JP2013175431A - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、チャンバ基準部材と、前記チャンバ基準部材に固定され、少なくとも1つの窓が設けられたチャンバと、前記少なくとも1つの窓を通して前記チャンバ内に前記レーザ光を導入するためのレーザ光導入光学系と、前記レーザ光導入光学系を前記チャンバ基準部材に対して位置決めするように構成された位置決め機構と、を備えてもよい。
【選択図】図2B
Description
1.概要
2.極端紫外光生成システムの全体説明
2.1 構成
2.2 動作
3.レーザ光導入光学系を位置決めしたEUV光生成システム(第1の実施形態)
3.1 構成
3.2 動作
4.位置決め機構の例
4.1.第2の実施形態
4.2.第3の実施形態
4.3.第4の実施形態
5.光学素子の例
5.1.第5の実施形態
5.2.第6の実施形態
6.移動機構の例
6.1.第7の実施形態
6.2.第8の実施形態
6.3.第9の実施形態
6.4.第10の実施形態
6.5.第11の実施形態
7.プリパルスレーザが用いられるEUV光生成システム(第12の実施形態)
7.1.構成及び動作
7.2.レーザ光計測器の詳細
8.レーザ光導入光学系を箱に収容したEUV光生成システム(第13の実施形態)
LPP式のEUV光生成装置では、レーザ装置から出力されるレーザ光を、チャンバ内のターゲット物質に集光して照射することにより、ターゲット物質をプラズマ化してもよい。プラズマからは、EUV光を含む光が放射されてもよい。放射されたEUV光は、チャンバ内に配置されたEUV集光ミラーによって集光され、露光装置等の外部装置に出力されてもよい。
2.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2及びターゲット供給装置26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給装置26から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照に、レーザ装置3から出力されたレーザ光31は、レーザ光進行方向制御装置34を経て、レーザ光32としてウインドウ21を透過して、チャンバ2内に入射してもよい。レーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、レーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
3.1 構成
図2Aは、第1の実施形態に係るEUV光生成装置が露光装置に接続された状態を示す平面図である。図2Bは、図2Aに示すEUV光生成装置及び露光装置のIIB−IIB線における断面図である。
レーザ装置3から出力されるレーザ光が、高反射ミラー671及び672によって反射されることにより、レーザ光がチャンバ基準部材9の収納室9bに向けて供給されてもよい。
4.1.第2の実施形態
図3Aは、第2の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図3Bは、図3Aに示すEUV光生成装置のIIIB−IIIB線における断面図である。
その他の点については第1の実施形態と同様でよい。
図4Aは、第3の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図4Bは、図4Aに示すEUV光生成装置のIVB−IVB線における断面図である。
その他の点については第2の実施形態と同様でよい。
図5Aは、第4の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図5Bは、図5Aに示すEUV光生成装置のVB−VB線における断面図である。
第4の実施形態において、位置決め機構10のマウント81c〜83cの上面は、平面状になっていてもよい。
その他の点については第2の実施形態と同様でよい。
5.1.第5の実施形態
図6Aは、第5の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図6Bは、図6Aに示すEUV光生成装置のVIB−VIB線における断面図である。
支持プレート10aを支持するための脚部71等の配置は、第2の実施形態と同様でもよい。
その他の点については、第2の実施形態と同様でよい。なお、マウント81の上面にはV字状の溝が形成され、マウント82の上面には円錐状の窪みが形成されるようにしてもよい。
図7Aは、第6の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図7Bは、図7Aに示すEUV光生成装置のVIIB−VIIB線における断面図である。
第6の実施形態においては、ビームスプリッタ52及び高反射ミラー53を含むレーザ光導入光学系と、戻り光計測器39とを、まとめて位置決め機構10によってチャンバ基準部材9に位置決めしてもよい。これにより、プラズマ生成領域25からの戻り光を正確に計測し得る。
その他の点については、第2の実施形態と同様でよい。なお、図7Bとは逆にマウント81の上面にはV字状の溝が形成され、マウント82の上面には円錐状の窪みが形成されてもよい。
6.1.第7の実施形態
図8Aは、第7の実施形態に係るEUV光生成装置のチャンバ基準部材及びその内部の正面図である。図8Bは、図8Aに示すチャンバ基準部材及びその内部のVIIIB−VIIIB線における断面図である。図8Cは、図8Aに示すチャンバ基準部材にレーザ光導入光学系を位置決めした状態を示す正面図である。図8Dは、図8Cに示すチャンバ基準部材及びその内部のVIIID−VIIID線における断面図である。
その他の点については、第2の実施形態と同様でよい。
