JP5474522B2 - 極端紫外光源システム - Google Patents

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Description

本発明は、露光装置の光源として用いられる極端紫外(EUV:extreme ultraviolet)光源装置を含む極端紫外光源システムに関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って光リソグラフィにおける微細化が急速に進展しており、次世代においては、60nm〜45nmの微細加工、更には32nm以下の微細加工が要求されるようになる。そのため、例えば、32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度のEUV光を発生するEUV光源と縮小投影反射光学系(reduced projection reflective optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
EUV光源としては、ターゲットにレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(laser produced plasma:レーザ生成プラズマ)光源(以下において、「LPP式EUV光源装置」ともいう)と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(discharge produced plasma)光源と、軌道放射光を用いたSR(synchrotron radiation)光源との3種類がある。これらの内でも、LPP光源は、プラズマ密度をかなり大きくできるので黒体輻射に近い極めて高い輝度が得られ、ターゲット物質を選択することにより必要な波長帯のみの発光が可能であり、光源の周囲に電極等の構造物がなく、ほぼ等方的な角度分布を持つ点光源であるので、2π〜4πsteradianという極めて大きな捕集立体角の確保が可能であること等の利点から、数十ワット以上のパワーが要求されるEUVリソグラフィ用の光源として有力であると考えられている。
LPP式EUV光源装置においては、次のような原理でEUV光が生成される。即ち、ノズルを用いて真空チャンバ内にターゲット物質を供給し、このターゲット物質に対してレーザビームを照射することにより、ターゲット物質を励起してプラズマ化させる。そのようにして生成されたプラズマからは、EUV光を含む様々な波長成分が放射される。そこで、その内の所望の波長成分(例えば、13.5nmの波長を有する成分)を選択的に反射するコレクタミラー(集光ミラー)を用いることによりEUV光を反射集光し、露光装置の投影光学系に出力する。例えば、波長が13.5nm付近のEUV光を集光するコレクタミラーとしては、反射面にモリブデン(Mo)及びシリコン(Si)の膜が交互に積層されたミラーが用いられる。通常、Mo/Si薄膜の積層数は、60から数百層に及ぶ。
関連する技術として、特許文献1には、EUV光源装置(放射線ユニット)内に斜入射ミラーを設けることにより、EUV光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。
しかしながら、特許文献1のリソグラフィ装置においては、斜入射ミラーを設けることにより、EUV光強度の損失が生じてしまう。一般に、ミラーによるEUV光の反射率は約60%程度であり、ミラーの枚数が1枚増加するごとに、EUV光の利用効率が60%程度に低下する。
また、特許文献2には、EUV光源装置を重力方向に対して斜めに設置することにより、EUV光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。特許文献2によれば、特許文献1に比べて反射ミラーが1枚少なくなり、EUV光の利用効率を改善することができる。
しかしながら、特許文献2のリソグラフィ装置においては、EUV光源装置が露光装置の投影光学系より低い位置に設置される。このEUV光源装置のチャンバなどの交換部品は重量物であるため、低い位置に設置されたEUV光源装置は、メンテナンス時の部品の交換が容易ではない。
特開2006−108686号公報(図5) 米国特許出願公開第2006/146413号明細書(図2)
そこで、上記の点に鑑み、本発明は、極端紫外(EUV)光源装置の部品を容易に交換することのできるEUV光源システムを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の1つの観点に係る極端紫外光源システムは、(i)極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部と、ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるドライバレーザと、該プラズマから放射される極端紫外光を集光して露光装置の投影光学系に入射させる集光ミラーと、を含む極端紫外光源装置と、(ii)極端紫外光源装置の一部であり且つチャンバを含む交換部品を持ち上げて移動させるように設置されている持ち上げ装置とを具備する。
本発明の1つの観点によれば、極端紫外(EUV)光源装置の一部である交換部品を持ち上げて移動させるように持ち上げ装置が設置されているので、EUV光源装置のメンテナンス時に重量物である部品を容易に交換することができる。
本発明の第1実施形態に係る極端紫外(EUV)光源システムを含む露光装置の概略構成を示す平面図(a)及び側面図(b)である。 EUV光源システムに含まれるEUV光源装置の構成を示す模式図である。 第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の代替例を示す平面図である。 第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の別の代替例を示す平面図である。 第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成の更に別の代替例を示す平面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第1の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第2の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第3の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第4の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第5の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第6の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第7の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第8の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第9の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第10の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第11の実施例を示す側面図である。 第1実施形態のEUV光源システムにおける第12の実施例を示す側面図である。 第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第13の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。 第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第14の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。 