JP5554032B2 - 極端紫外光源装置 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置の光源として用いられる極端紫外（ＥＵＶ：extreme ultraviolet）光源装置に関する。

近年、半導体プロセスの微細化に伴い、光リソグラフィの微細化も急速に進展しており、次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、更には３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。そのため、例えば、３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度のＥＵＶ光源と縮小投影反射光学系（reduced projection reflective optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

ＥＵＶ光源としては、ターゲットにレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（laser produced plasma：レーザ生成プラズマ）光源（以下において、「ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置」ともいう）と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（discharge produced plasma）光源と、軌道放射光を用いたＳＲ（synchrotron radiation）光源との３種類がある。これらの内でも、ＬＰＰ光源は、プラズマ密度をかなり大きくできるので黒体輻射に近い極めて高い輝度が得られ、ターゲット物質を選択することにより必要な波長帯のみの発光が可能であり、光源の周囲に電極等の構造物がなく、ほぼ等方的な角度分布を持つ点光源であるので、２πsteradianという極めて大きな捕集立体角の確保が可能であること等の利点から、数十ワット以上のパワーが要求されるＥＵＶリソグラフィ用の光源として有力であると考えられている。

ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置においては、次のような原理でＥＵＶ光が生成される。即ち、ノズルを用いて真空チャンバ内にターゲット物質を供給し、このターゲット物質に対してレーザビームを照射することにより、ターゲット物質を励起してプラズマ化させる。そのようにして生成されたプラズマからは、極端紫外（ＥＵＶ）光を含む様々な波長成分が放射される。そこで、その内の所望の波長成分（例えば、１３．５ｎｍ）を選択的に反射するコレクタミラー（集光ミラー）を用いることによりＥＵＶ光を反射集光し、露光機（投影光学系）に出力する。例えば、波長が１３．５ｎｍ付近のＥＵＶ光を集光するコレクタミラーとしては、反射面にモリブデン（Ｍｏ）及びシリコン（Ｓｉ）の薄膜が交互に積層されたミラーが用いられる。通常、Ｍｏ／Ｓｉ薄膜の積層数は、６０から数百層に及ぶ。

関連する技術として、特許文献１には、ＥＵＶ光源装置（放射線ユニット）内に斜入射ミラーを設けることにより、ＥＵＶ光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。

しかしながら、特許文献１においては、斜入射ミラーを設けることにより、ＥＵＶ光強度の損失が生じてしまう。一般に、ミラーによるＥＵＶ光の反射率は約６０％程度であり、ミラーの枚数が１枚増加するごとに、ＥＵＶ光の利用効率が６０％程度に低下する。

また、特許文献２には、ＥＵＶ光源装置を重力方向に対して斜めに設置することにより、ＥＵＶ光を、投影光学系の光軸に一致するように投影光学系の仮想光源点に照射するリソグラフィ装置が開示されている。特許文献２によれば、特許文献１に比べて反射ミラーが１枚少なくなり、ＥＵＶ光の利用効率を改善することができる。

しかしながら、特許文献２のようにＥＵＶ光源装置を斜めに設置した場合には、ＥＵＶ光源装置のメンテナンスのために、チャンバ又はチャンバの一部の取り外し、メンテナンス領域への移動、及び、投影光学系への高精度な設置をすることが容易でなくなる。

特開２００６−１０８６８６号公報（図５） 米国特許出願公開第２００６／１４６４１３号明細書（図２）

そこで、上記の点に鑑み、本発明は、ＥＵＶ光源装置のメンテナンスのために、チャンバ又はチャンバの一部の取り外し、メンテナンス領域への移動、及び、投影光学系への高精度な設置を容易にすることのできるＥＵＶ光源装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明の１つの観点に係る極端紫外光源装置は、レーザ光をターゲット物質に照射することによりプラズマを発生させ、該プラズマから放射される極端紫外光を露光装置の投影光学系に入射させる装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部と、ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによってプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に位置し、プラズマから放射される極端紫外光を反射することにより集光する集光ミラーと、少なくとも該チャンバの一部を構成する筐体であって、集光ミラーと集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸とを囲む該筐体を、該集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸と該露光装置の投影光学系の光軸とが一致する所定位置に位置決めする位置決め機構と、該所定位置に位置決めされた該筐体を、集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸と露光装置の投影光学系の光軸とに対して交差する方向に移動させることにより、該所定位置とメンテナンス領域との間で移動させる移動機構とを具備する。

