JP6763077B2 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents

Description

本開示は、極端紫外光生成装置に関する。

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：extreme ultraviolet）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（laser produced plasma）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（discharge produced plasma）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（synchrotron radiation）式の装置との３種類の装置が提案されている。

特開２０１３−１７５４３１号公報 特開平１０−２６１６６２号公報

概要

本開示の１つの観点に係る極端紫外光源装置は、以下を備える：
Ａ．ターゲット物質にレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ：
Ｂ．前記チャンバ内に前記レーザ光を導入するためのレーザ光導入光学系を含む光学ユニット：
Ｃ．前記チャンバを支持するチャンバ基準部材であって、前記光学ユニットを収納する収納室を備えたチャンバ基準部材：
Ｄ．前記収納室内の所定の設置位置において、前記光学ユニットの第１部分と接した状態で前記光学ユニットの高さを所定の設置高さに位置決めする高さ位置決め機構；及び
Ｅ．前記収納室内において、前記光学ユニットの高さを案内高さに保った状態で前記光学ユニットを水平方向に直線的に移動させる移動機構であって、前記光学ユニットの第２部分と接した状態で前記設置位置に前記光学ユニットを案内する案内面が設けられた案内部材と、前記案内部材に設けられ、前記光学ユニットが前記設置位置に到達した状態において、前記第２部分を前記案内面から退避させる退避部とを含み、前記案内面によって前記設置位置に向けて案内される移動中の前記光学ユニットの前記案内高さは、前記設置高さと実質的に同一である移動機構。

本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。 図２は、ＥＵＶ光生成装置が露光装置に接続された状態を示す平面図である。 図３は、図２に示すＥＵＶ光生成装置及び露光装置のＩＩＢ−ＩＩＢ線における断面図である。 図４Ａは、比較例に係る、チャンバ基準部材に取り付けられた光学ユニットを、側方から見た状態の側面図である。 図４Ｂは、図４Ａの光学ユニットを、蓋を取り外したチャンバ基準部材の後方から見た状態の背面図である。 図４Ｃは、図４Ａの光学ユニットを、チャンバ基準部材の上方から見た状態の平面図である。 図５Ａは、比較例に係る、光学ユニットの取り付け機構の構成部分の一部を、斜め下方から見た分解斜視図である。 図５Ｂは、図５Ａの構成部分の一部を、斜め上方から見た分解斜視図である。 図６は、比較例に係る押し付けユニットの説明図である。 図７Ａは、比較例に係る光学ユニットを搭載した台車をチャンバ基準部材に寄せた状態の説明図である。 図７Ｂは、図７Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材に搬入する途中の第１の状態を示す説明図である。 図７Ｃは、図７Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材に搬入する途中の第２の状態を示す説明図である。 図７Ｄは、図７Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材内の所定の設置位置に設置した状態を示す説明図である。 図７Ｅは、図７Ａの光学ユニットに対して押し付けユニットを取り付ける状態を示す説明図である。 図７Ｆは、図７Ｅの後、チャンバ基準部材の蓋を取り付ける状態の説明図である。 図８Ａは、第１実施形態に係る、チャンバ基準部材に取り付けられた光学ユニットを、側方から見た状態の側面図である。 図８Ｂは、図８Ａの光学ユニットを、蓋を取り外したチャンバ基準部材の後方から見た状態の背面図である。 図８Ｃは、図８Ａの光学ユニットを、チャンバ基準部材の上方から見た状態の平面図である。 図９Ａは、第１実施形態に係る、光学ユニットの取り付け機構の構成部分の一部を、斜め下方から見た分解斜視図である。 図９Ｂは、図９Ａの構成部分の一部を、斜め上方から見た分解斜視図である。 図１０Ａは、第１実施形態に係る退避部の配置ピッチの説明図である。 図１０Ｂは、光学ユニットが図１０Ａとは別の状態にある配置ピッチの説明図である。 図１１Ａは、第１実施形態に係る光学ユニットを搭載した台車をチャンバ基準部材に寄せた状態の説明図である。 図１１Ｂは、図１１Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材に搬入する途中の第１の状態を示す説明図である。 図１１Ｃは、図１１Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材に搬入する途中の第２の状態を示す説明図である。 図１１Ｄは、図１１Ａの光学ユニットをチャンバ基準部材内の所定の設置位置に設置した状態を示す説明図である。 図１１Ｅは、図１１Ａの光学ユニットに対して押し付けユニットを取り付ける状態を示す説明図である。 図１１Ｆは、図１１Ｅの後、チャンバ基準部材の蓋を取り付ける状態の説明図である。 図１２は、レールの変形例を示す側面図である。 図１３は、レールの変形例を示す斜視図である。 図１４Ａは、第２実施形態に係る、チャンバ基準部材に取り付けられた光学ユニットを、側方から見た状態の側面図である。 図１４Ｂは、図１４Ａの光学ユニットを、蓋を取り外したチャンバ基準部材の後方から見た状態の背面図である。 図１４Ｃは、図８Ａの光学ユニットを、チャンバ基準部材の上方から見た状態の平面図である。 図１５Ａは、第２実施形態に係る、光学ユニットの取り付け機構の構成部分の一部を、斜め下方から見た分解斜視図である。 図１５Ｂは、図１５Ａの構成部分の一部を、斜め上方から見た分解斜視図である。 図１６Ａは、第２実施形態に係る退避部の配置ピッチの説明図である。 図１６Ｂは、光学ユニットが図１６Ａとは別の状態にある配置ピッチの説明図である。 図１７は、第３実施形態に係る押し付けユニットの平面図である。 図１８は、第３実施形態に係る押し付け部の説明図である。 図１９Ａは、第３実施形態に係る押し付けユニットの取り付け手順を示す第１の説明図である。 図１９Ｂは、図１９Ａの取り付け手順を示す第２の説明図である。

実施形態

＜内容＞
１．比較例
１．１ 極端紫外光生成システムの全体説明
１．１．１ 構成
１．１．２ 動作
１．２ ＥＵＶ光生成装置の詳細な説明
１．２．１ 構成
１．２．２ 動作
１．３ レーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
１．３．１ 構成
１．３．１．１ 高さ位置決め機構
１．３．１．２ 移動機構
１．３．１．３ 水平方向位置決め機構
１．３．２ 動作
１．４ 課題
２．第１実施形態
２．１ 第１実施形態のレーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
２．１．１ 構成
２．１．１．１ 高さ位置決め機構
２．１．１．２ 移動機構
２．１．１．３ 水平方向位置決め機構
２．１．２ 動作
２．２．レールの変形例
３．第２実施形態
３．１ 第２実施形態のレーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
３．１．１ 高さ位置決め機構
３．１．２ 移動機構
３．１．３ 水平方向位置決め機構
３．１．４ 動作
４． 第３実施形態
４．１． 水平方向位置決め機構の構成
４．２． 動作

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。

１．比較例
１．１ 極端紫外光生成システムの全体説明
１．１．１ 構成
図１において、極端紫外光生成システム１１の全体構成を概略的に示す。以下において、極端紫外光生成システム１１をＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光生成システムという。ＥＵＶ光生成システム１１は、極端紫外光生成装置であるＥＵＶ光生成装置１とレーザ装置３とを含む。ＥＵＶ光生成システム１１は、露光装置６の光源として使用される。ＥＵＶ光生成システム１１が生成するＥＵＶ光は、露光装置６に入力される。

ＥＵＶ光生成装置１は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりＥＵＶ光を生成するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）方式を採用している。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給装置２６及びレーザ光進行方向制御装置３４を含んでいる。

チャンバ２は、密閉可能である。ターゲット供給装置２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられている。ターゲット供給装置２６は、ターゲット物質として、例えば、溶融された錫（Ｓｎ）を用いる。ターゲット物質の材料は、錫に限られず、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンであってもよく、さらには、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。ターゲット供給装置２６は、ターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向けて出力するように配置されている。

レーザ光進行方向制御装置３４は、レーザ装置３から出力されるレーザ光３１の進行方向を規定するための光学系と、この光学系の配置、姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えている。レーザ光進行方向制御装置３４は、進行方向を制御したレーザ光３１を、チャンバ２に対してレーザ光３２として出力する。

チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられている。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられており、ウインドウ２１をレーザ光３２が透過する。チャンバ２の内部には、レーザ光集光ミラー２２及びＥＵＶ集光ミラー２３が配置されている。レーザ光集光ミラー２２は、ウインドウ２１を介してチャンバ２の内部に入射したレーザ光３２をＥＵＶ集光ミラー２３に向けて反射する。レーザ光集光ミラー２２で反射したレーザ光３２は、レーザ光３３としてＥＵＶ集光ミラー２３に向かう。

ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、回転楕円面形状の反射面を有する。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有する。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されている。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点が、プラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が、中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置される。また、ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、レーザ光集光ミラー２２で反射されたレーザ光３３を通過させるための貫通孔２４が設けられている。

ＥＵＶ光生成装置１は、さらに、ＥＵＶ光生成制御装置５及びターゲットセンサ４を含んでいる。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有しており、ターゲットの存在、軌道、位置、速度等を検出する。チャンバ２には、さらに、ターゲット回収部２８が設けられている。ターゲット回収部２８は、ターゲット供給装置２６から出力されたターゲット２７を回収する。