第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第15の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。 第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第16の実施例を示す側面図(a)(c)及び正面図(b)(d)である。 本発明の第2実施形態に係る極端紫外(EUV)光源システムの概略構成を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける移動機構に関する第16の実施例を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第17の実施例を示す平面図(a)、図24(a)のA−A線断面図(b)、及び、側面図(c)である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第18の実施例を示す平面図(a)、図25(a)のB−B線断面図(b)、及び、側面図(c)である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第19の実施例を示す平面図(a)、図26(a)のC−C線断面図(b)、及び、側面図(c)である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第20の実施例を示す平面図(a)、図27(a)のD−D線断面図(b)、及び、側面図(c)である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第21の実施例を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第22の実施例を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第23の実施例を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第24の実施例を示す側面図である。 第2実施形態のEUV光源システムにおける第25の実施例を示す側面図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る極端紫外(EUV)光源システムを含む露光装置の概略構成を示す平面図(a)及び側面図(b)である。この露光装置は、EUV光源装置1と、投影光学系20と、持ち上げ装置30と、位置決め機構70とを含んでいる。ここで、投影光学系20は、マスクにEUV光を照射する光学系であるマスク照射部21と、マスクの像をウエハ上に投影する光学系であるワークピース照射部22とを含んでいる。EUV光源装置1、持ち上げ装置30、及び、位置決め機構70は、極端紫外光源システムを構成している。
図2は、EUV光源システムに含まれるEUV光源装置の構成を示す模式図である。
EUV光源装置1は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ生成プラズマ(LPP)方式を採用している。図2に示すように、このEUV光源装置1は、ドライバレーザ2と、ターゲット供給部3と、ターゲット回収部5と、レーザ集光光学系6と、EUVチャンバ10と、光路接続モジュール11と、EUV集光ミラー15とを有している。
ドライバレーザ2は、ターゲット物質を励起させるために用いられる駆動用のレーザ光を生成する発振増幅型のレーザ装置である。ドライバレーザ2によって生成されたレーザ光は、少なくとも1つのレンズ及び/又は少なくとも1つのミラーを含んだレーザ集光光学系6により、EUVチャンバ10内のターゲット物質の軌道上に焦点を形成するように集光される。ターゲットにレーザ光が集光して照射されるとプラズマが発生する。このプラズマの発光点(PP:plasma emission point)からEUV光が放出される。
ターゲット供給部3は、EUV光を発生するために用いられるスズ(Sn)やリチウム(Li)等のターゲット物質を、ターゲットノズル8を介してEUVチャンバ10内に供給する装置である。供給されたターゲット物質の内で、レーザ光が照射されずに不要となったものは、ターゲット回収部5によって回収される。
ターゲット物質の状態は、固体、液体、気体の何れでも良く、ターゲット供給部3は、連続流れ(ターゲット噴流)や液滴(ドロップレット)等の、公知の何れの態様でターゲット物質をEUVチャンバ10内の空間に供給しても良い。例えば、ターゲット物質としてスズ(Sn)の溶融金属を用いる場合には、ターゲット供給部3は、スズを溶融するためのヒータや溶融金属スズを噴出させるための高純度アルゴン(Ar)ガスを供給するガスボンベ、マスフローコントローラ、ターゲットノズル等によって構成される。また、ドロップレットを生成する場合には、ターゲットノズル8にピエゾ素子等の加振装置が追加される。
EUVチャンバ10は、EUV光の生成が行われる真空チャンバである。EUVチャンバ10には、ドライバレーザ2によって生成されたレーザ光をEUVチャンバ10内に通過させるための窓7が設けられている。
EUV集光ミラー15は、EUVチャンバ10内に設けられている。EUV集光ミラー15は、所定の波長を有するEUV光を選択的に反射させる多層膜がコートされた反射面を有している。EUV集光ミラー15の反射面は回転楕円体の形状を有しており、このEUV集光ミラー15は、回転楕円体の第1の焦点位置がプラズマ発光点(PP)となるように配置されている。EUV集光ミラー15によって反射されたEUV光は、回転楕円体の第2の焦点位置、すなわち中間集光点(intermediate focusing point)IFに集光される。
EUVチャンバ10内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマが生成され、そこから様々な波長を有する光が放射される。この内の所定の波長成分(例えば、13.5nmの波長を有する成分)が、EUV集光ミラー15によって反射されて、集光される。EUV集光ミラー15から射出されるEUV光は、EUVチャンバ10と投影光学系20とを接続する光路接続モジュール11内を通過して、投影光学系20に入射される。
再び図1を参照すると、投影光学系20は、マスクにEUV光を照射するためのマスク照射部21と、マスクの像をウエハ上に投影するためのワークピース照射部22とを有している。マスク照射部21は、EUV光源装置1から入射したEUV光を、反射光学系を介してマスクテーブルMTのマスクパターン上に照射する。ワークピース照射部22は、マスクテーブルMTから反射されたEUV光を、反射光学系を介してワークピーステーブルWTのワークピース(半導体ウエハ等)上に結像させる。そして、マスクテーブルMTとワークピーステーブルWTとを同時に平行移動させることにより、マスクパターンをワークピースに転写させる。
持ち上げ装置30は、EUV光源装置1の一部である交換部品(EUVチャンバ10等)を持ち上げて移動させる装置であり、交換部品を持ち上げる持ち上げ機構50と、持ち上げ機構50を支持する持ち上げ機構フレーム40とを含んでいる。なお、交換部品としては、EUVチャンバ10の他、図2に示すドライバレーザ2、ターゲット供給部3、ターゲット回収部5、レーザ集光光学系6、光路接続モジュール11、或いは図示しない電源装置、真空排気ポンプ、磁場発生装置等の周辺機器の一部又は全部が含まれていても良い。
交換部品を持ち上げて移動させる機構の詳細は後述するが、交換部品を持ち上げる構成としては、図1に示すようにクレーンにより吊り上げるものの他、斜面に沿って押し上げ又は引き上げるもの、或いは、フォークリフトのように引掛けて持ち上げるもの等を用いることもできる。また、交換部品を下から押し上げる機構等を用いてもよい。