本発明によれば、メンテナンスの必要なチャンバ又はチャンバの一部を所定位置に位置決めする位置決め機構と、該チャンバ又はチャンバの一部を該所定位置とメンテナンス領域との間で移動させる移動機構とを備えたので、ＥＵＶ光源装置のメンテナンスのために、チャンバ又はチャンバの一部の取り外し、メンテナンス領域への移動、及び投影光学系への高精度な設置をすることが容易となる。

本発明の一実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源装置を含む露光装置の概略構成を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置を構成するチャンバ及び周辺装置の概要を示す模式図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第３の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第４の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第５の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第６の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第７の実施例を示す平面図（ａ）、側面図（ｂ）及び背面図（ｃ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第８の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第９の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１０の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１２の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１３の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１４の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１５の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１６の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１７の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１８の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第１９の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２０の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２１の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２２の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２３の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２４の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２５の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２６の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２７の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２８の実施例を示す背面図である。 ＥＵＶ光源装置と投影光学系との接続部に関する第２９の実施例を示す側面図である。 ＥＵＶ光源装置のチャンバのうち一部のみを移動させる構成に関する第３０の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。 ＥＵＶ光源装置のチャンバのうち一部のみを移動させる構成に関する第３１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、重複する説明を省略する。
図１は、本発明の一実施形態に係る極端紫外（ＥＵＶ）光源装置を含む露光装置の概略構成を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。この露光装置は、ＥＵＶ光源装置１と、投影光学系２０とを含んでいる。

ＥＵＶ光源装置１は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりＥＵＶ光を生成するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）方式を採用している。図１に示すように、このＥＵＶ光源装置１は、ＥＵＶ光の生成が行われるチャンバ１０と、移動機構６０と、位置決め機構７０とを有している。チャンバ１０は、ＥＵＶ光の生成が行われる真空チャンバである。

図２は、ＥＵＶ光源装置を構成するチャンバ及び周辺装置の概要を示す模式図である。ＥＵＶ光源装置１は、図１に示すチャンバ１０、移動機構６０及び位置決め機構７０の他に、図２に示すドロップレット発生器１１と、ドロップレットキャッチャ１６と、ドライバレーザ３０と、フレキシブル配管９２とを有している。

ドロップレット発生器１１は、ＥＵＶ光を発生するために用いられる錫（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）等のターゲット物質を、ターゲットノズル１２を介してチャンバ１０内に供給する装置である。供給されたターゲット物質の内で、レーザ光が照射されずに不要となったものは、ドロップレットキャッチャ１６によって回収される。なお、ドロップレット発生器１１は、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部に相当する。

ターゲット物質の状態は、固体、液体、気体の何れでも良く、連続流れ（ターゲット噴流）や液滴（ドロップレット）等の公知の何れの態様でターゲット物質をチャンバ１０内の空間に供給しても良い。例えば、ターゲット物質として錫（Ｓｎ）の溶融金属を用いる場合には、ドロップレット発生器１１は、Ｓｎを溶融するためのヒータや溶融金属Ｓｎを噴出させるための高純度Ａｒガスを供給するガスボンベ、マスフローコントローラ、ターゲットノズル等によって構成される。また、ドロップレットを生成する場合には、ターゲットノズルにピエゾ素子等の加振装置が追加される。

ドライバレーザ３０は、ターゲット物質を励起させるために用いられる駆動用のレーザ光を生成する発振増幅型レーザ装置である。ドライバレーザ３０によって生成されたレーザ光は、少なくとも１つのレンズ及び／又は少なくとも１つのミラーを含んだレーザ集光光学系３５と、レーザ光をチャンバ１０内に通過させるためのレーザ光導入用チャンバウィンド３４とを介して、チャンバ１０内のターゲット物質の軌道上に焦点を形成するように集光される。レーザ光をターゲット物質に照射することにより、プラズマが生成され、そこから様々な波長を有する光が放射される。