ＥＵＶ光生成制御装置５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するように構成される。ＥＵＶ光生成制御装置５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理する。そして、ＥＵＶ光生成制御装置５は、ターゲット２７を出力するタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御する。さらに、ＥＵＶ光生成制御装置５は、レーザ装置３の発振タイミング、レーザ光３２の進行方向、レーザ光３３の集光位置等を制御する。ＥＵＶ光生成制御装置５において、上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。

さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでいる。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられている。壁２９１は、そのアパーチャが、ＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点に相当する中間集光点２９２に位置するように配置される。

１．１．２ 動作
図１を参照してＥＵＶ光生成装置１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御装置３４を経て、レーザ光３２としてウインドウ２１を透過して、チャンバ２内に入射する。レーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、レーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射される。

ターゲット供給装置２６は、ターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向けて出力する。ターゲット２７には、レーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射される。レーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射される。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射される。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２を通って露光装置６に出力される。

１．２ ＥＵＶ光生成装置の詳細な説明
１．２．１ 構成
図２は、ＥＵＶ光生成装置１が露光装置６に接続された状態を示す平面図である。図３は、図２に示すＥＵＶ光生成装置１及び露光装置６のＩＩＢ−ＩＩＢ線における断面図である。

図２及び図３に示すように、ＥＵＶ光生成装置１は、設置機構７と、チャンバ基準部材９と、チャンバ２とを含んでいる。図３に示す床面１２に、ＥＵＶ光生成装置１及び露光装置６等が設置される。床面１２には設置機構７が設置される。設置機構７はチャンバ基準部材９を支持し、チャンバ基準部材９はチャンバ２を支持する。チャンバ基準部材９は、後述するように、ＥＵＶ光生成装置１に設けられる種々の光学系の位置関係の基準となる部材である。

設置機構７は、チャンバ基準部材９を移動させる機構を含んでおり、設置機構７によって、チャンバ基準部材９とチャンバ基準部材９に支持されるチャンバ２とが露光装置６に対して移動可能となっている。設置機構７は、チャンバ基準部材９を位置決めする機構を含んでいる。チャンバ基準部材９は、設置機構７によって露光装置６に対して位置決めされる。

チャンバ２は、略円筒形状をしており、略円筒形状を有するチャンバ２の軸方向の一端の開口がチャンバ基準部材９の一面によって塞がれるように、チャンバ基準部材９上に搭載されて固定されている。図３に示すように、チャンバ基準部材９には、例えば、床面１２と平行な水平面に対して傾斜する傾斜面が形成されており、この傾斜面にチャンバ２が固定されている。チャンバ２の軸方向は、プラズマ生成領域２５と中間集光点２９２とを結ぶ仮想軸に沿う方向である。略円筒形状を有するチャンバ２の軸方向の他端には、接続部２９が接続されている。

図３においては図示しないが、チャンバ２には、図１に示したようにターゲット供給装置２６が取り付けられている。ターゲット供給装置２６は、チャンバ２に固定されて、プラズマ生成領域２５にターゲットを供給する。

また、チャンバ２内において、ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、ＥＵＶ集光ミラーホルダ２３ａを介してチャンバ基準部材９に固定される。ＥＵＶ集光ミラー２３をチャンバ基準部材９に固定するため、チャンバ基準部材９に対するＥＵＶ集光ミラー２３の位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、ＥＵＶ集光ミラー２３の位置、姿勢等の変動も抑制される。チャンバ基準部材９を図示しないストッパーに押し付ける等して、露光装置６に対するチャンバ基準部材９の位置を正確に調整することにより、露光装置６に対するＥＵＶ集光ミラー２３の位置も正確に調整される。

チャンバ基準部材９内には、例えば、貫通孔を介してチャンバ２内部に連通する収納室９ａと、収納室９ａに隣接する収納室９ｂとが形成されている。収納室９ａと収納室９ｂとの間には、ウインドウ３８が設けられている。これにより、チャンバ２内の圧力が低圧に維持されると共に、チャンバ２内のガスが密閉される。収納室９ｂの後方は、開口部となっており、開口部には蓋９ｃが取り付けられる。収納室９ｂ内は蓋９ｃによって密閉可能である。

収納室９ａ内には、高反射ミラー９１とレーザ光集光ミラー９２とを含むレーザ光集光光学系が配置されている。収納室９ｂ内には、ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３とを含むレーザ光導入光学系が配置される。また、図２に示すように、収納室９ｂ内には、さらにレーザ光計測器３７が配置されている。

高反射ミラー９１とレーザ光集光ミラー９２とを含むレーザ光集光光学系は、それぞれのホルダによってチャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、ＥＵＶ集光ミラー２３に対するレーザ光集光光学系の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、レーザ光集光光学系の位置、姿勢等の変動が抑制される。従って、レーザ光集光光学系によってレーザ光が集光される位置が、ＥＵＶ集光ミラー２３に対して正確に設定され得る。なお、レーザ光集光ミラー９２は、軸外放物面ミラーでもよい。

ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３とを含むレーザ光導入光学系は、チャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、レーザ光集光光学系に対するレーザ光導入光学系の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、レーザ光導入光学系の位置、姿勢等の変動が抑制され得る。従って、レーザ光がレーザ光集光光学系に入射する位置、角度等が正確に設定され得る。

加えて、レーザ光計測器３７も、チャンバ基準部材９に位置決めされて固定される。これにより、レーザ光導入光学系に対するレーザ光計測器３７の相対的な位置、姿勢等のポジショニングの精度が高められると共に、位置、姿勢等の変動が抑制される。従って、レーザ光導入光学系を介してレーザ光計測器３７へ供給されるレーザ光の断面強度プロファイル、ポインティング、ダイバージェンス等をその計測器により正確に計測することが可能となる。

図２において、チャンバ基準部材９には、フレキシブル管９８を介して光路管９６が取り付けられている。光路管９６は、レーザ装置３に接続されている。光路管９６内には、高反射ミラー９７が配置されている。

図３に示すように、露光装置６は、複数の高反射ミラー６ａ〜６ｄを含む反射光学系を備えている。露光装置６には、マスクテーブルＭＴと、ワークピーステーブルＷＴとが設置されている。露光装置６は、例えば、マスクテーブルＭＴ上のマスクにＥＵＶ光を照射し、マスクの像をワークピーステーブルＷＴ上のワークピース（半導体ウエハ等）に投影する。ここで、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同時に平行移動させることにより、マスクのパターンがワークピース上に転写される。

１．２．２ 動作
図２に示すように、レーザ装置３から出力されるレーザ光が、高反射ミラー９７によって反射されることにより、レーザ光がチャンバ基準部材９の収納室９ｂに向けて供給される。

収納室９ｂ内に供給されたレーザ光は、レーザ光導入光学系を構成するビームスプリッタ５２に入射する。ビームスプリッタ５２は、入射したレーザ光を高い反射率で高反射ミラー５３に向けて反射すると共に、入射したレーザ光の一部をレーザ光計測器３７に向けて透過させる。高反射ミラー５３は、ビームスプリッタ５２によって反射されたレーザ光を反射することにより、ウインドウ３８を介して収納室９ａ内にレーザ光を導入する。

収納室９ａ内に導入されたレーザ光は、レーザ光集光光学系を構成する高反射ミラー９１に入射する。高反射ミラー９１は、入射したレーザ光をレーザ光集光ミラー９２に向けて反射する。レーザ光集光ミラー９２は、高反射ミラー９１によって反射されたレーザ光を反射してプラズマ生成領域２５に集光する。プラズマ生成領域２５において、ターゲット供給装置２６（図１参照）から供給されるターゲットにレーザ光が照射されることにより、そのターゲットがプラズマ化し、ＥＵＶ光を含む放射光が生成される。ＥＵＶ光は、中間集光点２９２を通って露光装置６に出力される。

１．３ レーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
１．３．１ 構成
図４Ａ〜図４Ｃ、図５Ａ及び図５Ｂは、レーザ光導入光学系をチャンバ基準部材９に対して取り付ける取り付け機構１０の説明図である。ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３とを含むレーザ光導入光学系は、取り付け台５４に固定される。取り付け台５４は、例えば、本体部５４ａと３本の脚部５４ｂとを備えたテーブル状をしている。本体部５４ａは、ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３が取り付けられる取り付けプレートである。ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３は、本体部５４ａの上面の所定位置に取り付けられて固定される。

取り付け台５４へのビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３の取り付けは、チャンバ基準部材９の外部において行われる。そして、ビームスプリッタ５２及び高反射ミラー５３と、これらが取り付けられた取り付け台５４が一体となった光学ユニット５６がチャンバ基準部材９内に搬入されて、光学ユニット５６がチャンバ基準部材９の所定の設置位置において位置決めされて固定される。

光学ユニット５６は、例えば、メンテナンスの際に、チャンバ基準部材９からの取り外しと、チャンバ基準部材９への取り付けが行われる。ＥＵＶ光生成装置１は、光学ユニット５６をチャンバ基準部材９に対して取り付けるための取り付け機構１０を備えている。