持ち上げた交換部品を移動させる構成としては、交換部品を持ち上げた持ち上げ機構50が、持ち上げ機構フレーム40のレール等に沿って重力方向と交差する方向に移動するもの、或いは、持ち上げ機構50が、持ち上げ機構フレーム40の中の1点を軸とした回転運動を行うもの、或いは、持ち上げ機構フレーム40自体が投影光学系20に対して重力方向と交差する方向に移動するもの等を用いることができる。図1には、持ち上げ機構50が交換部品とともに投影光学系20に対する向きと平行に移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構50が、持ち上げ機構フレーム40の2本の平行な梁部材にまたがって設置され、これら2本の梁部材に沿ってそれぞれ設けられたレール上を、持ち上げ機構50が移動する。
図3は、第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図1(a)に対する代替例を示している。図3には、持ち上げ機構50が交換部品とともに投影光学系20に対する向きと交差する方向に移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構50が、持ち上げ機構フレーム40aの2本の平行な梁部材にまたがって設置され、これら2本の梁部材に沿ってそれぞれ設けられたレール上を、持ち上げ機構50が移動する。
図4は、第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図1(a)に対する別の代替例を示している。図4には、持ち上げ機構50が回転することにより、交換部品が円弧状の軌跡を描いて移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構50が持ち上げ機構フレーム40bの中の1点を軸として回転可能に設置されており、持ち上げ機構50の回転運動により交換部品が移動させられる。
図5は、第1実施形態において持ち上げた交換部品を移動させる構成例を示す平面図であり、図1(a)に対する更に別の代替例を示している。図5には、持ち上げ機構50が回転することにより、交換部品が円弧状の軌跡を描いて移動する例が示されている。より具体的には、持ち上げ機構50が持ち上げ機構フレーム40cの中の1点を軸として180°以上回転可能に設置されており、持ち上げ機構50が当初の向きとほぼ正反対の向きまで回転することにより交換部品が移動させられる。
再び図1を参照すると、位置決め機構70は、EUVチャンバ10の形状に合わせたチャンバ台74aを含んでいる。このチャンバ台74aは、EUVチャンバ10から射出されるEUV光の光軸(以下「EUVチャンバ10の光軸」という)が投影光学系20の光軸と一致するように、重力方向に対して斜めの姿勢にEUVチャンバ10を保持する。チャンバ台74aは、EUVチャンバ10の形状に合わせてあるので、EUVチャンバ10がチャンバ台74aに嵌まることにより、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系20の光軸と一致する姿勢を正しく保持することができる。
位置決め機構70は、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系20の光軸と一致する位置にEUVチャンバ10が位置決めされるよう、チャンバ台74aを位置決めする。チャンバ台74aを位置決めする構成は特に限定されるものではなく、ストッパ、位置決めピン、6軸ステージなど種々の構成を用いることができる。図1には、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系20の光軸と一致する位置に、EUVチャンバ10がチャンバ台74aとともに位置決めされた状態を示している。
以上のように構成することにより、本実施形態によれば、EUV光源装置1のメンテナンス時に重量物であるEUVチャンバ10等の部品を容易に交換することができる。また、部品の交換に要する時間を短縮することができる。また、部品交換作業の安全性を高めることができる。さらに、持ち上げ装置30が設置されているため、部品交換のための重いジグを部品交換が行われるEUV光源装置1まで運ぶ手間を軽減することができる。
次に、上記第1実施形態のEUV光源システムの具体的な実施例について説明する。なお、上記第1実施形態の説明は、その性質に反しない限りそのまま以下の各実施例においても該当する。
図6は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第1の実施例を示す側面図である。
第1の実施例に係るEUV光源システムにおいては、持ち上げ機構フレーム41がEUV光源装置1のフレームと一体化されている。第1の実施例においては、持ち上げ機構フレーム41がEUV光源装置1のフレームと一体不可分なので、持ち上げ機構フレーム41がEUV光源装置1の内部に図示されている。光源装置フレーム一体型の持ち上げ機構フレーム41には、EUVチャンバ10等の交換部品を移動させる移動機構60が固定されている。EUVチャンバ10等の交換部品は、チャンバ台74aに設置され、この移動機構60上をチャンバ台74aが移動することによって、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置と、投影光学系から所定の距離だけ離れた位置との間を移動するようになっている。
移動機構60の構成は特に限定されるものではなく、例えば、持ち上げ機構フレーム41上に設置されたレールを、移動機構60とすることができる。このレール上をチャンバ台74aが走行することにより、チャンバ台74aがEUVチャンバ10等の交換部品とともに移動することができる。
EUV光源装置1の交換部品をメンテナンスのために運び出す時には、まず、移動機構60によって交換部品を投影光学系から所定の距離だけ離れた位置に移動させた後、持ち上げ機構50によって交換部品を持ち上げる。そして、持ち上げ機構50を移動させることによって、移動機構60から離れた位置にあるEUVチャンバ台車80まで交換部品を移動させる。EUVチャンバ台車80に載せられた交換部品は、所望のメンテナンスエリアまで運ばれる。ここでは、移動機構60によって交換部品を投影光学系から所定の距離だけ離れた位置に移動させた後、持ち上げ機構50によって交換部品を持ち上げる場合について説明したが、これは、持ち上げ機構50によって交換部品を持ち上げる際に、交換部品と投影光学系とが接触し、いずれかが損傷するようなことを防止するためである。投影光学系の形状により、交換部品を移動機構60によって移動させずにそのまま持ち上げ機構50によって持ち上げても投影光学系との接触を回避できる場合には、移動機構60を省略することも可能である。
交換部品をEUV光源装置1に設置する時には、交換部品を載せたEUVチャンバ台車80を、持ち上げ機構50の可動範囲内まで移動させた後、持ち上げ機構50により交換部品を支持して移動機構60の上方まで移動させる。持ち上げ機構50は、移動機構60の上方において交換部品を下降させる。下降させられた交換部品は、移動機構60によってEUVチャンバ10の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置まで移動させられる。
第1の実施例によれば、持ち上げ機構フレーム41と、EUV光源装置1のフレームとを一体化したので、持ち上げ機構50の位置アライメントを高精度で行うことができる。
図7は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第2の実施例を示す側面図である。
第2の実施例は、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系の光軸と一致する位置における床面(以下「低床面」という)が、EUVチャンバ台車80によりEUVチャンバ10を搬送可能な領域における床面(以下「高床面」という)より低くなっている点で第1の実施例と異なる。その他の点については、第1の実施例と同一である。第2の実施例における持ち上げ機構フレーム41は、低床面と高床面とにまたがって設置されるので、床面高さの差に応じて、持ち上げ機構フレーム41の低床面側に位置する柱部材が、高床面側に位置する柱部材より下方に突出した長いものとなっている。