チャンバ１０内には、ＥＵＶ集光ミラー１５が設けられている。ＥＵＶ集光ミラー１５の反射面は、プラズマから放射された様々な波長を有する光の内の、所定の波長成分（例えば、１３．５ｎｍ）を有するＥＵＶ光を高い反射率で反射させる多層膜がコートされている。このＥＵＶ集光ミラー１５の反射面は楕円形状をしている。ＥＵＶ集光ミラー１５は、楕円の第１の焦点位置がプラズマ発光点（ＰＰ）となるように配置されており、ＥＵＶ光は、楕円の第２の焦点位置に中間集光点（ＩＦ）として集光される。

チャンバ１０と投影光学系２０との間には、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光を投影光学系２０に入射させるためのフレキシブル配管９２が接続されている。フレキシブル配管９２については、図３１の説明において後述する。

図１を再び参照すると、投影光学系２０は、マスクを照明するためのマスク照射部２１と、マスクの像をウエハ上に投影露光するためのワークピース照射部２２を有している。マスク照射部２１は、ＥＵＶ光源装置１から入射したＥＵＶ光を、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターン上に照明させる。ワークピース照射部２２は、マスクテーブルＭＴから反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴ上のワークピース（半導体ウエハ等）に結像させる。そして、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同時に平行移動させることにより、マスクパターンをワークピースに露光させる。

位置決め機構７０は、チャンバ１０の形状に合わせたチャンバ台７４ａを具備する。このチャンバ台７４ａは、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致するように、重力方向に対して斜めの姿勢にチャンバ１０を保持する。チャンバ台７４ａは、チャンバ１０の形状に合わせてあるので、チャンバ１０がチャンバ台７４ａに嵌まることにより、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する姿勢でチャンバ１０を正しく保持することができる。

位置決め機構７０は、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する所定位置にチャンバ１０が位置決めされるように、チャンバ台７４ａを位置決めする。チャンバ台７４ａを位置決めする構成の詳細は後述するが、ストッパ、位置決めピン、６軸ステージなど種々の構成を用いることができる。図１には、チャンバ１０が、投影光学系２０の光軸と一致する所定位置にチャンバ台７４ａとともに位置決めされた状態を、実線で示している。

移動機構６０は、位置決め機構７０によって位置決めされた所定位置と、メンテナンス可能なメンテナンス領域との間で、チャンバ１０を移動させる機構である。移動機構６０の詳細は後述するが、レールと車輪、クレーン、エアー発生装置など種々の構成を用いることができる。図１には、チャンバ１０がチャンバ台７４ａとともにメンテナンス領域に移動された状態を、破線で示している。

以上のように構成することにより、本実施形態によれば、ＥＵＶ光源装置１を、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が露光装置の投影光学系２０の光軸と一致するように、斜めの状態で高精度に設置することができる。一方、ＥＵＶ光源装置１のチャンバ１０をメンテナンスする際に、チャンバ１０を投影光学系２０から安全に取り外すことができる。また、チャンバ１０をメンテナンスした後に、チャンバ１０を投影光学系２０に対して高精度に設置することができる。更に、チャンバ１０のメンテナンスのための取り外し及び設置を短時間で行うことができる。

次に、上記実施形態のＥＵＶ光源装置１の具体的な構成例について説明する。
図３は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。

図３に示すように、第１の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として、床上に設置された２本の平行なレール６１を備えている。チャンバ台７４ａには車輪８１ａが取り付けられており、レール６１に沿って車輪８１ａが転がることにより、チャンバ台７４ａがチャンバ１０とともに移動するようになっている。なお、車輪８１ａの替わりにスライド式ベアリングを用いても良い。また、以下の説明においても、車輪８１ａの替わりにスライド式ベアリングを用いることができる。

更に、第１の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、位置決め機構７０として、レール６１上の投影光学系２０側の位置に設置された位置決めブロック７１ａと、投影光学系２０とは反対側の位置に設置される固定プレート７２とを備えている。この固定プレート７２には、チャンバ台７４ａを接触固定するための部材が設置されている。

位置決めブロック７１ａはレール６１上に常時設置されており、チャンバ台７４ａの投影光学系２０側への移動を規制する。固定プレート７２は、チャンバ台７４ａを位置決めブロック７１ａに押し付けた状態で、レール６１上に設置され、ボルト７３ａ又はピンで固定されることで、チャンバ台７４ａの投影光学系２０とは反対側への移動を規制する。

