の長さが調節される。このようなエアシリンダ４６の駆動を行って、ベッセル１３を、軸方向がほぼ垂直になる、図２９に示す第２位置まで移動する。
　また、ベッセル１３には、第１～第３実施形態と同様に、位置決め機構を構成するテーパピン５１が設けられている。また、第４実施形態において、第１実施形態と同様のＯリング５３とリング溝５４を設けてもよい。
　　５．２　作用効果
　　第４実施形態においても、ベッセル移動機構４５Ｄを備えているため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業にクレーン４１を用いなくて済む。そのため、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業について、クレーン４１を使用する比較例と比べて短時間で可能となり、手間も軽減される、という第１実施形態と同様の作用効果が得られる。また、テーパピン５１を備えた位置決め機構の作用により、ベッセル１３の位置決めも簡単である。
　また、第４実施形態のベッセル移動機構４５Ｄは、第２実施形態や第３実施形態と同様に、図２９に示す第２位置において、ＥＵＶ光集光ミラー２３及び取り付け面９ｅの上方からベッセル１３が退避するため、取り付け面９ｅ及びＥＵＶ光集光ミラー２３にアクセスしやすい。さらに、第４実施形態のベッセル移動機構４５Ｄは、直線移動と回転移動を組み合わせて、ベッセル１３を第１位置と第２位置の間で移動させる。そのため、ベッセル１３を比較的自由な軌道で移動させることが可能になり、ＥＵＶ光集光ミラー２３への十分なアクセススペースが確保できる位置など、ＥＵＶ光集光ミラー２３の交換作業に適した位置にベッセル１３を移動させやすい。その結果、交換作業の時間短縮の効果も期待できる。
　６．第５実施形態
　図３０～図３１に示す第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｅについて説明する。第５実施形態の基本的な構成は、第１実施形態と同様である。第５実施形態は、ベッセル１３の軸方向に沿ってベッセル１３が直線移動する移動態様及びエアシリンダ４６の構成についても、第１実施形態と同様である。相違点は、ベッセル移動機構４５Ｅの位置決め機構の構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　ベッセル移動機構４５Ｅは、位置決め機構として、テーパピン５１の代わりに、ボールスプライン７１を備えている。ボールスプライン７１は、周知のように、軸方向にキー溝が形成されたスプライン軸７１ａと、キー溝に沿ってスプライン軸７１ａに対して相対的にスライドするスライダ７１ｂとを備えている。スライダ７１ｂとキー溝はキー溝内を転がるボールを介して係合する。ボールスプライン７１は、スプライン軸７１ａの一端がチャンバ基準部材９に取り付けられており、スライダ７１ｂがベッセル１３に取り付けられる。こうしたボールスプライン７１によってベッセル１３とチャンバ基準部材９とを正確に位置決めすることが可能となる。
　７．第６実施形態
　図３２～図３４に示す第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｆについて説明する。第６実施形態の基本的な構成は、第１実施形態と同様である。第６実施形態は、ベッセル１３の軸方向に沿ってベッセル１３が直線移動する移動態様についても、第１実施形態と同様である。相違点は、ベッセル移動機構４５Ｆの構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　第６実施形態のベッセル移動機構４５Ｆは、リンク部材として、エアシリンダ４６の代わりに、ボールねじ７６を備えている。ボールねじ７６は、周知のように、ねじ軸７６１と、ナット７６２とを備えている。ねじ軸７６１は、軸の外周にナット７６２と係合するねじ溝が切られており、主軸に相当する。ナット７６２は、ねじ軸７６１と係合して、ねじ軸７６１の軸回りに相対的に回転しながら、ねじ軸７６１の軸方向に相対的にスライドするスライド部材に相当する。つまり、ボールねじ７６は、ねじ軸７６１及びナット７６２の一方が軸回りに回転すると、他方が軸方向にスライドする。ボールねじ７６は、ねじ軸７６１とナット７６２は、ねじ溝内で転がるボールを介して係合する。
　図３２及び図３３において、ボールねじ７６は、ねじ軸７６１の一端がチャンバ基準部材９に取り付けられており、ナット７６２がベッセル１３に取り付けられている。ねじ軸７６１はチャンバ基準部材９に対して軸回りに回転自在に取り付けられている。ボールねじ７６は、軸方向がベッセル１３を移動させる方向に沿って配置されており、本例では、第１実施形態のエアシリンダ４６と同様に、ベッセル１３の軸方向に沿って配置されている。ナット７６２はベッセル１３に固定されているため、ねじ軸７６１が回転すると、ナット７６２とともにベッセル１３がねじ軸７６１の軸方向に直線移動する。