従って、第2の実施例において、交換部品の低床面の領域内での移動は、移動機構60により行われ、低床面の領域から高床面の領域への移動は、持ち上げ装置30により行われ、高床面の領域内での移動は、EUVチャンバ台車80により行われる。
第2の実施例は以上のように構成したので、第1の実施例の効果に加え、床面高さの異なる場所に交換部品を移動させることも容易に行うことができる。
図8は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第3の実施例を示す側面図である。
第3の実施例は、持ち上げ機構51が、交換部品を斜面に沿って持ち上げるものである点で第2の実施例と異なる。その他の点については、第2の実施例と同一である。第3の実施例における持ち上げ機構51は、図7に示された第2の実施例における移動機構60を兼ねているということができる。
図8に示された持ち上げ機構51において、交換部品を斜面に沿って持ち上げる具体的な構成は特に限定されるものではなく、例えば、ラック・アンド・ピニオンを用いることができる。ラック・アンド・ピニオンは、細長い平板の一側面に歯切りをしたラックを斜面に沿って固定し、交換部品に軸支された小口径の円形歯車(ピニオン)を上述のラックに噛み合わせ、ピニオンを回転駆動することで、交換部品を斜面に沿って持ち上げるものである。また、これと逆に、ピニオンを斜面に配置し、ラックを交換部品に固定しても良い。
その他、持ち上げ機構51において交換部品を斜面に沿って持ち上げる構成としては、斜面に沿った方向に長いネジを配置し、このネジと噛み合う部品を交換部品に取り付け、ネジを回転させる構成を用いることもできる。また、交換部品にワイヤー等の一端を取り付け、このワイヤーの他端を斜面に沿って上方へ引っぱることで、交換部品を持ち上げる構成を用いることもできる。
第3の実施例は以上のように構成したので、第1の実施例の効果に加え、第2の実施例と同様に、床面高さの異なる場所に交換部品を移動させることも容易に行うことができる。
図9は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第4の実施例を示す側面図である。
第4の実施例は、持ち上げ機構フレーム42が、EUV光源装置1のフレーム90と別体になっている点で第1の実施例と異なる。その他の点については、第1の実施例と同一である。図9に示すように、EUV光源装置1には、EUVチャンバ10の他、EUV光源装置のフレーム90が含まれる。持ち上げ機構50の位置アライメント精度向上の点では第1の実施例の方が優れるが、第4の実施例は、持ち上げ装置30を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ装置30を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のEUV光源装置1のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置30を設置できるというメリットがある。
図10は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第5の実施例を示す側面図である。
第5の実施例は、持ち上げ機構フレーム42が、EUV光源装置1のフレーム90と別体になっている点で第2の実施例と異なる。その他の点については、第2の実施例と同一である。持ち上げ機構50の位置アライメント精度向上の点では第2の実施例の方が優れるが、第5の実施例は、持ち上げ装置30を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ装置30を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のEUV光源装置1のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置30を設置できるというメリットがある。
図11は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第6の実施例を示す側面図である。
第6の実施例は、持ち上げ機構フレーム42が、EUV光源装置1のフレーム90と別体になっている点で第3の実施例と異なる。その他の点については、第3の実施例と同一である。持ち上げ機構51の位置アライメント精度向上の点では第3の実施例の方が優れるが、第6の実施例は、持ち上げ装置30を有していない既設の光源装置において、新たに持ち上げ機構51が搭載されている持ち上げ装置30を設置してメンテナンスの容易性を高めようとする場合に、既設のEUV光源装置1のフレームに変更を加えずに持ち上げ装置30を設置できるというメリットがある。
図12は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第7の実施例を示す側面図である。
第7の実施例は、持ち上げ機構フレーム43がEUV光源装置1に対して固定されておらず、持ち上げ機構フレーム43が床面上を移動可能となっている点で第4の実施例と異なる。その他の点については、第4の実施例と同一である。持ち上げ機構フレーム43を移動可能とする構成は特に限定されるものではなく、例えば持ち上げ機構フレーム43の接地面に車輪を取り付け、車輪が転がることにより持ち上げ機構フレーム43を移動可能としても良い。また、この車輪が転がるためのレールを床面に敷設しても良い。
移動式の持ち上げ機構フレーム43は、予めEUV光源装置1の近傍に設置されており、EUVチャンバ10等の部品を交換する時に、持ち上げ機構フレーム43が所望の位置に移動させられて位置決めされる。持ち上げ機構フレーム43が所望の位置に位置決めされた状態で、持ち上げ機構50が、移動機構60とEUVチャンバ台車80との間での交換部品の持ち上げ及び移動を行う。交換部品の持ち上げ及び移動が終了した後、持ち上げ機構フレーム43は元のEUV光源装置1の近傍位置に戻される。
第7の実施例は以上のように構成したので、第4の実施例の効果に加え、互いに近傍に位置する複数の露光装置において1つの持ち上げ装置30を共有することができる。
図13は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第8の実施例を示す側面図である。
第8の実施例は、持ち上げ機構52が、持ち上げ機構フレーム44に対して移動しないようになっている点で第7の実施例と異なる。その他の点については、第7の実施例と同一である。第8の実施例において、交換部品を移動させるには、持ち上げ機構52によって交換部品を持ち上げた後、持ち上げ機構フレーム44自体を移動させる。
移動式の持ち上げ機構フレーム44は、予めEUV光源装置1の近傍に設置されており、EUVチャンバ10等の部品を交換する時に、持ち上げ機構フレーム44が交換部品を支持可能な所望の位置に移動させられる。移動機構60とEUVチャンバ台車80との間での交換部品の移動は、持ち上げ機構52によって交換部品を持ち上げた後、持ち上げ機構フレーム44を移動させることにより行う。交換部品の持ち上げ及び移動が終了した後、持ち上げ機構フレーム44は元のEUV光源装置1の近傍位置に戻される。
第8の実施例は以上のように構成したので、第7の実施例の効果に加え、持ち上げ機構52を持ち上げ機構フレーム44に対して移動させる構成を不要とし、構成を単純化することができる。
図14は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第9の実施例を示す側面図である。
第9の実施例は、持ち上げ機構53が、持ち上げ機構フレーム44の梁部材に設けられているのではなく、持ち上げ機構フレーム44の一部の柱部材に設けられている点で第8の実施例と異なる。その他の点については、第8の実施例と同一である。この持ち上げ機構53は、持ち上げ機構フレーム44の柱部材に一端を支持された片持ち梁となっており、柱部材に沿って重力方向に上下動可能となっている。この持ち上げ機構53は、フォークリフトのように交換部品を引掛けて上下動することにより、交換部品を持ち上げることができる。