これら位置決めブロック７１ａと、固定プレート７２とにより、チャンバ台７４ａ及びチャンバ１０のレール６１上の進行方向に沿った移動が規制され、チャンバ１０が、投影光学系２０の光軸と一致する所定位置に位置決めされる。チャンバ１０をメンテナンスするときは、ボルト７３ａ及び固定プレート７２を外し、チャンバ台７４ａを図３において破線により示す位置まで移動させる。

なお、この実施例では、レール６１を床に、車輪８１ａをチャンバ台７４ａに設けることとしたが、本発明はこれに限らず、車輪を床に、レールをチャンバ台７４ａに設けることとしても良い。この場合には、例えば４つの車輪が床に設置されており、チャンバ台７４ａの下にレールを設置することにより、容易に移動及び位置決めが可能となる。

図４は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第２の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図４に示すように、第２の実施例に係るＥＵＶ光源装置１においては、移動機構として、チャンバ台７４ａに車輪８１ａが、床面上にガイドレール６４ａがそれぞれ設けられている。チャンバ１０を載せたチャンバ台７４ａは、車輪８１ａが床面上を転がることによって移動する。図３に示す第１の実施例においては、床面上のレール６１が、位置決めブロック７１ａの位置から固定プレート７２の固定位置を経てメンテナンス領域までにわたって設けられているのに対し、第２の実施例においては、位置決めブロック７１ａの位置から固定プレート７２の固定位置までの間にのみガイドレール６４ａが設けられており、メンテナンス領域まではガイドレール６４ａが設けられていない。

従って、第２の実施例に係るチャンバ１０を載せたチャンバ台７４ａは、メンテナンス領域においてはガイドレール６４ａの規制を受けずに走行可能であり、位置決めブロック７１ａの位置と固定プレート７２の固定位置との間においてはガイドレール６４ａによって走行経路が規制される。ガイドレール６４ａの長手方向におけるチャンバ１０の位置決めは、第１の実施例と同様に、チャンバ台７４ａの前端と接する位置決めブロック７１ａと、チャンバ台７４ａの後端と接する固定プレート７２とによって行われる。或いは、位置決めブロック７１ａの代わりに、チャンバ台７４ａの前端と接する位置に固定プレート７２と同様の位置決め部材を固定しても良い。

第２の実施例によれば、メンテナンス領域におけるチャンバ１０の移動の自由度を向上させ、チャンバ１０の取り扱いを容易とすることができる。なお、ガイドレール６４ａによってチャンバ台７４ａの走行経路を規制するための構成としては、チャンバ台７４ａの下面にガイドレール６４ａを受け入れる溝を形成しても良いし、図１８（後述）に示すように、チャンバ台７４ａの下面に突起を設け、この突起を受け入れる溝をガイドレール６４ａに形成しても良い。

図５は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第３の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図５に示すように、第３の実施例に係るＥＵＶ光源装置１においては、移動機構として、チャンバ台７４ａに車輪８１ａが設けられている。チャンバ１０を載せたチャンバ台７４ａは、車輪８１ａが床面上を転がることによって移動する。図４に示す第２の実施例においては、ガイドレール６４ａが位置決めブロック７１ａの位置から固定プレート７２の固定位置までにわたって設けられているのに対し、第３の実施例においては、位置決めブロック７１ａの設置位置付近にのみガイド片６４ｂが設けられており、固定プレート７２の固定位置やメンテナンス領域まではガイド片６４ｂが設けられていない。

従って、第３の実施例に係るチャンバ１０を載せたチャンバ台７４ａは、ガイド片６４ｂの規制を受けずに走行可能である。ガイド片６４ｂは、車輪８１ａによる進行方向に垂直な方向におけるチャンバ台７４ａの位置決めを行う。車輪８１ａによる進行方向に平行な方向におけるチャンバ台７４ａの位置決めは、チャンバ台７４ａの前端と接する位置決めブロック７１ａと、チャンバ台７４ａの後端と接する固定プレート７２とによって行われる。或いは、位置決めブロック７１ａの代わりに、チャンバ台７４ａの前端と接する位置に固定プレート７２と同様の位置決め部材を固定しても良い。