　図３４は、取り付け面９ｅと直交する方向において、上方から、取り付け面９ｅ及びベッセル移動機構４５Ｆを見た平面図である。図３４に示すように、ボールねじ７６は、角筒状のベッセル１３の四隅に１本ずつ合計４本配置されている。ベッセル移動機構４５Ｆは、ボールねじ７６を駆動する駆動装置としてモータ７７とベルト機構７８とを備えている。ベルト機構７８は、駆動ベルト７９とギヤ８１とを備えている。ギヤ８１は、各ボールねじ７６に取り付けられている。ここで、４本のボールねじ７６を区別するために、図３４においては、符号７６に細別符号Ａ～Ｄを付して、ボールねじ７６Ａ～７６Ｄとして示す。駆動ベルト７９についても同様に、図３４においては、各駆動ベルト７９を区別するために、駆動ベルト７９Ａ～７９Ｄとして示す。
　図３２～図３４に示すように、モータ７７と駆動ベルト７９Ａによって直接連結されるボールねじ７６Ａには、３つのギヤ８１が設けられている。ボールねじ７６Ａにおいて、１つのギヤ８１には駆動ベルト７９Ａが掛けられる。もう１つのギヤ８１には駆動ベルト７９Ｂが掛けられる。駆動ベルト７９Ｂは、ボールねじ７６Ｂのギヤ８１と連結される。ボールねじ７６Ａの３つ目のギヤ８１には、駆動ベルト７９Ｃが掛けられて、ボールねじ７６Ｃのギヤ８１と連結される。ボールねじ７６Ｃには、もう１つギヤ８１が設けられており、ボールねじ７６Ｃは、ボールねじ７６Ｄと駆動ベルト７９Ｄによってそれぞれのギヤ８１を介して連結される。
　このようなベルト機構７８によって、１つのモータ７７で４本のボールねじ７６Ｂを同時に同じ方向に回転させることができる。そのため、１つのモータ７７で４本のボールねじ７６Ｂを駆動して、ベッセル１３を移動させることができる。また、第６実施形態では、位置決め機構としてテーパピン５１を備えている。
　第６実施形態においても、ベッセル移動機構４５Ｆを設けたことによる基本的な作用効果は、第１実施形態と同様である。ベッセル移動機構４５Ｆは、エアシリンダ４６の代わりにボールねじ７６を用いているため、ベッセル１３やチャンバ基準部材９の形状等により、エアシリンダ４６を使用できない場合に有効である。また、ベッセル移動機構４５Ｆは、駆動装置として、モータ７７を使用するため、例えば、エアシリンダ駆動装置として機能する圧縮空気給排出装置が使用できない場合でも、ベッセル１３を移動させることができる。
　８．第７実施形態
　図３５～図３７に示す第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｇについて説明する。第７実施形態の基本的な構成は、第６実施形態と同様であり、相違点は、ベッセル移動機構４５Ｇの位置決め機構として、テーパピン５１の代わりに、ボールスプライン７１を使用している点である。他の構成は、第６実施形態と同様である。
　図３５～図３７に示すように、ボールスプライン７１は、ＥＵＶ光生成装置１Ｇの両側面に２本ずつ合計４本設けられている。各ボールスプライン７１は、スプライン軸７１ａがチャンバ基準部材９に取り付けられており、スライダ７１ｂがベッセル１３に取り付けられている。基本的な作用効果については、第６実施形態と同様である。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の各実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (19)

  1. 　極端紫外光生成装置は、以下を備える：
    　Ａ．ターゲット物質にレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ；
    　Ｂ．前記チャンバを構成する筒状部材であるベッセル；
    　Ｃ．前記ベッセルを支持する基準部材；
    　Ｄ．前記チャンバ内において前記極端紫外光を集光するコレクタミラーであって、前記基準部材に交換可能に取り付けられ、かつ、前記ベッセルによって覆われることにより前記チャンバ内に収容されるコレクタミラー；
    　Ｅ．前記基準部材に設けられ、前記ベッセルを移動させるベッセル移動機構であって、前記ベッセルが前記コレクタミラーを覆う第１位置と、前記ベッセルが前記第１位置から退避して前記コレクタミラーを露出する第２位置との間で前記ベッセルを移動させるベッセル移動機構。
  2. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記基準部材において、前記コレクタミラーが取り付けられる取り付け面は、水平方向に対して傾斜している。
  3. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　Ｆ．前記ベッセルに設けられ、前記チャンバ内の前記ターゲット物質を計測するターゲットセンサ。