第9の実施例は以上のように構成したので、第8の実施例と同様に、持ち上げ機構53を持ち上げ機構フレーム44に対して重力方向と交差する方向に移動させる構成を不要とし、構成を単純化することができる。
図15は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第10の実施例を示す側面図である。
第10の実施例は、持ち上げ機構フレーム45に梁部材が存在せず、持ち上げ機構53を支持するのに必要な柱部材のみが設けられている点で第9の実施例と異なる。その他の点については、第9の実施例と同一である。
第10の実施例は以上のように構成したので、第9の実施例の効果に加え、持ち上げ機構フレーム45の構成を単純化するとともに、持ち上げ機構フレーム45を狭い場所へも移動させることができるので、使い勝手を向上することができる。
図16は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第11の実施例を示す側面図である。図16において、持ち上げ装置は省略している。
第11の実施例は、光路接続モジュール11を投影光学系20に接続させたまま、光路接続モジュール11以外の交換部品(EUVチャンバ10等)を持ち上げ装置により持ち上げて移動させることによってメンテナンス可能とした点で、第1〜第10の実施例と異なる。その他の点については、第1〜第10の実施例と同一である。
第11の実施例において持ち上げ装置により持ち上げられて移動させられる交換部品は、図2に示すEUVチャンバ10に備えられたターゲット供給部3、ターゲット回収部5、EUV集光ミラー15などを含むことが望ましい。すなわち、ターゲット供給部3はターゲット物質をEUVチャンバ10内に供給する装置であり、長期間使用するとターゲットノズル8等に目詰まりが発生するため定期的な交換が必要である。ターゲット回収部5はターゲット供給部3から供給されたにもかかわらずプラズマ化しなかったターゲット物質を回収する装置であり、使用中にターゲット物質によって汚染されていくため定期的な交換が必要である。EUV集光ミラー15は、使用中にターゲット物質の付着やイオンエッチング等により反射率が低下していくため定期的な交換が必要である。
これに対し、光路接続モジュール11は、EUVチャンバ10に備えられたターゲット供給部3、ターゲット回収部5及びEUV集光ミラー15ほど頻繁なメンテナンスを必要としない。そこで、第11の実施例においては、EUVチャンバ10を光路接続モジュール11と切り離してメンテナンスエリアまで運べるようにしている。
図16に示す第11の実施例において、EUVチャンバ10内又は光路接続モジュール11内に大気が進入しないように、EUVチャンバ10と光路接続モジュール11との接続部分には、ゲートバルブ又は蓋を設けても良い。また、EUVチャンバ10と光路接続モジュール11とを切り離す前に、EUVチャンバ10内及び光路接続モジュール11内に、窒素ガス又はアルゴンガス等の不活性気体を大気圧付近にまで充填するようにしても良い。
第11の実施例においては、EUVチャンバ10と光路接続モジュール11とを切り離すこととしたが、EUVチャンバ10を分割して、EUVチャンバ10の一部のみを持ち上げ装置により持ち上げて移動させることとしても良い。
図17は、第1実施形態のEUV光源システムにおける第12の実施例を示す側面図である。図17において、持ち上げ装置は省略している。
第12の実施例においては、EUVチャンバ10に接続された光路接続モジュール11aと、投影光学系20に接続された光路接続モジュール11bとを接続することによって、EUVチャンバ10と投影光学系20とを接続している。第12の実施例は、光路接続モジュール11bを投影光学系20に接続させたまま、光路接続モジュール11aとEUVチャンバ10とを持ち上げ装置により持ち上げて移動させることによってメンテナンス可能とする点で、第11の実施例と異なる。その他の点については、第11の実施例と同一である。
第12の実施例において、光路接続モジュール11a及び11b内に大気が進入しないように、光路接続モジュール11aと光路接続モジュール11bとの接続部分には、ゲートバルブ又は蓋を設けても良い。
図18は、第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第13の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。図18において、EUV光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第13の実施例は、EUVチャンバ台車80aを所望の位置に固定する固定機構を備えた点で、第1〜第12の実施例と異なる。その他の点、例えば、EUV光源装置、投影光学系、持ち上げ装置については、第1〜第12の実施例と同一の構成を採用することができる。
第13の実施例におけるEUVチャンバ台車80aは、EUVチャンバ台車80aの進行方向側方に突出したピン支持部81aによって上下動可能に支持されたピン81bを有している。ピン81bの下端が、床面に設けられた孔82内に挿入されると、EUVチャンバ台車80aの位置が固定される。ピン81bを孔82から抜き取れば、EUVチャンバ台車80aを移動させることができる。
図18においては、ピン支持部81aがEUVチャンバ台車80aの進行方向側方に突出しているため、ピン81b及び孔82がEUVチャンバ台車80aの進行方向側方に位置しているが、この位置に限らず、ピン支持部81aがEUVチャンバ台車80aの進行方向前方或いは後方に突出するようにして、ピン81b及び孔82がEUVチャンバ台車80aの固定位置よりも進行方向前方或いは後方に位置するようにしてもよい。更に、ピン支持部81aを水平方向に突出させずにEUVチャンバ台車80aのEUVチャンバ搭載面内に形成することにより、水平方向の突起をなくすようにしても良い。ピン支持部81aをEUVチャンバ台車80aのEUVチャンバ搭載面内に形成する場合は、EUVチャンバ10の搭載、移動に干渉しない位置にピン支持部81aを形成することが望ましい。
第13の実施例によれば、EUVチャンバ台車80aの位置を一時的に固定できるので、EUVチャンバ台車80aの固定位置において交換部品を載せたり、メンテナンスしたりする作業を安全に行うことができる。
また、例えば図7を参照しながら説明した第2の実施例のように、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系20の光軸と一致する位置における床面(低床面)が、EUVチャンバ台車によりEUVチャンバ10を搬送可能な領域における床面(高床面)より低くなっている場合に、図18に示すEUVチャンバ台車80aを採用すれば、高床面を走行するEUVチャンバ台車80aが低床面に落下することを防止することができる。
図19は、第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第14の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。図19において、EUV光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第14の実施例は、固定機構として、EUVチャンバ台車80bの車輪の回転を摩擦により規制するブレーキ機構83を備えた点で、第13の実施例と異なる。その他の点については、第13の実施例と同一である。
第14の実施例におけるEUVチャンバ台車80bにおいて、ブレーキ機構83を車輪84のうち少なくとも1つの外周に押し付けると、EUVチャンバ台車80bの移動が規制される。ブレーキ機構83を車輪84から引き離せば、EUVチャンバ台車80bを移動させることができる。ブレーキ機構83は、EUVチャンバ台車80bの位置を固定するためだけでなく、EUVチャンバ台車80bを減速させるために使用してもよい。また、ブレーキ機構83は複数備えてもよいし、それらを同時に車輪84に押し付けてもよい。