第３の実施例によれば、位置決めを要する場合以外におけるチャンバ１０の移動の自由度を向上させ、チャンバ１０の取り扱いを容易とすることができる。なお、ガイド片６４ｂによってチャンバ１０を位置決めするため、例えば、チャンバ１０を載せたチャンバ台７４ａに、ガイド片６４ｂを受け入れる溝が形成されている。

図６は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第４の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図６に示すように、第４の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向にチャンバ１０が移動する点で、図３に示す第１の実施例と異なる。従って、第４の実施例において、レール６１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向に設置されている。また、チャンバ１０は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向の位置決めが位置決めブロック７１ａ及び固定プレート７２によってなされる。その他の構成は、第１の実施例と同様であり、レール６１に沿って車輪８１ａが転がることにより、チャンバ台７４ａがチャンバ１０とともに移動する。なお、ここではチャンバ１０が投影光学系２０に向かって右側（図６（ａ）における下方）に移動する例を示したが、左側（図６（ａ）における上方）に移動することとしても良い。

図７は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第５の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図７に示すように、第５の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向にチャンバ１０が移動する点で、図４に示す第２の実施例と異なる。従って、第５の実施例において、ガイドレール６４ａは、投影光学系２０に対する向きと交差する方向に設置されている。また、チャンバ１０は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向の位置決めが位置決めブロック７１ａ及び固定プレート７２によってなされる。その他の構成は、第２の実施例と同様であり、チャンバ１０が、ガイドレール６４ａの長手方向に平行な方向に移動することにより、位置決めブロック７１ａに接する所定位置と、ガイドレール６４ａの設けられていないメンテナンス領域との間を移動する。なお、ここではチャンバ１０が投影光学系２０に向かって右側（図７（ａ）における下方）に移動する例を示したが、左側（図７（ａ）における上方）に移動することとしても良い。

図８は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第６の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図８に示すように、第６の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向にチャンバ１０が移動する点で、図５に示す第３の実施例と異なる。従って、第６の実施例において、チャンバ１０は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向の位置決めがブロック７１ａ及び固定プレート７２によってなされる。その他の構成は、第３の実施例と同様であり、チャンバ１０が、投影光学系２０に対する向きと交差する方向に移動することにより、位置決めブロック７１ａに接する所定位置と、メンテナンス領域との間を移動する。なお、ここではチャンバ１０が投影光学系２０に向かって右側（図８（ａ）における下方）に移動する例を示したが、左側（図８（ａ）における上方）に移動することとしても良い。

図９は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第７の実施例を示す平面図（ａ）、側面図（ｂ）及び背面図（ｃ）である。
図９に示すように、第７の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として、車輪付きのクレーン６２を備えている。クレーン６２がチャンバ１０を吊り上げ、車輪が床上を転がることで、チャンバ１０を移動させるようになっている。チャンバ１０には、クレーン６２により吊り上げるための引掛リングが設けられている。この引掛リングは、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する所定位置にチャンバ１０が位置決めされた状態において、チャンバ１０の重心の真上となる位置に設けられる。これにより、クレーン６２によりチャンバを吊り上げたときに突然チャンバが傾くことを防止できる。

更に、第７の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、位置決め機構７０として、床上に固定された位置決め台７４ｂを備えている。位置決め台７４ｂは、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致するように、重力方向に対して斜めの姿勢にチャンバ１０を保持する。位置決め台７４ｂは、チャンバ１０の形状に合わせてあるので、チャンバ１０が位置決め台７４ｂに嵌まることにより、ＥＵＶ集光ミラー１５から射出されるＥＵＶ光の光軸が投影光学系２０の光軸と一致する姿勢でチャンバ１０を正しく保持することができる。なお、チャンバ１０は、位置決めピンを位置決め台７４ｂに設けることにより位置決め台７４ｂに位置決めしても良いし、ボルトで位置決め台７４ｂに固定しても良い。チャンバ１０をメンテナンスするときは、クレーン６２により、チャンバ１０を図９において破線により示す位置まで移動させる。

なお、クレーン６２は常設しておいても良いし、メンテナンスのときだけ持ち込むようにしても良い。また、クレーン６２の車輪は床上を走るようにしたが、これに限らず、床にレールを設けてレール上を走るようにしても良い。また、移動機構６０としてクレーン６２を例示したが、本発明はこれに限らず、リフターでチャンバ１０を持ち上げてメンテナンス領域に移動させても良い。また、位置決め機構７０として床上に固定した位置決め台７４ｂを例示したが、本発明はこれに限らず、チャンバ１０の光軸を高精度に調節するための６軸ステージを用いても良い。