  4. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、主軸と前記主軸の軸方向に前記主軸に対して相対的にスライドするスライド部材とを備えるリンク部材であって、前記主軸及び前記スライド部材の一方が前記基準部材に取り付けられ、他方が前記ベッセルに取り付けられるリンク部材を含み、前記主軸と前記スライド部材との相対的なスライドにより、前記基準部材に対して前記ベッセルを移動させる。
  5. 　請求項４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記リンク部材は、前記主軸として機能するピストンロッドと、前記スライド部材として機能するシリンダとを備えたエアシリンダである。
  6. 　請求項４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記リンク部材は、前記主軸として機能するねじ軸と、前記ねじ軸と係合して、前記ねじ軸の軸回りに相対的に回転しながら、前記ねじ軸の軸方向に相対的にスライドする前記スライド部材として機能するナットとを備えたボールねじである。
  7. 　請求項４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記リンク部材を駆動する駆動装置を備えている。
  8. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記第１位置と前記第２位置との間で前記ベッセルを直線移動させる。
  9. 　請求項８に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記ベッセルを前記ベッセルの軸方向に沿って移動させる。
  10. 　請求項８に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記ベッセルを前記ベッセルの軸方向と交差する方向にスライドさせる。
  11. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記第１位置と前記第２位置の間の移動に際して前記ベッセルを回転移動させる。
  12. 　請求項１１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセルは、前記取り付け面の一端において前記基準部材に対してヒンジを介して回転自在に取り付けられており、
    　前記ベッセル移動機構は、前記ヒンジを基点にして前記ベッセルを回転移動させる。
  13. 　請求項１１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記ベッセル移動機構は、前記第１位置と前記第２位置の間において、直線移動と回転移動を組み合わせた態様で前記ベッセルを移動させる。
  14. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置は、さらに、以下を備える；
    　Ｇ．前記第２位置において前記基準部材に対する前記ベッセルの取り付け位置を位置決めする位置決め機構。
  15. 　請求項１４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記位置決め機構は、基端側から先端側に向けて外径が細くなるテーパピンと、前記テーパピンと嵌合する嵌合穴とを備えており、前記テーパピンと前記嵌合穴の一方が前記ベッセルに設けられ、他方が前記基準部材に設けられる。
  16. 　請求項１４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    　前記位置決め機構は、軸方向にキー溝が形成されたスプライン軸と、前記キー溝に沿って前記スプライン軸に対して相対的にスライドするスライダとを備えたボールスプラインであり、前記スプライン軸及び前記スライダの一方が、前記ベッセルに取り付けられ、他方が前記基準部材に取り付けられる。
  17. 　請求項１に記載の極端紫外光生成装置は、さらに、以下を備える；
    　Ｈ：前記取り付け面と、前記第１位置において前記取り付け面と対向する前記ベッセルの端面との間に配置され、前記取り付け面と前記端面との隙間を封止するＯリング。
  18. 　請求項１７に記載の極端紫外光生成装置は、さらに、以下を備える；
    　前記取り付け面または前記端面には、前記Ｏリングが取り付けられるリング溝が形成されている。
  19. 　請求項１８に記載の極端紫外光生成装置は、さらに、以下を備える；
    　前記取り付け溝の断面形状は、前記リング溝の内部よりも開口部の幅が狭くなる略台形状である。
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