図４Ａ〜図４Ｃは、取り付け機構１０と、チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内の所定の設置位置に位置決めされて固定された状態の光学ユニット５６の説明図である。図４Ａは、チャンバ基準部材９に取り付けられた光学ユニット５６と取り付け機構１０を、チャンバ基準部材９の側方から見た状態の側面図であり、図４Ｂは、光学ユニット５６と取り付け機構１０を、蓋９ｃを取り外したチャンバ基準部材９の後方から見た状態の背面図であり、図４Ｃは、チャンバ基準部材９の上方から見た状態の平面図である。説明を容易にするために、図４Ｃではチャンバ基準部材９の一部を省略して図示する。以下、同様に各部材の一部を適宜省略して図示する場合がある。また、図５Ａ及び図５Ｂは、光学ユニット５６の取り付け台５４と取り付け機構１０の構成部分の一部を示す分解斜視図であり、図５Ａは、斜め下側から見た斜視図であり、図５Ｂは、斜め上側から見た斜視図である。図４Ｃ、図５Ａ及び図５Ｂにおいては、図面の煩雑化を避けるため、取り付け台５４に取り付けられるビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３の図示を省略化している。

なお、ここで、Ｘ方向をチャンバ基準部材９の前後方向、Ｙ方向をチャンバ基準部材９の幅方向、Ｚ方向をチャンバ基準部材９の高さ方向といい、Ｘ方向及びＹ方向を総称して水平方向という。また、Ｘ方向において、蓋９ｃが取り付けられる側をチャンバ基準部材９の後方、チャンバ２が取り付けられる側をチャンバ基準部材９の前方という。

取り付け機構１０は、移動機構と、位置決め機構とを含む。移動機構は、チャンバ基準部材９の内部に搬入される光学ユニット５６を、チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内において所定の設置位置まで移動させる機構である。位置決め機構は、設置位置において光学ユニット５６を位置決めする機構である。位置決め機構は、光学ユニット５６の高さ方向（Ｚ方向）の位置決めを行う高さ位置決め機構と、水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）の位置決めを行う水平方向位置決め機構とを含む。光学ユニット５６は、高さ位置決め機構によって、チャンバ基準部材９の底面９ｄからの高さが位置決めされる。

１．３．１．１ 高さ位置決め機構
図４Ａ〜図４Ｃ、及び図５Ａに示すように、底面９ｄには、マウント６１が設けられている。マウント６１の位置は、収納室９ｂ内における光学ユニット５６の設置位置を規定する。したがって、設置位置において、光学ユニット５６の取り付け台５４の脚部５４ｂがマウント６１に載置される。図４Ｃ及び図５Ａに示すように、脚部５４ｂは、例えば、本体部５４ａの前方側に２本、後方側に１本の合計３本が設けられている。マウント６１は、取り付け台５４の３本の脚部５４ｂの数に対応して３個設けられており、各マウント６１の配置間隔も脚部５４ｂの配置間隔に対応している。

図４Ａ及び図４Ｂに示すように、３本の脚部５４ｂが各マウント６１上に載置されると、取り付け台５４の高さ、より具体的には本体部５４ａの上面の高さが、底面９ｄからＴ１の高さに位置決めされる。すなわち、脚部５４ｂとマウント６１とは、光学ユニット５６の高さ位置決め機構を構成する。所定の厚みＴＨのマウント６１を底面９ｄに設置することで、本体部５４ａの高さが所定の高さＴ１に位置決めされる。ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３を含むレーザ光導入光学系は、取り付け台５４に固定されているので、取り付け台５４の高さを位置決めすることで、レーザ光導入光学系の高さが位置決めされる。ここで、高さＴ１を設置高さと呼ぶ。

マウント６１は、平板状のプレートであり、チャンバ基準部材９の後方に向かう一端には、図４Ａ及び図５Ａに示すように、底面９ｄに向かって傾斜するスロープ６１ａが設けられている。スロープ６１ａは、取り付け台５４が底面９ｄからマウント６１の上面に乗り上げるためのスロープである。取り付け台５４を移動しやすいように、取り付け台５４の脚部５４ｂの下端には、回転体であるボールキャスタ５４ｃが設けられている。取り付け台５４は、ボールキャスタ５４ｃを回転させながら、底面９ｄやマウント６１のスロープ６１ａを走行する。

１．３．１．２ 移動機構
図４Ａ〜図４Ｃ、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、移動機構は、回転体である車輪６２とレール６３とで構成されている。車輪６２は、取り付け台５４の本体部５４ａにおいて、移動方向（Ｘ方向）と直交する幅方向（Ｙ方向）の両側の左右の側面にそれぞれ２つずつ設けられている。レール６３は２本有り、各レール６３は、チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内部における左右の側壁にそれぞれ取り付けられている。左右の各レール６３の幅方向（Ｙ方向）の配置間隔は、取り付け台５４の左右の各車輪６２の配置間隔に対応している。レール６３は、光学ユニット５６を案内する移動方向であるＸ方向に沿って延びる案内部材である。レール６３は、上面に案内面６３ａを備えている。案内面６３ａは、車輪６２が接した状態で走行する走行面であり、光学ユニット５６を設置位置に案内する。

図４Ｂに示すように、各レール６３は、案内面６３ａの幅方向の一端が垂直に立ち上がっており、Ｙ−Ｚ平面の断面形状がＬ字形状となっている。レール６３は、案内面６３ａから立ち上がる立ち上がり部分が、収納室９ｂの側壁に接した状態で取り付けられる。

また、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、底面９ｄからの各レール６３の案内面６３ａまでの高さＴＲは、取り付け台５４が底面９ｄに直接載置された状態における、底面９ｄから車輪６２の下端までの高さと同じである。取り付け台５４が底面９ｄに直接載置された状態とは、取り付け台５４の脚部５４ｂが底面９ｄにおいてマウント６１に載置されていない状態に相当する。

一方、取り付け台５４の脚部５４ｂがマウント６１上に載置された状態では、車輪６２の高さがマウント６１の厚みＴＨ分上昇するため、光学ユニット５６の高さが上昇する。この状態では、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、各レール６３の案内面６３ａと車輪６２の下端とが離間して、両者の間に厚みＴＨに相当する隙間が生じる。

チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内に光学ユニット５６が搬入された場合において、取り付け台５４の脚部５４ｂがマウント６１に載置されていない状態では、各レール６３と取り付け台５４の両側の各車輪６２が接する。そして、左右の各レール６３の配置間隔は、左右の各車輪６２の配置間隔に対応しているため、幅方向において車輪６２の進路が各レール６３によって規制される。このように、脚部５４ｂがマウント６１に載置されていない状態では、車輪６２の進路がレール６３の案内面６３ａによって規制される。これにより、光学ユニット５６がＸ方向に沿って直進し、設置位置に向けて案内される。

１．３．１．３ 水平方向位置決め機構
図４Ｃ、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、水平方向位置決め機構は、突き当てピン６６ａ、６６ｂと、Ｖ型ブロック６７ａと、平型ブロック６７ｂと、押し付けユニット６８とを含む。突き当てピン６６ａ、６６ｂは、収納室９ｂ内に設けられており、底面９ｄの所定位置に配置されている。突き当てピン６６ａ、６６ｂは、取り付け台５４の前端部と当接して、光学ユニット５６のＸ方向の移動を規制する。ここで、取り付け台５４の前端部は、移動方向であるＸ方向における第１端部に相当する。

Ｖ型ブロック６７ａと平型ブロック６７ｂは、取り付け台５４の本体部５４ａの前端部に設けられている。Ｖ型ブロック６７ａと平型ブロック６７ｂの本体部５４ａの幅方向における配置間隔は、突き当てピン６６ａ、６６ｂの配置間隔に対応している。Ｖ型ブロック６７ａは突き当てピン６６ａに、平型ブロック６７ｂは突き当てピン６６ｂにそれぞれ当接する位置に配置されている。

突き当てピン６６ａ、６６ｂのＸ−Ｙ平面の断面形状である水平断面形状は、円形である。Ｖ型ブロック６７ａにおいて、突き当てピン６６ａとの当接部分は、水平断面形状がＶ形のＶ溝形状であり、中央部分が後方に向けて凹んでいる。一方、平型ブロック６７ｂは、突き当てピン６６ｂとの当接部分が平面である。

光学ユニット５６は、マウント６１上の設置位置において前方に向かって押されると、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂのそれぞれが、突き当てピン６６ａ、６６ｂのそれぞれと当接し、光学ユニット５６のＸ方向の前方への移動が規制される。また、Ｖ型ブロック６７ａにおいては、Ｖ溝内に断面が円形の突き当てピン６６ａが進入し、突き当てピン６６ａの円周上の２点がＶ溝に当接する適正位置に突き当てピン６６ａが入り込むと、光学ユニット５６のＹ方向の移動も規制される。

図４Ｃに示すように、押し付けユニット６８は、押しつけ部７１と取り付け基材７２とを備えている。押し付け部７１は、取り付け台５４の後端部から取り付け台５４を突き当てピン６６ａ、６６ｂに押し付ける。取り付け台５４の後端部は、Ｘ方向において第１端部とは反対側の第２端部に相当する。

取り付け基材７２は、細板状の部材であり、長手方向がチャンバ基準部材９の幅方向（Ｙ方向）に延びている。取り付け基材７２は、両端が各レール６３の後端に到達する長さを有しており、両端が、各レール６３の後端に、例えば図示しないボルトなどで固定される。押し付け部７１は、取り付け台５４の幅方向の中央と当接するように、取り付け基材７２の長手方向（Ｙ方向）のほぼ中央に取り付けられている。