図１０は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第８の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１０に示すように、第８の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として、チャンバ台７４ｃの下面に設けられたエアー発生装置６３ａを備えている。エアー発生装置６３ａは、ファン等によりエアー発生装置６３ａの下面から床面（設置面）に対して空気を噴出させ、チャンバ台７４ｃを床面より微小量上昇させることにより、低摩擦でチャンバ台７４ｃを移動させる。

更に、第８の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、位置決め機構７０として、床上に設けられた２本の位置決めピン７５ａを備えている。チャンバ台７４ｃには、位置決めピン７５ａを受け入れる凹加工が施されており、チャンバ台７４ｃが床面に沿って投影光学系２０側に移動させられて、位置決めピン７５ａがチャンバ台７４ｃの凹加工に押し付けられると、チャンバ台７４ｃがチャンバ１０とともに位置決めされる。チャンバ台７４ｃは更に、ボルト７３ｂによって床面に固定される。チャンバ１０をメンテナンスするときは、ボルト７３ｂを外し、エアー発生装置６３ａによりチャンバ台７４ｃを図１０において破線により示す位置まで移動させる。

この実施例によれば、エアー発生装置６３ａを用いるので簡易な構成でチャンバ１０を移動させることができ、簡易な位置決めピンを用いて高精度にチャンバ１０を位置決めすることができる。

なお、位置決めピン７５ａは２本設けるものとしたが、本発明はこれに限らず、それ以上の数の位置決めピンを用いても良い。また、ＥＵＶチャンバの水平方向の位置決めにおいては、２点の位置が決まれば位置決めが可能なので、位置決めピンでなくても、２点の位置が決定できるブロックやプレートを用いてもよい。

図１１は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第９の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１１に示すように、第９の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、位置決め機構７０として、投影光学系２０の位置決めを行う基準部材と共通の露光装置基準部材７６を備えている。すなわち、露光装置基準部材７６は、投影光学系２０の位置決めの基準となっているとともに、チャンバ１０の位置決めの基準ともなっている。この露光装置基準部材７６は、直交する２つのプレート部分を有することにより厚み方向の断面がＬ字型となっている大きな部材であり、一方のプレート部分により投影光学系２０の位置決めを行い、他方のプレート部分によりチャンバ１０の位置決めを行う。チャンバ１０の位置決めは、露光装置基準部材７６に設置固定された移動機構６０及び位置決めブロック７１ｂを介して行われている。

この構成によれば、チャンバ１０の投影光学系２０に対する位置決め精度が向上し、設置場所による位置決め精度のばらつきを低減することができる。
なお、移動機構６０の構成は特に限定されず、他の実施例に記載のものを用いることもできる。位置決め機構も位置決めブロック７１ｂに限定されず、他の実施例に記載のものを用いることもできる。露光装置基準部材７６も、断面Ｌ字型の大きな部材に限らず、小さなプレートやピン等の基準となるものを投影光学系２０に設置し、この基準部材に対してチャンバ１０の移動機構や位置決め機構を設置すれば良い。

図１２は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１０の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１２に示すように、第１０の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、チャンバ１０の外に配置されたドライバレーザ３０からチャンバ１０内にレーザ光を導入するレーザ光導入ダクト３１を備えている。このレーザ光導入ダクト３１は、レーザ光高反射ミラー３２、及び、レーザ光導入用フレキシブル配管３３を備えている。また、チャンバ１０には、レーザ光を透過させるレーザ光導入用チャンバウィンド３４、及び、レーザ光をターゲット物質に集光するレーザ集光軸外放物面ミラー１４が設けられている。

ドライバレーザ３０から射出されたレーザ光は、レーザ光導入ダクト３１内を通り、レーザ光高反射ミラー３２で直角に反射され、レーザ光導入用フレキシブル配管３３内を通り、レーザ光導入用チャンバウィンド３４を透過してチャンバ１０内に照射される。さらに、レーザ光はレーザ集光軸外放物面ミラー１４によって反射され、ＥＵＶ集光ミラー１５の穴を通過してターゲット物質に集光される。