図20は、第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第15の実施例を示す側面図(a)及び正面図(b)である。図20において、EUV光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第15の実施例は、固定機構として、EUVチャンバ台車80cの車輪84の走行経路上に窪み85を形成可能とした点で、第13及び第14の実施例と異なる。その他の点については、第13及び第14の実施例と同一である。
第15の実施例においては、例えば、レール86が車輪84の走行経路を構成している。このレール86の一部を、油圧ポンプ87による油圧等によって昇降可能とする。これにより、レール86の一部を下降させたときには窪み85が形成され、EUVチャンバ台車80cの位置を固定することができる。レール86の窪み85に相当する部分を上昇させれば、EUVチャンバ台車80cを移動させることができる。
図21は、第1実施形態におけるEUVチャンバ台車に関する第16の実施例を示す側面図(a)(c)及び正面図(b)(d)である。図21(a)(b)はEUVチャンバ台車80dの位置が固定されていない状態、図21(c)(d)はEUVチャンバ台車80dの位置が固定された状態を示している。図21において、EUV光源装置及び持ち上げ装置は省略している。
第16の実施例は、固定機構として、大径円筒部88aと、小径円筒部88bと、レバー89とを含むリンク機構を備えた点で、第13〜第15の実施例と異なる。その他の点については、第13〜第15の実施例と同一である。大径円筒部88aは、一端をEUVチャンバ台車80dに固定されている。大径円筒部88aの他端には小径円筒部88bが挿入されており、小径円筒部88bは、大径円筒部88a内において往復動可能となっている。レバー89は、大径円筒部88a内への小径円筒部88bの挿入深さを決定する。
図21(a)(b)に示すように、大径円筒部88a内に小径円筒部88bが深く挿入されて小径円筒部88bが床面から浮いた状態においては、EUVチャンバ台車80dは床面に対して固定されておらず、移動可能である。一方、図21(c)(d)に示すように、レバー89を回動させると、大径円筒部88a内から小径円筒部88bが引き出される。これにより、小径円筒部88bが床面を押圧し、少なくとも1つの車輪84が床面から浮いた状態となり、EUVチャンバ台車80dの位置が固定される。このような固定機構としては、一般に市販されているものを用いることもできる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図22は、本発明の第2実施形態に係る極端紫外(EUV)光源システムの概略構成を示す側面図である。第2実施形態は、持ち上げ装置31が持ち上げ機構フレームを有していない点で第1実施形態と異なる。その他の点については、第1実施形態と同一である。例えば、図16及び図17を参照しながら説明したように、持ち上げ装置が持ち上げて移動させる交換部品は、EUVチャンバ10の全部又は一部のみを含んでも良いし、EUVチャンバ10の他に光路接続モジュール11の全部又は一部を含んでも良い。また、図18〜図20を参照しながら説明したように、固定機構によってEUVチャンバ台車を所望の位置に固定できるようにしても良い。
図22に示すように、EUVチャンバ10が設置される低床面には、光源装置のフレーム90が固定され、光源装置のフレーム90上に移動機構60a及び位置決め機構70が固定されている。EUVチャンバ10が移動機構60a上において位置決め機構70により位置決めされると、EUVチャンバ10の光軸が投影光学系20の光軸と一致する。
また、低床面には持ち上げ装置31が設置されている。持ち上げ装置31は、EUVチャンバ10等の交換部品を下方から支持する上下ベース部311を、リンク機構、送りねじ、流体圧シリンダ、蛇腹チューブ等によって、上下動させる機構を有している。上下動させる機構の詳細は後述する。上下ベース部311上には移動機構60bが固定されている。上下ベース部311が図22(a)に示す下方位置にあるときには、EUVチャンバ10は、光源装置のフレーム90上の移動機構60aと上下ベース部311上の移動機構60bとの間を往復動することができる。
高床面においては、EUVチャンバ台車80が走行可能となっている。EUVチャンバ台車80上には移動機構60cが固定されている。上下ベース部311が図22(b)に示す上方位置にあり、且つ、EUVチャンバ台車80が持ち上げ装置31に隣接して待機しているときには、EUVチャンバ10は、上下ベース部311上の移動機構60bとEUVチャンバ台車80上の移動機構60cとの間を往復動することができる。
このように、第2実施形態において、EUVチャンバ10等の交換部品の低床面での移動は、移動機構60aと移動機構60bとの間で行われ、低床面の領域から高床面の領域への移動は、移動機構60bと移動機構60cとの間で行われ、高床面の領域内での移動は、EUVチャンバ台車80により行われる。
移動機構60a〜60cの構成は特に限定されるものではなく、例えばチャンバ台74aが走行可能なレールを、移動機構60a〜60cとすることができる。
第2実施形態によれば、EUVチャンバ10等の交換部品をクレーン等により引き上げる構成が不要であるため、交換部品の持ち上げ高さより高いフレーム等の構造物が持ち上げ装置31には不要となり、EUV光源システムの設置スペースを低減することができる。
次に、上記第2実施形態のEUV光源システムの具体的な実施例について説明する。なお、上記第2実施形態の説明は、その性質に反しない限りそのまま以下の各実施例においても該当する。
図23は、第2実施形態のEUV光源システムにおける移動機構に関する第16の実施例を示す側面図である。
図23に示す第16の実施例は、図22に示す第2実施形態において、チャンバ台に移動機構として車輪が設けられているとともに、移動機構60a〜60cの代わりに移動機構のないベースが設けられているものである。図23において、チャンバ台74bは、車輪741によって、光源装置のフレーム90上のベース60d、上下ベース部311上のベース60e、及び高床面上を移動できるようになっている。
第16の実施例によれば、チャンバ台74bが車輪741を有することにより、チャンバ台74bを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
図23に示す第16の実施例においては、車輪741を有するチャンバ台74bにEUVチャンバ10を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図6〜図15を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80に、車輪を有しないチャンバ台74aを載せるようにしても良い。また、EUVチャンバ10等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構(例えば、キャスター)を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図23のベース60d及び60eには車輪(例えばキャスター)の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
また、図18〜図20を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80a〜80cの固定機構を、図23の車輪を有するチャンバ台74bの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台74bをベース60e上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置31による交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
図24は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第17の実施例を示す平面図(a)、図24(a)のA−A線断面図(b)、及び、側面図(c)である。