図６は、押し付けユニット６８と押し付けユニット６８によって押圧される取り付け台５４を側面から見た状態を示す説明図である。押し付け部７１は、本体部であるハウジング７１ａ、ヘッド部７１ｂ、及び皿バネ７１ｃを備えている。ヘッド部７１ｂは、ハウジング７１ａに対して前後方向（Ｘ方向）において進退自在に取り付けられた可動部であり、取り付け台５４の後端部と当接する。皿バネ７１ｃは、ハウジング７１ａ内に収容されており、ヘッド部７１ｂに対して前方に向けて、バネの弾性による付勢力を付与する。この付勢力がヘッド部７１ｂを取り付け台５４に対して付与されて、取り付け台５４が突き当てピン６６ａ、６６ｂに押し付けられる。

ハウジング７１ａの外周には、雄ネジ７１ｄが形成されている。押し付け部７１は、取り付け基材７２に対して、後端からハウジング７１ａまでの部分が埋め込まれ、ヘッド部７１ｂを含む前端部分が、取り付け基材７２の前端から突出した状態で取り付けられる。取り付け基材７２において、ハウジング７１ａを収容する収容部分の内周面には、ハウジング７１ａの雄ネジ７１ｄと係合する、図示しない雌ネジが形成されている。これにより、取り付け基材７２に対して押し付け部７１を軸回りに回転させると、押し付け部７１のハウジング７１ａの前方への突出量が調節される。

皿バネ７１ｃは、周知のように、一方が凸面、他方が凹面の円盤形状をしたバネである。皿バネ７１ｃは、凸面が凹むように弾性変形すると、弾性に基づく反力を付勢力として発生する。皿バネ７１ｃは、コイルバネなどと比較して小さな撓みで大きな反力を発生する。
そのため、省スペース化が可能である。

皿バネ７１ｃの中央には、図示しない軸穴が形成されており、軸穴には図示しない取り付け軸が挿通される。押し付け部７１は、複数枚の皿バネ７１ｃを備えている。複数枚の皿バネ７１ｃは、取り付け軸の軸方向に沿って積み重ねられた状態で配列される。複数枚の皿バネ７１ｃは、一端側がハウジング７１ａと、他端側がヘッド部７１ｂと当接している。ハウジング７１ａとヘッド部７１ｂの間隔が狭められて、複数枚の皿バネ７１ｃが軸方向の両側から挟み込まれると、各皿バネ７１ｃが弾性変形して、付勢力を発生する。皿バネ７１ｃの枚数が多いほど、発生する付勢力も大きい。

また、ハウジング７１ａは取り付け基材７２に固定されるため、複数枚の皿バネ７１ｃの付勢力は、ヘッド部７１ｂを前方に突き出す方向に作用する。これにより、ヘッド部７１ｂから取り付け台５４に対して押し付け力が付与される。

上述したとおり、取り付け基材７２を各レール６３の後端に固定した状態で、押し付け部７１を軸回りに回転させると、ハウジング７１ａの前方への突出量が調節される。ヘッド部７１ｂが取り付け台５４と当接した状態では、ハウジング７１ａが前方へ突出すると、ハウジング７１ａとヘッド部７１ｂの間隔が狭まり、各皿バネ７１ｃの弾性変形量は増加する。付勢力は各皿バネ７１ｃの弾性変形量が多いほど大きくなるため、ハウジング７１ａの前方への突出量を調節することにより、各皿バネ７１ｃが発生する付勢力が調節される。このように、押し付けユニット６８から取り付け台５４に付与される押し付け力は、ハウジング７１ａの突出量を通じて調節される。

１．３．２ 動作
図７Ａ〜図７Ｅを参照して、チャンバ基準部材９への光学ユニット５６の取り付けに際しての取り付け機構１０の動作を説明する。

動作の説明の前提として、光学ユニット５６の取り付けに使用する台車７６を説明する。図７Ａに示すように、台車７６は、台車部７６ａ、支持部７６ｂ、保持レール７６ｃ、昇降部７６ｄを備えている。台車部７６ａは車輪を有しており、床面１２上を走行可能である。支持部７６ｂは、例えば、細長形状の２本の支持プレートで構成され、取り付け台５４の脚部５４ｂの間に挿入されて、取り付け台５４の下面を支持する。保持レール７６ｃは、支持部７６ｂをＸ方向に移動自在に保持する。昇降部７６ｄは、保持レール７６ｃと支持部７６ｂのＺ方向の高さを調節する。支持部７６ｂや昇降部７６ｄは、電動で駆動されてもよいし、手動で駆動されてもよい。

図７Ａに示すように、光学ユニット５６をチャンバ基準部材９に対して取り付ける場合には、光学ユニット５６の前方と台車７６の前方が一致する姿勢で、光学ユニット５６を台車７６の支持部７６ｂ上に搭載する。この状態で、台車７６を走行させて、光学ユニット５６の前方とチャンバ基準部材９の後方とが対面するように、台車７６を設置機構７の後端に寄せる。収納室９ｂの背面は、蓋９ｃが取り外された状態では開口部となっており、光学ユニット５６は、この開口部から収納室９ｂ内に搬入される。

台車７６を設置機構７に寄せた後、昇降部７６ｄを駆動して、支持部７６ｂに搭載された光学ユニット５６の高さを所定の高さに調節する。具体的には、底面９ｄから本体部５４ａの上面までの高さがＴ２となるように、支持部７６ｂ上の光学ユニット５６の高さが調節される。高さＴ２は、マウント６１上に光学ユニット５６を載置した場合の設置高さＴ１よりも、マウント６１の厚みＴＨ分低い。すなわち、Ｔ２＝Ｔ１−ＴＨである。

高さＴ２は、設置高さＴ１よりもマウント６１の厚みＴＨ分低い高さであるため、底面９ｄの高さと、脚部５４ｂのボールキャスタ５４ｃの下端までの高さとが一致する。また、高さＴ２においては、レール６３の案内面６３ａの高さＴＲと、車輪６２の下端の高さが一致する。

台車７６において、光学ユニット５６の高さが高さＴ２に調節された後、光学ユニット５６の収納室９ｂ内への搬入が開始される。ここで、高さＴ２は、光学ユニット５６を設置位置に案内するまでの光学ユニット５６の高さであるため、設置高さＴ１と区別して、案内高さＴ２と呼ぶ。

図７Ｂに示すように、光学ユニット５６が搭載された支持部７６ｂが、保持レール７６ｃに対してＸ方向の前方に移動する。これにより、光学ユニット５６が収納室９ｂの開口部から収納室９ｂ内に搬入される。光学ユニット５６の高さは、案内高さＴ２に調節されているので、収納室９ｂ内に搬入された光学ユニット５６は、車輪６２の下端がレール６３の案内面６３ａに接地する。また、この状態では、脚部５４ｂのボールキャスタ５４ｃも、収納室９ｂ内の底面９ｄに接地する

図７Ｃに示すように、図７Ｂに示す状態から、光学ユニット５６を収納室９ｂの前方に押し入れる。図７Ｂに示す段階で、光学ユニット５６の車輪６２は、レール６３の案内面６３ａに接地している。そのため、この状態で、光学ユニット５６が後方から前方に向けて送り出されると、車輪６２がレール６３の案内面６３ａを走行して、光学ユニット５６がＸ方向に沿って収納室９ｂの前方に移動し、設置位置に向けて案内される。

また、図７Ｂに示す段階では、光学ユニット５６のボールキャスタ５４ｃも、収納室９ｂ内の底面９ｄに接地しており、光学ユニット５６が移動する際には、ボールキャスタ５４ｃも底面９ｄを走行する。

また、ボールキャスタ５４ｃや車輪６２は回転体であるため、回転体の作用により、光学ユニット５６の移動に際しての摩擦抵抗が低減される。そのため、比較的軽い力で光学ユニット５６を移動させることができる。

図４Ｃ及び図５Ａに示したように、脚部５４ｂ及びマウント６１は、それぞれ、前方に２つ、後方に１つ設けられており、前方の２つのマウント６１の位置と、後方の１つのマウント６１の位置は、幅方向（Ｙ方向）において異なっている。そのため、収納室９ｂ内において、光学ユニット５６がＸ方向に移動する際に、前方の脚部５４ｂのボールキャスタ５４ｃが後方のマウント６１と干渉することはない。光学ユニット５６の各脚部５４ｂのボールキャスタ５４ｃは、マウント６１に到達するまで底面９ｄを走行し、その間、車輪６２は、レール６３の案内面６３ａ上を走行する。

図７Ｄに示すように、各脚部５４ｂのボールキャスタ５４ｃがマウント６１の直前位置に到達した後、さらに光学ユニット５６を前方に移動させると、ボールキャスタ５４ｃがスロープ６１ａを走行して、光学ユニット５６が案内高さＴ２から設置高さＴ１に向けて上昇を開始する。ボールキャスタ５４ｃがスロープ６１ａを登坂して、光学ユニット５６がマウント６１に乗り上がると、光学ユニット５６がマウント６１に載置された状態となる。光学ユニット５６がマウント６１に載置された設置位置では、車輪６２もレール６３の案内面６３ａから離間して、両者の間には厚みＴＨ分の隙間が生じる。これにより、マウント６１の厚みＴＨによって、光学ユニット５６の高さが設置高さＴ１に位置決めされる。

一方、光学ユニット５６が設置位置にある状態で、さらにＸ方向に押し込まれると、Ｖ型ブロック６７ａと平型ブロック６７ｂが、それぞれ突き当てピン６６ａ、６６ｂに当接して、光学ユニット５６のＸ方向の前方への移動が規制される。