チャンバ１０をメンテナンスする際には、レーザ光導入用フレキシブル配管３３を取り外し、移動機構６０によりチャンバ１０を図１２において破線により示す位置まで移動させる。

この実施例の特徴は、レーザ光導入ダクト３１及びレーザ光導入用フレキシブル配管３３が、移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡外に設けられている点である。従って、レーザ光導入ダクト３１及びレーザ光導入用フレキシブル配管３３がチャンバ１０のメンテナンスの障害となることがない。更に、チャンバ１０のメンテナンスを行っても、レーザ光の光軸が変化することはないので、チャンバ１０を正確に位置決めすれば、レーザ光の光軸に対しても、投影光学系２０の光軸に対しても、正確に位置決めすることができる。

図１３は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１３に示すように、第１１の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、第１０の実施例の構成に加え、チャンバ１０外に、真空排気ポンプ４１と、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３を備えている。また、チャンバ１０には、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３と接続するゲートバルブ４４が設けられている。

真空排気ポンプ４１は、ゲートバルブ４４及び真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３を介してチャンバ１０内の空気を排出することにより、ＥＵＶ光の透過に良好な環境を提供する。また真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３が設けられているので、真空排気ポンプ４１の振動がチャンバ１０に伝わることを防止することができる。

チャンバ１０をメンテナンスする際には、ゲートバルブ４４を閉め、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３及びレーザ光導入用フレキシブル配管３３を取り外し、移動機構６０によりチャンバ１０を図１３において破線により示す位置まで移動させる。

この実施例の特徴は、真空排気ポンプ４１及び真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３が、移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡外に設けられている点である。従って、真空排気ポンプ４１及び真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３がチャンバ１０のメンテナンスの障害となることがない。

図１４は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１２の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１４に示すように、第１２の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、第１１の実施例の構成に加え、チャンバ１０外に、磁場方向が水平方向になるように設置された一対のマグネット５１，５２と、これらマグネットを固定するマグネット固定台５３，５４を備えている。一対のマグネット５１，５２は、チャンバ１０内で発生したプラズマから発生する荷電粒子をトラップし、ＥＵＶ集光ミラー１５の劣化を防ぐ超伝導磁石であり、強力な磁場を発生させるために大きな重量を有している。

チャンバ１０をメンテナンスする際には、ゲートバルブ４４ａを閉め、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３ａ及びレーザ光導入用フレキシブル配管３３を取り外し、移動機構６０によりチャンバ１０を図１４において破線により示す位置まで移動させる。このとき、マグネット５１，５２及びマグネット固定台５３，５４は、移動させなくて良い。

この実施例の特徴は、一対のマグネット５１，５２が、移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡外に、チャンバ１０と分離可能に設けられている点である。従って、マグネット５１，５２がチャンバ１０のメンテナンスの障害となることがない。

なお、この実施例において、真空排気ポンプ４１は、第１１の実施例と同じく移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡外に設けられているが、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３ａを含む真空排気ポンプ４１用の配管と、ゲートバルブ４４ａは、移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡と一部重なる領域に設けられている。チャンバ１０のメンテナンス時には、真空排気ポンプ用フレキシブル配管４３ａを折り曲げることで、移動機構６０によるチャンバ１０の移動軌跡外に退避させることができる。

図１５は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１３の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１５に示すように、第１３の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向にチャンバ１０が移動する。そのため、チャンバ１０の移動軌跡上に存在するマグネット５２ａをチャンバ１０の移動軌跡外に退避させることができるように、マグネット５２ａを載せたマグネット固定台５４ａに車輪５５を設ける。第１３の実施例においては、車輪５５が床面上を転がることによって、チャンバ１０の移動軌跡と交差する方向にマグネット固定台５４ａを移動させることができる。チャンバ１０を移動及び位置決めするための構成は、図７に示す第５の実施例と同様である。なお、ここではマグネット５２ａをチャンバ１０の移動軌跡外に退避させる例を示したが、真空排気ポンプ又はその他の大型部品がチャンバ１０の移動軌跡上にある場合にはこれらを退避させることとしても良い。また、ここではマグネット５２ａを退避させ、チャンバ１０を投影光学系２０に向かって右側（図１５（ａ）における下方）に移動させる例を示したが、マグネット５１を退避させ、チャンバ１０を左側（図１５（ａ）における上方）に移動させることとしても良い。また、マグネット５２ａを移動させるための機構は、車輪５５に限らず、レールやスライド式ベアリングを用いても良い。