図24に示す第17の実施例は、図22に示す第2実施形態において、持ち上げ装置が上下ベース部311の真下に設けられているものである。
図24に示す第17の実施例によれば、持ち上げ装置31aを上下ベース部311の真下に設けるので、持ち上げ装置31aと上下ベース部311とを含めたEUV光源システムの設置床面積を低減することができる。
持ち上げ装置31aによって交換部品とともに持ち上げられた上下ベース部311から、高床面のEUVチャンバ台車80に交換部品を移動させる移動方向は、図24(a)に双方向矢印で示すように、投影光学系20に対する方向と平行な方向でも良いし、投影光学系20に対する方向と交差する方向でも良い。
図25は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第18の実施例を示す平面図(a)、図25(a)のB−B線断面図(b)、及び、側面図(c)である。
図25に示す第18の実施例は、チャンバ台74bに移動機構として車輪741が設けられている点と、移動機構60a〜60cの代わりに移動機構のないベース60d及び60eが設けられている点で図24に示す第17の実施例と異なる。その他の点については、第17の実施例と同一である。図25において、チャンバ台74bは、車輪741によって、光源装置のフレーム90上のベース60d、上下ベース部311上のベース60e、及び高床面上を移動できるようになっている。
第18の実施例によれば、チャンバ台74bが車輪741を有することにより、チャンバ台74bを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
図25に示す第18の実施例においては、車輪741を有するチャンバ台74bにEUVチャンバ10を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図6〜図15を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80に、車輪を有しないチャンバ台74aを載せるようにしても良い。また、EUVチャンバ10等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構(例えば、キャスター)を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図25のベース60d及び60eには車輪(例えばキャスター)の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
また、図18〜図20を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80a〜80cの固定機構を、図25の車輪を有するチャンバ台74bの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台74bをベース60e上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置31aによる交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
図26は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第19の実施例を示す平面図(a)、図26(a)のC−C線断面図(b)、及び、側面図(c)である。
図26に示す第19の実施例は、図22に示す第2実施形態において、持ち上げ装置が上下ベース部311の両脇に設けられているものである。
図26に示す第19の実施例によれば、持ち上げ装置31bを上下ベース部311の両脇に設けるので、上下ベース部311の真下に持ち上げ装置31bの設置スペースが不要となり、上下ベース部311の可動範囲を大きくすることができる。
持ち上げ装置31bによって交換部品とともに持ち上げられた上下ベース部311から、高床面のEUVチャンバ台車80に交換部品を移動させる移動方向は、図26(a)に双方向矢印で示すように、投影光学系20に対する方向と平行な方向でも良いし、投影光学系20に対する方向と交差する方向でも良い。図26においては、持ち上げ装置31bが上下ベース部311の両脇に設けられている実施例を示したが、本発明はこの実施例に限定されることなく、持ち上げ装置31bを片側の脇にのみ設置することも可能である。
図27は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第20の実施例を示す平面図(a)、図27(a)のD−D線断面図(b)、及び、側面図(c)である。
図27に示す第20の実施例は、チャンバ台74bに移動機構として車輪741が設けられている点と、移動機構60a〜60cの代わりに移動機構のないベース60d及び60eが設けられている点で図26に示す第19の実施例と異なる。その他の点については、第19の実施例と同一である。図27において、チャンバ台74bは、車輪741によって、光源装置のフレーム90上のベース60d、上下ベース部311上のベース60e、及び高床面上を移動できるようになっている。
第20の実施例によれば、チャンバ台74bが車輪741を有することにより、チャンバ台74bを所望の位置にスムーズに移動させることができる。
図27に示す第20の実施例においては、車輪741を有するチャンバ台74bにEUVチャンバ10を載せる場合について説明したが、車輪を用いて交換部品を移動させる態様はこれに限定されない。例えば、図6〜図15を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80に、車輪を有しないチャンバ台74aを載せるようにしても良い。また、EUVチャンバ10等の交換部品自体が車輪等の移動可能な機構(例えば、キャスター)を持つことによって移動できるようにしてもよい。さらに、図27のベース60d及び60eには車輪(例えばキャスター)の移動方向をガイドするようなガイド機構が設置されていてもよい。
また、図18〜図20を参照しながら説明したような車輪を有するEUVチャンバ台車80a〜80cの固定機構を、図27の車輪を有するチャンバ台74bの固定に適用しても良い。固定機構によって、チャンバ台74bをベース60e上に一時的に固定できるようにすることにより、持ち上げ装置31bによる交換部品の昇降動作を安全に行うことができる。
図28は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第21の実施例を示す側面図である。
図28に示す第21の実施例は、第2実施形態において、X字型のジャッキ321と、このジャッキ321の水平方向の寸法を変化させるよう駆動する駆動部322とにより、リンク機構式の持ち上げ装置32を構成したものである。持ち上げ装置32においては、駆動部322が伸縮することにより、X字型のジャッキ321の水平方向の寸法が変化し、ジャッキ321が上下方向に伸縮して、上下ベース部311が昇降する。
図28における持ち上げ装置32は、図24に示す持ち上げ装置31aのように上下ベース部311の真下に設けられていても良く、図26に示す持ち上げ装置31bのように上下ベース部311の両脇に設けられていても良い。また、図28におけるチャンバ台74aは、図23、図25、図27に示す車輪741を備えたチャンバ台74bに置き換えられても良い。
また、図28において、持ち上げ装置32による上下動のストロークを大きくする必要がある場合は、複数のX字型ジャッキの組み合わせたものを使用してもよい。
図29は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第22の実施例を示す側面図である。
図29に示す第22の実施例は、第2実施形態において、ガイド棒331、送りねじ332、及び送りねじを回転駆動する駆動部333により、送りねじ式の持ち上げ装置33を構成したものである。送りねじ332は床面にねじ込まれている。持ち上げ装置33においては、駆動部333が送りねじ332を回転駆動することにより、床面に対する送りねじ332の軸方向の位置が変化して、上下ベース部311が昇降する。送りねじ332は、ボールねじでも角ねじでも台形ねじでも良い。