この状態で、図７Ｅに示すように、押し付けユニット６８が取り付けられる。押し付けユニット６８の取り付けにおいては、まず、取り付け基材７２をレール６３の後端に固定する。押し付け部７１は、取り付け基材７２に取り付けられているため、取り付け基材７２をレール６３に固定すると、押し付け部７１のヘッド部７１ｂが取り付け台５４の後端に当接する。

取り付け基材７２を固定した後、取り付け基材７２に対する押し付け部７１のハウジング７１ａの前方への突出量を調節して、押し付けユニット６８から取り付け台５４への押し付け力が調節される。ハウジング７１ａは、取り付け基材７２にネジで係合しているため、取り付け基材７２に対してハウジング７１ａを回転させて、ネジの送りによって、ハウジング７１ａの前方への突出量が調節される。これにより、ハウジング７１ａとヘッド部７１ｂに挟み込まれた複数枚の皿バネ７１ｃの弾性変形量が変化して、ヘッド部７１ｂから取り付け台５４への押し付け力が調節される。

押し付けユニット６８の押し付け力が目標の押し付け力に調節されると、取り付け台５４のＶ型ブロック６７ａと平型ブロック６７ｂがそれぞれ、突き当てピン６６ａ、６６ｂに押し付けられる。目標の押し付け力で取り付け台５４がＸ方向に押し付けられることにより、光学ユニット５６のＸ方向の位置決めが行われる。また、Ｖ型ブロック６７ａのＶ溝の適正位置に突き当てピン６６ａが入り込むと、光学ユニット５６のＹ方向の位置決めも行われる。これにより、光学ユニット５６の水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）の位置決めが行われる。水平方向の位置決め後、図７Ｆに示すように、蓋９ｃがチャンバ基準部材９に取り付けられて、収納室９ｂ内が密閉される。

１．４ 課題
こうした比較例の取り付け機構１０では、台車７６から光学ユニット５６を収納室９ｂに搬入した直後の光学ユニット５６の案内高さＴ２と、光学ユニット５６をマウント６１上に載置した状態の設置高さＴ１とが異なる。設置高さＴ１は、案内高さＴ２と比べて、マウント６１の厚みＴＨ分高い。

そのため、収納室９ｂ内において、光学ユニット５６を案内高さＴ２から、マウント６１上の設置高さＴ１まで上昇させなければならない。マウント６１の厚みＴＨは、例えば約２ｍｍ程度であるが、光学ユニット５６の重量が比較的重いと、スロープ６１ａを登坂させる際に、勢いを付けて光学ユニット５６を押し上げなくてはならない。その場合、ボールキャスタ５４ｃとスロープ６１ａとが衝突する際の衝撃や、光学ユニット５６がスロープ６１ａを登坂直後、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂと、各突き当てピン６６ａ、６６ｂとが衝突する際の衝撃が大きくなる場合がある。

こうした衝突の衝撃が大きいと、取り付け台５４上に固定されるビームスプリッタ５２や高反射ミラー５３を含むレーザ導入光学系の光学的なアライメントがずれてしまうおそれがあった。ターゲット物質にレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化するＥＵＶ光生成装置においては、レーザ光導入光学系の光学的アライメントは非常に重要であり、アライメントのずれをできるだけ抑制することが求められる。

２．第１実施形態
次に、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１Ａについて説明する。第１の実施形態においても、比較例において説明したＥＵＶ光生成装置１及びＥＵＶ光生成装置１を用いるＥＵＶ光生成システムの全体的な構成はほぼ同様である。第１実施形態と比較例の主な相違点は、レーザ光導入光学系の取り付け機構であり、以下、相違点を中心に説明する。以下において、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。

２．１ 第１実施形態のレーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
２．１．１ 構成
図８Ａ〜図８Ｃ、図９Ａ及び図９Ｂは、第１実施形態のレーザ光導入光学系をチャンバ基準部材９に対して取り付ける取り付け機構１０Ａの説明図である。第１実施形態の取り付け台１５４は、本体部１５４ａとボールキャスタ１５４ｃとを備えている。図８Ａ、図８Ｂ及び図９Ａに示すようにボールキャスタ１５４ｃは、本体部１５４ａの下面に一部を埋め込んだ状態で取り付けられている。ビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３は、本体部１５４ａの上面の所定位置に取り付けられて固定される。

なお、第１実施形態において、取り付け台１５４は、比較例の取り付け台５４と異なり、脚部５４ｂを備えていないが、もちろん、脚部５４ｂを備えていてもよい。

比較例と同様に、第１実施形態においても、取り付け台１５４へのビームスプリッタ５２と高反射ミラー５３の取り付けは、チャンバ基準部材９の外部において行われる。また、第１実施形態の取り付け機構１０Ａは、比較例と同様に、メンテナンスの際に、取り付け台１５４を含む光学ユニット１５６を、チャンバ基準部材９に対して取り付けるために使用される。

図８Ａ〜図８Ｃは、取り付け機構１０Ａと、チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内の所定の設置位置に位置決めされて固定された状態の光学ユニット１５６の説明図であり、比較例の比較例の図４Ａ〜図４Ｃに対応する。また、図９Ａ及び図９Ｂは、光学ユニット１５６の取り付け台１５４と取り付け機構１０Ａの構成部分の一部を示す分解斜視図であり、比較例の図５Ａ及び図５Ｂに対応する。

第１実施形態の取り付け機構１０Ａも、移動機構と位置決め機構とを含み、位置決め機構は、高さ位置決め機構と水平方向位置決め機構とを含む。光学ユニット１５６は、高さ位置決め機構によって、チャンバ基準部材９の底面９ｄからの高さが位置決めされる。

２．１．１．１ 高さ位置決め機構
図８Ａ〜図８Ｃ、及び図９Ａに示すように、底面９ｄには、マウント１６１が設けられている。マウント１６１には、取り付け台５４のボールキャスタ１５４ｃが載置される。図８Ｃ及び図９Ａに示すように、ボールキャスタ１５４ｃは、例えば、本体部５４ａの前方側に２個、後方側に１個の合計３個が設けられている。各マウント１６１は、ボールキャスタ１５４ｃの数に対応して３個設けられており、各マウント１６１の配置間隔もボールキャスタ１５４ｃの配置に対応している。

図８Ａ及び図８Ｂに示すように、３個のボールキャスタ１５４ｃが各マウント１６１上に載置されると、取り付け台１５４の高さ、より具体的には本体部１５４ａの上面の高さが、底面９ｄから設置高さＴ１に位置決めされる。第１実施形態においても、比較例のマウント６１と同様に、マウント１６１は、収納室９ｂ内の設置位置において、光学ユニット１５６のボールキャスタ１５４ｃと接した状態で光学ユニット１５６の高さを所定の設置高さＴ１に位置決めする高さ位置決め機構を構成する。これにより、取り付け台１５４に固定されているレーザ光導入光学系の高さが位置決めされる。ボールキャスタ１５４ｃは光学ユニット１５６の第１部分に相当する。

マウント１６１は、平板状のプレートである。比較例のマウント６１と異なり、マウント１６１には、スロープは設けられていない。

２．１．１．２ 移動機構
図８Ａ〜図８Ｃ、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、移動機構は、車輪１６２とレール１６３とで構成されている。車輪１６２は、取り付け台１５４の本体部１５４ａの幅方向（Ｙ方向）の両側の左右の側面にそれぞれ３つずつ設けられている。

比較例と同様に、レール１６３は２本有り、各レール１６３は、チャンバ基準部材９の収納室９ｂ内部における左右の側壁にそれぞれ取り付けられている。また、図８Ｂに示すように、各レール１６３は、比較例のレール６３と同様に、断面がＬ字形状となっており、収納室９ｂの側壁に取り付けられる。左右の各レール６３の幅方向（Ｙ方向）の配置間隔は、取り付け台１５４の左右の各車輪１６２の配置間隔に対応している。

図８Ａ、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、第１実施形態のレール１６３は、比較例のレール６３と同様に、光学ユニット１５６を案内する移動方向であるＸ方向に沿って延びる案内部材である。レール１６３は、上面に、車輪１６２が接して走行する案内面１６３ａを備えている。案内面１６３ａは、比較例と同様に、車輪１６２が接した状態で走行する走行面であり、光学ユニット１５６を設置位置に案内する。

こうした車輪１６２及びレール１６３を備える移動機構は、収納室９ｂ内において、光学ユニット１５６の高さを一定に保った状態で光学ユニット１５６を水平方向に直線的に移動させる。

車輪１６２は、案内面１６３ａと接した状態で回転する回転体であり、光学ユニット１５６の第２部分に相当する。車輪１６２は、Ｘ方向に沿って１つのレール１６３に対して３個配置されている。

また、レール１６３には、比較例と異なり、案内面１６３ａに加えて、退避部１６３ｂが設けられている。退避部１６３ｂは、案内面１６３ａよりも一段低い有底の凹部である。退避部１６３ｂは、車輪１６２の数及び配置間隔に対応して、１つのレール１６３に対して３箇所設けられている。図８Ａに示すように、光学ユニット１５６がマウント１６１に載置された状態では、退避部１６３ｂと車輪１６２との間には隙間が生じる。すなわち、退避部１６３ｂは、光学ユニット１５６がマウント１６１上の設置位置に到達した状態において、移動機構を構成する車輪１６２を案内面１６３ａから退避させる。