図9Aは、第8の実施形態に係るEUV光生成装置のチャンバ基準部材及びその内部の正面図である。図9Bは、図9Aに示すチャンバ基準部材及びその内部のIXB−IXB線における断面図である。図9Cは、図9Aに示すチャンバ基準部材にレーザ光導入光学系を位置決めした状態を示す正面図である。図9Dは、図9Cに示すチャンバ基準部材及びその内部のIXD−IXD線における断面図である。
支持プレート10aには、駆動機構103a及び103b、104a及び図示しないもう1つの駆動機構が設けられてもよい。これらの駆動機構は、車輪101a、101b、102a及び図示しないもう1つの車輪に対して支持プレート10aを上下動させるように構成されてもよい。
その他の点については、第7の実施形態と同様でよい。
図10Aは、第9の実施形態に係るEUV光生成装置のチャンバ基準部材及びその内部の正面図である。図10Bは、図10Aに示すチャンバ基準部材及びその内部のXB−XB線における断面図である。図10Cは、図10Aに示すチャンバ基準部材にレーザ光導入光学系を位置決めした状態を示す平面図である。図10Dは、図10Cに示すチャンバ基準部材及びその内部の正面図である。図10Eは、図10Dに示すチャンバ基準部材及びその内部のXE−XE線における断面図である。
その他の点についても、第4の実施形態と同様でよい。
図11Aは、第10の実施形態に係るEUV光生成装置のチャンバ基準部材及びその内部と移動機構とを示す一部断面図である。図11Bは、図11Aに示すチャンバ基準部材にレーザ光導入光学系を位置決めした状態を示す一部断面図である。
その他の点については、第2の実施形態と同様でよい。なお、図11Bとは逆にマウント81の上面にはV字状の溝が形成され、マウント82の上面には円錐状の窪みが形成されてもよい。
図12Aは、第11の実施形態に係るEUV光生成装置のチャンバ基準部材及びその内部と移動機構とを示す一部断面図である。図12Bは、図12Aに示すチャンバ基準部材にレーザ光導入光学系を位置決めした状態を示す一部断面図である。
第11の実施形態によれば、レーザ光導入光学系をチャンバ基準部材9に位置決めする作業、及び、レーザ光導入光学系をチャンバ基準部材9から取り出す作業の負荷を軽減し得る。
その他の点については、第3の実施形態と同様でよい。
7.1.構成及び動作
図13Aは、第12の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図13Bは、図13Aに示すEUV光生成装置のXIIIB−XIIIB線における断面図である。
或いは、ターゲットにプリパルスレーザ光を照射すると、ターゲットが破壊され得る。破壊されたターゲットは、プリプラズマの噴出による反力等によって拡散し得る。
その他の点については、第2の実施形態と同様でよい。
図14は、第12の実施形態において用いられるレーザ光計測器の構成例を示す。ビームスプリッタ52の第1の面にはプリパルスレーザ光が入射し、ビームスプリッタ52の第2の面にはメインパルスレーザ光が入射してもよい。プリパルスレーザ光はビームスプリッタ52の第1の面で反射されてもよい。また、メインパルスレーザ光はビームスプリッタ52を透過してもよい。ビームスプリッタ52で反射されたプリパルスレーザ光及び、ビームスプリッタ52を透過したメインパルスレーザ光はチャンバ2内に導入されてもよい。一方、プリパルスレーザ光の一部はビームスプリッタ52を透過してもよい。また、メインパルスレーザ光の一部はビームスプリッタ52の第2の面で反射されてもよい。ビームスプリッタ52を透過したプリパルスレーザ光の一部及び、ビームスプリッタ52で反射されたメインパルスレーザ光の一部はサンプル光として、ビームスプリッタ52aに入射してもよい。
図15Aは、第13の実施形態に係るEUV光生成装置の平面図である。図15Bは、図15Aに示すEUV光生成装置のXVB−XVB線における断面図である。
その他の点については、第12の実施形態と同様でよい。
Claims (6)
- ターゲット物質にレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、
チャンバ基準部材と、
前記チャンバ基準部材に固定され、少なくとも1つの窓が設けられたチャンバと、
前記少なくとも1つの窓を通して前記チャンバ内に前記レーザ光を導入するためのレーザ光導入光学系と、
前記レーザ光導入光学系を前記チャンバ基準部材に対して位置決めするように構成された位置決め機構と、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記レーザ光導入光学系を前記チャンバ基準部材に対して移動可能な構造に構成された移動機構
をさらに備える、請求項1記載の極端紫外光源装置。 - 前記移動機構は、
前記チャンバ基準部材に配置されたレールと、
前記位置決め機構に取り付けられ、前記レールに沿って移動可能な車輪と、
を含む、請求項2記載の極端紫外光源装置。 - 前記移動機構は、前記レーザ光導入光学系を内包する箱に取り付けられ、前記レーザ光導入光学系を吊下げるための係合部を含む、請求項2記載の極端紫外光源装置。
- 前記レーザ光導入光学系は複数の光学素子を含む、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
- 前記レーザ光導入光学系は、
前記レーザ光を第1の光路及び前記チャンバ内に向かう第2の光路に導くビームスプリッタと、
前記第1の光路に配置され、前記レーザ光を受光して信号を出力するレーザ光計測器と、
を含む、請求項1記載の極端紫外光生成装置。
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