図29における持ち上げ装置33は、図24に示す持ち上げ装置31aのように上下ベース部311の真下に設けられていても良く、図26に示す持ち上げ装置31bのように上下ベース部311の両脇に設けられていても良い。また、図29におけるチャンバ台74aは、図23、図25、図27に示す車輪741を備えたチャンバ台74bに置き換えられても良い。
図30は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第23の実施例を示す側面図である。
図30に示す第23の実施例は、第2実施形態において、てこ341と、てこ341を回転駆動する駆動部342とにより、リンク機構式の持ち上げ装置34を構成したものである。持ち上げ装置34においては、駆動部342がてこ341を回転駆動することにより、上下ベース部311を支持するてこ341が水平に近い姿勢(図30(a))から垂直に近い姿勢(図30(b))に変化して、上下ベース部311が昇降する。
図30における持ち上げ装置34は、図24に示す持ち上げ装置31aのように上下ベース部311の真下に設けられていても良く、図26に示す持ち上げ装置31bのように上下ベース部311の両脇に設けられていても良い。また、図30におけるチャンバ台74aは、図23、図25、図27に示す車輪741を備えたチャンバ台74bに置き換えられても良い。
図31は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第24の実施例を示す側面図である。
図31に示す第24の実施例は、第2実施形態において、シリンダロッド351と、シリンダロッド351を油圧又は空気圧等の流体圧で駆動するポンプ352により、持ち上げ装置35を構成したものである。持ち上げ装置35においては、ポンプ352がシリンダロッド351内に流体を供給し又はシリンダロッド351内の流体を排出させることにより、上下ベース部311が昇降する。この実施例においては、流体として、例えば、クリーンエア、窒素ガスのような気体や、油のような液体を用いることができる。
図31における持ち上げ装置35は、図24に示す持ち上げ装置31aのように上下ベース部311の真下に設けられていても良く、図26に示す持ち上げ装置31bのように上下ベース部311の両脇に設けられていても良い。また、図31におけるチャンバ台74aは、図23、図25、図27に示す車輪741を備えたチャンバ台74bに置き換えられても良い。
図32は、第2実施形態のEUV光源システムにおける第25の実施例を示す側面図である。
図32に示す第25の実施例は、第2実施形態において、蛇腹チューブ361と、蛇腹チューブ361に空気圧を供給するポンプ362により、持ち上げ装置36を構成したものである。持ち上げ装置36においては、ポンプ362が蛇腹チューブ361内に空気を供給し又は蛇腹チューブ361内の空気を排出させることにより、上下ベース部311が昇降する。この実施例では蛇腹チューブ361を空気圧で動作させる例(たとえばエアシリンダ)を示したが、油圧で動作させる例(例えば油圧シリンダ)も可能である。
図32における持ち上げ装置36は、図24に示す持ち上げ装置31aのように上下ベース部311の真下に設けられていても良く、図26に示す持ち上げ装置31bのように上下ベース部311の両脇に設けられていても良い。また、図32におけるチャンバ台74aは、図23、図25、図27に示す車輪741を備えたチャンバ台74bに置き換えられても良い。
本発明は、露光装置の光源として用いられるEUV光源装置において利用することが可能である。
1…EUV光源装置、2…ドライバレーザ、3…ターゲット供給部、5…ターゲット回収部、6…レーザ集光光学系、7…窓、8…ターゲットノズル、10…EUVチャンバ、11、11a、11b…光路接続モジュール、15…EUV集光ミラー、20…投影光学系、21…マスク照射部、22…ワークピース照射部、30、31、31a、31b、32、33、34、35、36…持ち上げ装置、311…上下ベース部、321…ジャッキ、322…駆動部、331…ガイド棒、332…送りねじ、333…駆動部、341…てこ、342…駆動部、351…シリンダロッド、352…ポンプ、361…蛇腹チューブ、362…ポンプ、40、40a、40b、40c、41、42、43、44、45…持ち上げ機構フレーム、50、51、52、53…持ち上げ機構、60、60a、60b、60c…移動機構、60d、60e…ベース、70…位置決め機構、74a、74b…チャンバ台、741…車輪、80、80a〜80d…EUVチャンバ台車、81a…ピン支持部、81b…ピン、82…孔、83…ブレーキ機構、84…車輪、85…窪み、86…レール、87…油圧ポンプ、88a…大径円筒部、88b…小径円筒部、89…レバー、90…光源装置のフレーム、MT…マスクテーブル、WT…ワークピーステーブル

Claims (12)

  1. 極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質を前記チャンバ内に供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるドライバレーザと、該プラズマから放射される極端紫外光を集光して露光装置の投影光学系に入射させる集光ミラーと、を含む極端紫外光源装置と、
    前記極端紫外光源装置の一部であり且つ前記チャンバを含む交換部品を持ち上げて移動させるように設置されている持ち上げ装置と、
    を具備する極端紫外光源システム。
  2. 前記持ち上げ装置は、前記交換部品を吊り上げることにより前記交換部品を持ち上げる、請求項1記載の極端紫外光源システム。
  3. 前記持ち上げ装置が、前記極端紫外光源装置に固定されている、請求項1又は2記載の極端紫外光源システム。
  4. 前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
    前記持ち上げ機構フレームが、前記極端紫外光源装置のフレームと一体化されている、請求項3記載の極端紫外光源システム。
  5. 前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
    前記持ち上げ機構が、前記持ち上げ機構フレームに対して重力方向と交差する方向に移動する、請求項1乃至3のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
  6. 前記持ち上げ装置が、前記交換部品を持ち上げる持ち上げ機構と、前記持ち上げ機構を支持する持ち上げ機構フレームとを含み、
    前記持ち上げ機構フレームが、前記極端紫外光源装置に対して重力方向と交差する方向に移動する、請求項1又は2記載の極端紫外光源システム。
  7. 前記持ち上げ装置は、前記交換部品を押し上げることにより前記交換部品を持ち上げる、請求項1記載の極端紫外光源システム。
  8. 前記持ち上げ装置は、前記交換部品の持ち上げ高さ以下の高さを有する、請求項7記載の極端紫外光源システム。
  9. 前記持ち上げ装置は、前記交換部品を下方から支持するベース部の真下に設けられ、該ベース部を上下動させる、請求項7又は8記載の極端紫外光源システム。
  10. 前記持ち上げ装置は、前記交換部品を下方から支持するベース部の両脇に設けられ、該ベース部を上下動させる、請求項7又は8記載の極端紫外光源システム。
  11. 前記交換部品を載せて、第1の位置とメンテナンスエリア内の第2の位置との間で前記交換部品を移動可能に構成された台車をさらに具備する、請求項1乃至10のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
  12. 前記チャンバから射出されるEUV光の光軸が前記投影光学系の光軸と一致する第1の位置と、第2の位置との間で、前記チャンバを含む前記交換部品を保持して移動させるための車輪を有するチャンバ台をさらに具備する、請求項1乃至10のいずれか一項記載の極端紫外光源システム。
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