これにより、案内面１６３ａと車輪１６２とが離間して、移動機構による案内が終了する。このため、光学ユニット１５６がマウント１６１上の設置位置にある状態では、レール１６３及び車輪１６２による干渉を受けずに、マウント１６１の厚みＴＨのみによって設置高さＴ１に位置決めされる。

また、底面９ｄからのレール１６３の案内面１６３ａまでの高さＴＲは、光学ユニット１５６が設置高さＴ１にある状態における底面９ｄから車輪１６２の下端までの高さと同じである。すなわち、第１実施形態においては、比較例と異なり、レール１６３の案内面１６３ａによって設置位置に向けて案内される移動中の光学ユニット１５６の案内高さは、設置高さＴ１と同一である。

また、図１０Ａに示すように、移動方向（Ｘ方向）に沿って配置された３個の車輪１６２の配置ピッチは不等間隔である。具体的には、前方から１番目と２番目の車輪１６２のピッチＰ１と、２番目の車輪１６２と２番目の車輪１６２のピッチＰ２が異なっている。レール１６３の３個の退避部１６３ｂの配置ピッチは、３個の車輪１６２の配置ピッチに対応している。すなわち、退避部１６３ｂは、車輪１６２と同数設けられており、設置位置にある光学ユニット１５６の３個の車輪１６２のそれぞれと対向する位置にそれぞれ配置されている。

図１０Ｂに示すように、車輪１６２がレール１６３の案内面１６３ａを走行して、光学ユニット１５６が、図１０Ａに示す設置位置に到達するまでの間において、１番目の車輪１６２と２番目の車輪１６２は、少なくとも１つの退避部１６３ｂの上方を通過する。この際に、３個の車輪１６２は、不等間隔になっているため、設置位置に到達するまでの間においては、３個の車輪１６２が同時に退避部１６３ｂの上方を通過することはない。少なくとも１つの車輪１６２が退避部１６３ｂの上方を通過している間、２つの車輪１６２が案内面１６３ａに接地している状態が保たれる。

２．１．１．３ 水平方向位置決め機構
図８Ｃ、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、水平方向位置決め機構は、比較例と同様に、突き当てピン６６ａ、６６ｂと、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂと、押し付けユニット６８とで構成されている。第１実施形態の水平位置決め機構の各部の構成や機能についても比較例と同様である。

２．１．２ 動作
図１１Ａ〜図１１Ｆを参照して、チャンバ基準部材９への光学ユニット１５６の取り付けに際しての取り付け機構１０Ａの動作を説明する。第１実施形態においても、比較例と同様に、取り付けに際しては台車７６が使用される。

図１１Ａに示すように、第１実施形態においても、光学ユニット１５６をチャンバ基準部材９に対して取り付ける場合には、比較例と同様の姿勢で、光学ユニット５６を台車７６の支持部７６ｂ上に搭載する。この状態で、光学ユニット５６の前方とチャンバ基準部材９の後方とが対面するように、台車７６を設置機構７の後端に寄せる。

この後、昇降部７６ｄを駆動して、支持部７６ｂに搭載された光学ユニット５６の高さを所定の高さに調節する。第１実施形態においては、比較例と異なり、底面９ｄから本体１５４ａの上面までの高さが設置高さＴ１と同じ高さとなるように、支持部７６ｂ上の光学ユニット５６の高さが調節される。設置高さＴ１においては、案内面１６３ａの高さとボールキャスタ１５４ｃの下端の高さが一致する。

台車７６において、光学ユニット１５６の高さが設置高さＴ１に調節された後、光学ユニット１５６の収納室９ｂ内への搬入が開始される。すなわち、第１実施形態においては、設置高さＴ１と、光学ユニット５６を設置位置に案内するまでの光学ユニット５６の案内高さが同一であるため、設置高さＴ１でＸ方向への案内が開始される。

図１１Ｂに示すように、光学ユニット１５６が搭載された支持部７６ｂが、保持レール７６ｃに対してＸ方向の前方に移動する。これにより、光学ユニット１５６が収納室９ｂ内に搬入される。光学ユニット１５６の高さは、設置高さＴ１に調節されているので、収納室９ｂ内に搬入された光学ユニット１５６は、車輪１６２の下端がレール１６３の案内面１６３ａに接地する。一方、ボールキャスタ１５４ｃは、マウント６１上の設置位置に到達するまでの間は、底面９ｄに接地しない。

図１１Ｃに示すように、図１１Ｂに示す状態から、光学ユニット１５６を収納室９ｂの前方に押し入れる。図１１Ｂに示す段階で、車輪１６２はレール１６３の案内面１６３ａに接地している。そのため、光学ユニット１５６は、車輪１６２がレール１６３の案内面１６３ａをそれぞれ走行して、収納室９ｂの前方に移動する。車輪１６２の作用により、光学ユニット１５６の移動に際しての抵抗が低減されるので、比較的軽い力で光学ユニット１５６を移動させることができる。また、車輪１６２がレール１６３の案内面１６３ａによって案内されるため、光学ユニット１５６がＸ方向に沿って直進する。

また、３個の車輪１６２と３個のレール１６３の退避部１６３ｂは、不等間隔で配置されているため、光学ユニット１５６がマウント１６１のある設置位置に到達するまでの間、２個の車輪１６２が同時に退避部１６３ｂに落ち込むことが無い。そのため、光学ユニット１５６は、一定の高さで、かつ、傾くことなく安定した姿勢を保った状態で設置位置に向けて案内される。

また、車輪１６２が案内面１６３ａを走行している間は、ボールキャスタ１５４ｃとマウント１６１の間にマウント１６１の厚みＴＨ分の隙間がある。さらに、図８Ｃに示したように、ボールキャスタ１５４ｃ及びマウント１６１は、前方の２つのマウント１６１の位置と、後方の１つのマウント１６１の位置は、幅方向（Ｙ方向）において異なっている。そのため、光学ユニット１５６がＸ方向に移動する際に、前方のボールキャスタ１５４ｃが後方のマウント１６１と干渉することはない。

図１１Ｄに示すように、各ボールキャスタ１５４ｃがマウント１６１上の設置位置に到達すると、ボールキャスタ１５４ｃがマウント１６１に接地する。これにより、光学ユニット５６がマウント６１に載置された状態となる。この状態では、３個の車輪１６２は、それぞれレール１６３の３個の退避部１６３ｂの位置に到達しているため、各車輪１６２が案内面１６３ａから退避して、両者が離間する。これにより、マウント１６１の厚みＴＨによって、光学ユニット１５６の高さが設置高さＴ１に位置決めされる。そのため、マウント１６１の厚みＴＨを精度良く調節しておくことで、高さ方向の正確な位置決めを行うことができる。

第１実施形態においては、比較例と異なり、移動機構は、設置高さＴ１と同じ案内高さでマウント１６１のある設置位置まで光学ユニット１５６を案内する。したがって、比較例のようにボールキャスタ５４ｃとマウント６１が衝突する際の衝撃や、マウント６１に光学ユニット５６が勢いよく乗り上げた際に、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂと突き当てピン６６ａ、６６ｂとが勢いよく衝突する際の衝撃が生じることはない。そのため、こうした衝撃によって光学ユニット１５６のビームスプリッタ５２や高反射ミラー５３のアライメントがずれることが抑制される。

一方、光学ユニット１５６がマウント１６１に載置された状態で、さらにＸ方向に押し込まれると、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂが、突き当てピン６６ａ、６６ｂに当接して、光学ユニット５６のＸ方向の移動が規制される。

この状態で、図１１Ｅに示すように、押し付けユニット６８が取り付けられる。押し付けユニット６８の取り付け方法や、水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）の位置決め作用については、比較例と同様である。水平方向の位置決め後、図１１Ｆに示すように、蓋９ｃがチャンバ基準部材９に取り付けられる。

本例において、設置高さＴ１と案内高さを同一としている。ここで、同一とは、実質的に同一を意味する。実質的に同一とは、完全同一に加えて、誤差を許容する概念である。実質的に同一に含まれる誤差には、光学的アライメントに影響を与えない僅かな衝撃を発生させる程度の誤差が含まれる。例えば、車輪１６２とレール１６３の案内面１６３ａとによって案内される案内高さと、設置高さＴ１との間に僅かな差がある場合でも、その差が、光学的アライメントに影響を与えない僅かな衝撃しか発生させないのであれば、その差は実質的に同一に含まれる。発明者らは、案内高さと設置高さとの差が０．５ｍｍ以下である場合、衝撃は問題とならないことを確認している。案内高さと設置高さとの差は、少なくとも２ｍｍよりは小さい値であることが望ましい。

２．２． レールの変形例
図１２、１３に示すレール１７３は、上記第１実施形態のレール１６３の変形例を示す。第１実施形態のレール１６３では、退避部１６３ｂは、案内面１６３ａよりも一段低い有底の凹部形状となっている。しかし、図１２、１３に示す変形例のレール１７３のように、退避部１７３ｂを、底が無い間隙としてもよい。

２．３． その他
本例において、移動機構を構成する車輪１６２を移動方向（Ｘ方向）に３個配列した例で説明したが、３個以上配列してもよい。この場合は、車輪１６２の数や配置ピッチに合わせて退避部１６３ｂが同数設けられる。

３． 第２実施形態
次に第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂについて説明する。第２実施形態の基本的な構成は、第１実施形態と同様であり、相違点は、第２実施形態の取り付け機構１０Ｂの構成である。以下において、相違点を中心に説明して、第１実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。

３．１ 第２実施形態のレーザ光導入光学系の取り付け機構の説明
図１４Ａ〜図１４Ｃ、図１５Ａ及び図１５Ｂは、第２実施形態のレーザ光導入光学系をチャンバ基準部材９に対して取り付ける取り付け機構１０Ｂの説明図である。図１４Ａ〜図１４Ｃは、取り付け機構１０Ｂと、取り付け機構１０Ｂによって、チャンバ基準部材９の所定位置に位置決めされて固定された状態の光学ユニット２５６の説明図であり、第１実施形態の図８Ａ〜図８Ｃに対応する。図１５Ａ、図１５Ｂは、第１実施形態の図９Ａ、図９Ｂに対応する。

第２実施形態の取り付け台２５４は、本体部２５４ａとボールキャスタ２５４ｃとを備えている。第２実施形態の取り付け機構１０Ｂにおいて、第１実施形態の取り付け機構１０Ａとの主な相違点は、移動機構の構成である。

３．１．１ 高さ位置決め機構
図１４Ａ〜図１４Ｃ、及び図１５Ａに示すように、底面９ｄには、マウント２６１が設けられており、マウント２６１は、高さ位置決め機構を構成する。第１実施形態と同様に、マウント２６１には、取り付け台２５４のボールキャスタ２５４ｃが載置される。図１４Ｃ及び図１５Ａに示すように、ボールキャスタ２５４ｃ及びマウント２６１の数及び配置については、第１実施形態と同様である。図１４Ａ〜図１４Ｃに示すように、ボールキャスタ２５４ｃがマウント２６１に載置される設置位置において、取り付け台２５４の本体部２５４ａの上面の高さが、底面９ｄからＴ１の高さに位置決めされる。これにより、レーザ光導入光学系の高さが位置決めされる。マウント２６１は、第１実施形態と同様の平板状のプレートであり、比較例のようなスロープは設けられていない。

３．１．２ 移動機構
図１４Ａ〜図１４Ｃ、図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、移動機構は、ボールキャスタ２６２とレール２６３とで構成されている。第２実施形態においては、移動機構の構成要素として、第１実施形態の車輪１６２に代えてボールキャスタ２６２が使用される。ボールキャスタ２６２は、高さ位置決め機構を構成するボールキャスタ２５４ｃと同様に、本体部２５４ａの下面に配置されている。

図１４Ｃ、図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、ボールキャスタ２６２は、合計６個設けられており、本体部２５４ａは、ボールキャスタ２６２がＸ方向に３個並べて配列された列を２列備えている。このボールキャスタ２６２の各列に対応して、底面９ｄには２本のレール２６３が配置されている。レール２６３には、案内面２６３ａと退避部２６３ｂが設けられている。案内面２６３ａは、ボールキャスタ２６２が接地して、ボールキャスタ２６２は回転しながら案内面２６３ａを走行する。

第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、レール２６３の退避部２６３ｂの数及び配置間隔は、ボールキャスタ２６２の数及び配置間隔と対応している。図１４Ａに示すように、退避部２６３ｂは、光学ユニット２５６がマウント２６１上の設置位置に到達した際に、移動機構を構成するボールキャスタ２６２を、案内面２６３ａから退避させる。これにより、案内面２６３ａとボールキャスタ２６２とが離間して、移動機構による案内が終了する。このため、光学ユニット２５６がマウント２６１に載置された状態では、レール２６３及びボールキャスタ２６２による干渉を受けずに、マウント２６１の厚みＴＨのみによって設置高さＴ１に位置決めされる。

また、図１４Ａに示すように、底面９ｄからのレール２６３の案内面２６３ａまでの高さＴＲは、光学ユニット２５６が設置高さＴ１にある状態における底面９ｄからボールキャスタ２６２の下端までの高さと同じである。このため、第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、設置高さＴ１と、レール２６３の案内面２６３ａによって光学ユニット１５６がＸ方向に案内される案内高さが同一である。

また、図１６Ａ及び図１６Ｂに示すように、第１実施形態と同様に、３個のボールキャスタ２６２の配置ピッチは不等間隔になっている。すなわち、前方から１番目と２番目のボールキャスタ２６２のピッチＰ１と、２番目のボールキャスタ２６２と３番目のボールキャスタ２６２のピッチＰ２が異なっている。レール２６３の３個の退避部２６３ｂの配置ピッチも、３個のボールキャスタ２６２の配置ピッチに対応している。

このため、図１６Ｂに示すように、第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、光学ユニット２５６が、設置位置に到達するまでの間においては、３個のボールキャスタ２６２が同時に退避部２６３ｂの上方を通過することはない。少なくとも１つのボールキャスタ２６２が退避部２６３ｂの上方を通過している間、２つのボールキャスタ２６２が案内面２６３ａに接地している状態が保たれる。

３．１．３ 水平方向位置決め機構
図１４Ｃ、図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、第２実施形態の水平方向位置決め機構は、第１実施形態と同様に、突き当てピン６６ａ、６６ｂと、Ｖ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂと、押し付けユニット６８とで構成されている。第２実施形態の水平位置決め機構の各部の構成や機能についても第１実施形態と同様である。

３．１．４ 動作
第２実施形態の動作については、図７Ａ〜図７Ｆで示した第１実施形態の同様である。第２実施形態においても、光学ユニット２５６の取り付けに際しては台車７６が使用される。第２実施形態においても、光学ユニット２５６の設置高さＴ１と、レール２６３の案内面２６３ａによって光学ユニット２５６がＸ方向に案内される案内高さが同一である。このため、第２実施形態においても、光学ユニット２５６の取り付け時において、マウント２６１に起因する衝撃を抑制することができ、レーザ光導入光学系のアライメントのずれを抑制することができる。

４． 第３実施形態
４．１． 水平方向位置決め機構の構成
図１７及び図１８は、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｃの取り付け機構の説明図である。第３実施形態は、第１実施形態と基本的な構成は同じであり、主たる相違点は、水平方向位置決め機構を構成する押し付けユニット２６８の構成である。以下、相違点を中心に説明する。

図１７に示すように、押し付けユニット２６８は、２つの押し付け部２７１と取り付け基材２７２とで構成される。取り付け基材２７２は、第１実施形態と同様に、両端が、レール１６３の後端に固定される。光学ユニット３５６は、取り付け台３５４を備えている。

図１８に示すように、押し付け部２７１は、押し付けボルト２７１ａ、押し付け板２７１ｂ及びコイルバネ２７１ｃを備えている。取り付け台３５４の本体部３５４ａの後端部には、コイルバネ２７１ｃを収容する収容部３５４ｅが設けられている。収容部３５４ｅにおいて、コイルバネ２７１ｃの後方には押し付け板２７１ｂが配置される。

ボルト２７１ａは、取り付け基材２７２に形成されたタップ穴に取り付けられる。取り付け基材２７２に対してボルト２７１ａを回転させると、ネジの送りによって軸の先端の突出量が変化する。ボルト２７１ａの軸は、取り付け基材２７２を貫通して、軸の先端が押し付け板２７１ｂと当接している。ボルト２７１ａが押し付け板２７１ｂを押圧すると、コイルバネ２７１ｃを収縮する方向に弾性変形させる。コイルバネ２７１ｃの弾性変形による付勢力が、取り付け台３５４を突き当てピン６６ａ、６６ｂに押し付ける押し付け力として作用する。ボルト２７１ａの突出量が調節されることにより、押し付け力が目標値に調節される。

また、図１７に示すように、押し付け部２７１は、２つ設けられている。各押し付け部２７１は、本体部３５４ａの前面のＶ型ブロック６７ａ及び平型ブロック６７ｂと当接する突き当てピン６６ａ、６６ｂのそれぞれと、Ｘ方向において対向する位置に配置されている。具体的には、各押し付け部２７１の幅方向（Ｙ方向の）の位置は、各突き当てピン６６ａ、６６ｂのそれぞれからＸ方向に延びる直線上に位置する。

４．２． 動作
収納室９ｂ内において、光学ユニット３５６をマウント１６１上の設置位置に案内して高さを位置決めした後、水平方向の位置決めが行われる。まず、取り付け基材２７２がレール１６３の後端に固定される。次に、２本のボルト２７１ａがそれぞれ取り付け基材２７２に取り付けられる。この後、ボルト２７１ａが締められて、取り付け台３５４の突き当てピン６６ａ、６６ｂに対する押し付け力が目標の押し付け力に調節される。なお、２本のボルト２７１ａは、取り付け台３５４に対する目標の押し付け力を発生させない状態で取り付け基材２７２にあらかじめ取り付けられていてもよい。

図１９Ａに示すように、ボルト２７１ａの締め付けに際しては、最初に、Ｖ型ブロック６７ａと対向する位置のボルト２７１ａが締め付けられる。これにより、Ｖ型ブロック６７ａのＶ溝内の適正位置に突き当てピン６６ａが入り込む。ただし、片側のボルト２７１ａを締め付けた段階では、取り付け台３５４に対する押し付け力は偏っているため、例えば、突き当てピン６６ａの中心を回転軸として、取り付け台３５４が反時計方向に回転した姿勢となる場合がある。

その後に、図１９Ｂに示すように、平型ブロック６７ｂと対向する位置のボルト２７１ａが締め付けられる。Ｖ型ブロック６７ａのＶ溝内の適正位置に突き当てピン６６ａがはまっているため、平型ブロック６７ｂを押し付けることで、取り付け台３５４の姿勢を時計方向に回転して、平型ブロック６７ｂを突き当てピン６６ｂに押し付けることができる。押し付け部２７１の押し付け力を適正に管理すれば、水平方向の位置決めを正確に行うことができる。

このように、第３実施形態においては、２つの押し付け部２７１がそれぞれ、Ｘ方向において、２つの突き当てピン６６ａ、６６ｂと対向する位置に配置されている。そして、Ｖ型ブロック６７ａと当接する突き当てピン６６ａと対向する位置にある押し付け部２７１から先に押し付けが行われて、その後に、もう１つの押し付け部２７１の押し付けが行われる。そのため、中央に押し付け部が１つだけ設けられた第１実施形態や比較例と比較して、水平方向の位置決めを適正に行うことができる。

これは次の理由による。図４Ｃなどに示すように、押し付け部７１が中央に１つだけ設けられている場合には、１つの押し付け位置から２つの突き当てピン６６ａ、６６ｂに向けて押し付け力を付与することになる。この場合、２つの突き当てピン６６ａ、６６ｂに対するそれぞれの押し付け力は、１つの押し付け位置から作用する押し付け力の分力となる。そして、移動機構によって設置位置に案内された光学ユニット３５６が水平面内において僅かに傾斜するなど、設置位置における光学ユニット３５６の姿勢は時によってばらつくことがある。

光学ユニット３５６の姿勢が傾斜していると、１つの押し付け位置から作用する押し付け力の分力が、各突き当てピン６６ａ、６６ｂに対して均等にならないため、光学ユニット３５６を適正位置に位置決めできない場合がある。

例えば、光学ユニット３５６が傾斜した姿勢で平型ブロック６７ｂと突き当てピン６６ｂが当接しており、突き当てピン６６ａについてもＶ型ブロック６７ａのＶ溝内の適正位置にはまっていない場合を考える。このような場合、平型ブロック６７ｂの摩擦が大きいと、Ｖ型ブロック６７ａの適正位置に突き当てピン６６ａをはめるためには、Ｙ方向の矯正力が必要になる。しかし、押し付け力の分力が均等にならない場合は、この矯正力が適正に働かない場合がある。このように矯正力が適正に働かないと、突き当てピン６６ａがＶ溝内の適正位置にはまらないため、光学ユニット３５６の水平方向の適正な位置決めがされない場合がある。

第３実施形態では、２つの突き当てピン６６ａ、６６ｂに対して、２つの押し付け部２７１から、突き当て方向と平行なＸ方向に沿って真っ直ぐに押し付け力を作用させる。そして、最初に、Ｖ型ブロック６７ａと当接する突き当てピン６６ａに対応する押し付け部２７１によって押し付けを行う。光学ユニット３５６の姿勢が傾斜している場合でも、押し付け部２７１から、Ｖ型ブロック６７ａ及び突き当てピン６６ａに向けて真っ直ぐに押し付け力を作用させるため、Ｖ溝内の適正位置に突き当てピン６６ａをはめ込むことができる。これにより、光学ユニット３５６の水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）の位置が適正に位置決めされる。

また、押し付け部２７１は、皿バネ７１ｃの代わりに、コイルバネ２７１ｃを使用している。そのため、光学ユニット３５６の位置決めの作業時間が短くなることに加えて、位置再現性も向上するという効果が得られる。これは、次の理由による。

皿バネ７１ｃはコイルバネ２７１ｃに比べて、バネ定数が非常に大きい。バネ定数は、単位変位量に対する弾性力（反力）の変化量であるので、バネ定数が大きいと、僅かな変位で弾性力が大きく変動する。そのため、目標の押し付け力に設定するために、押し付け部７１の突出量を厳密に管理しなければならず、押し付け力を調節するための作業時間が長くなることがある。

また、皿バネ７１ｃは繰り返しの変形に対する耐性が弱く、塑性変形ひずみが残ってしまうため、押し付け力の管理が比較的難しい。そのため、光学ユニット３５６の取り付けと取り外しを繰り返すと、各取り付けの際に押し付け力がばらついて、光学ユニット３５６の位置再現性の保証が困難な場合がある。位置再現性の保証が困難な場合は、光学ユニット３５６を取り付けた後、ビームスプリッタ５２や高反射ミラー５３の取り付け位置の微調整が必要となり、手間が掛かる。

第３実施形態では、皿バネ７１ｃと比較してバネ定数が小さいコイルバネ２７１ｃを使用しているため、ボルト２７１ａの突出量の厳密な管理が不要になる。そのため、押し付け力を調節するための作業時間を短縮できる。また、コイルバネ２７１ｃは皿バネ７１ｃと比較して、塑性変形に対する耐性に余裕を持たせることが容易なため、光学ユニット３５６の取り付けと取り外しを繰り返した場合における位置再現性を向上することができる。

また、第３実施形態においては、取り付け台３５４の本体部３５４ａ内に、コイルバネ２７１ｃを収容する収容部３５４ｅを設けている。そのため、収納室９ｂ内の設置スペースが少ない場合でも、皿バネ７１ｃと比較してサイズが大きいコイルバネ２７１ｃを使用することが可能となる。

上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の各実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。

本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (17)

1. 極端紫外光生成装置は、以下を備える：
   Ａ．ターゲット物質にレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ：
   Ｂ．前記チャンバ内に前記レーザ光を導入するためのレーザ光導入光学系を含む光学ユニット：
   Ｃ．前記チャンバを支持するチャンバ基準部材であって、前記光学ユニットを収納する収納室を備えたチャンバ基準部材：
   Ｄ．前記収納室内の所定の設置位置において、前記光学ユニットの第１部分と接した状態で前記光学ユニットの高さを所定の設置高さに位置決めする高さ位置決め機構；及び
   Ｅ．前記収納室内において、前記光学ユニットの高さを案内高さに保った状態で前記光学ユニットを水平方向に直線的に移動させる移動機構であって、前記光学ユニットの第２部分と接した状態で前記設置位置に前記光学ユニットを案内する案内面が設けられた案内部材と、前記案内部材に設けられ、前記光学ユニットが前記設置位置に到達した状態において、前記第２部分を前記案内面から退避させる退避部とを含み、前記案内面によって前記設置位置に向けて案内される移動中の前記光学ユニットの前記案内高さは、前記設置高さと実質的に同一である移動機構。
2. 請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記第２部分は、前記案内面と接した状態で回転する回転体である。
3. 請求項２に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記案内部材は、前記光学ユニットを案内する移動方向に沿って延びるレールである。
4. 請求項３に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記回転体は、前記移動方向に沿って３個以上配列され、
   各回転体の配置ピッチは、不等間隔であり、
   前記退避部は、前記回転体と同数設けられており、かつ、複数個の前記退避部は、前記設置位置にある前記光学ユニットの前記複数個の回転体のそれぞれと対向する位置にそれぞれ配置されている。
5. 請求項３に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記光学ユニットは、前記レーザ光導入光学系を固定する取り付け台を含む。
6. 請求項３に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記退避部は、前記レールに形成された有底の凹部である。
7. 請求項３に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記退避部は、前記レールに形成された底の無い間隙である。
8. 請求項５に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記取り付け台には、前記移動方向と直交する幅方向の両側に前記回転体が配置されており、
   前記レールは、前記収納室の側壁に配置されている。
9. 請求項５に記載の極端紫外光生成装置であって、
   前記取り付け台の下面に、前記回転体が配置されており、
   前記レールは、前記収納室の底面に配置されている。
10. 請求項５に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記第１部分は、前記取り付け台に設けられたキャスタであり、
    前記高さ位置決め機構は、前記キャスタが載置されるマウントを備える。
11. 請求項５に記載の極端紫外光生成装置は、さらに以下を備える：
    Ｆ：前記設置位置において、前記移動機構によって案内される前記光学ユニットの前記移動方向であるＸ方向と、前記Ｘ方向と直交する、前記光学ユニットの幅方向であるＹ方向の位置決めを行う水平方向位置決め機構。
12. 請求項１１に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記水平方向位置決め機構は、
    前記収納室内に配置され、前記取り付け台の第１端部と当接して、前記取り付け台の前記Ｘ方向の移動を規制する突き当てピンと、
    前記Ｘ方向において前記第１端部とは反対側の第２端部から前記取り付け台を前記突き当てピンに押し付ける押し付け部とを、備えている。
13. 請求項１２に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記突き当てピンは、前記Ｙ方向に間隔を開けて２つ配置されており、
    前記取り付け台は、２つの前記突き当てピンのそれぞれと当接する２つの突き当てブロックを備えている。
14. 請求項１３に記載の極端紫外光生成装置であって、
    ２つの前記突き当てピンは、水平断面形状が円形であり、
    前記突き当てブロックの一方は、前記突き当てピンと当接する当接部分の水平断面形状がＶ溝形状のＶ型ブロックであり、
    前記突き当てブロックの他方は、前記当接部分が平面の平型ブロックである。
15. 請求項１４に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記押し付け部は、前記Ｘ方向において２つの前記突き当てピンのそれぞれと対向する位置に２つ配置されている。
16. 請求項１２に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記押し付け部は、コイルバネを備えている。
17. 請求項１６に記載の極端紫外光生成装置であって、
    前記取り付け台には、前記コイルバネを収容する収容部が設けられている。

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