図１６は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１４の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
図１６に示すように、第１４の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、投影光学系２０に対する向きと交差する方向にチャンバ１０が移動する。そのため、チャンバ１０の移動軌跡上に存在するマグネット５２ｂをチャンバ１０の移動軌跡外に退避させることができるように、マグネット５２ｂを載せたマグネット固定台５４ｂに回転軸５６及び車輪５７を設ける。第１４の実施例においては、回転軸５６を中心にマグネット固定台５４ｂを回転させることによって、マグネット固定台５４ｂを移動させることができる。チャンバ１０を移動及び位置決めするための構成は、図７に示す第５の実施例と同様である。なお、ここではマグネット５２ｂをチャンバ１０の移動軌跡外に退避させる例を示したが、真空排気ポンプ又はその他の大型部品がチャンバ１０の移動軌跡上にある場合にはこれらを退避させることとしても良い。また、ここではマグネット５２ｂを退避させ、チャンバ１０を投影光学系２０に向かって右側（図１６（ａ）における下方）に移動させる例を示したが、マグネット５１を退避させ、チャンバ１０を左側（図１６（ａ）における上方）に移動させることとしても良い。なお、車輪５７の替わりにスライド式ベアリングを用いても良い。

図１７は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１５の実施例を示す背面図である。
図１７に示すように、第１５の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として２本の平行なレール６１ａを備え、レール６１ａに沿って車輪８１ａが転がることによりチャンバ１０が移動する点で、第１の実施例と類似している。第１５の実施例は、これに加え、レール６１ａと並行に脱輪防止ガイド溝６４が設けられ、この脱輪防止ガイド溝６４内を脱輪防止片８４が滑り移動することでチャンバ１０の脱輪を防止している点で異なる。なおレール６１ａと脱輪防止ガイド溝６４は、移動機構設置ベース６７上に固定されており、この移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第１５の実施例に用いる位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例における位置決め機構７０を用いることもできる。

図１８は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１６の実施例を示す背面図である。
図１８に示すように、第１６の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、チャンバ１０に取り付けられた車輪８１ａが転がることによりチャンバ１０が移動する点、及び、ベース６７ｃ上に、投影光学系２０に対する方向と平行にガイド溝６４ｃが設けられ、このガイド溝６４ｃ内を、チャンバ１０に設けられた突起８４ａが滑り移動することによってチャンバ１０の走行経路を規制している点で、図１７に示す第１５の実施例と類似している。第１６の実施例においては、車輪８１ａが、レール上ではなくベース６７ｃ又は床の上を転がる点で、第１５の実施例と異なる。なお、ガイド溝６４ｃは、チャンバ１０の位置決めされる位置からメンテナンス領域までにわたる走行経路全域に設けても良いし、当該走行経路の一部にのみ設けても良い。

図１９は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１７の実施例を示す背面図である。
図１９に示すように、第１７の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、ガイド溝６４ｃが車輪８１ａの走行経路より外側に２本設けられ、これに対応する突起８４ａも車輪８１ａより外側に複数設けられており、車輪８１ａはその内側に設けられている点で、図１８に示す第１６の実施例と異なる。その他の点は第１６の実施例と同様である。

図２０は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１８の実施例を示す背面図である。
図２０に示すように、第１８の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として２本の平行なレール６１ｂを備え、レール６１ｂに沿って車輪８１ｂが転がることにより、チャンバ１０が移動する点で第１の実施例と類似している。第１８の実施例は、車輪８１ｂの側面に形成されたフランジによりチャンバ１０の脱輪を防止している点で第１の実施例と異なる。なおレール６１ｂは、移動機構設置ベース６７上に固定されており、この移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第１８の実施例に用いる位置決め機構７０としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図２１は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第１９の実施例を示す背面図である。
図２１に示すように、第１９の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として２本の平行なレール６１ｃ及び６５を備え、レール６１ｃに沿って車輪８１ｃが転がり、レール６５に沿って車輪８５が転がることにより、チャンバ１０が移動する点で第１の実施例と類似している。第１９の実施例は、レール６１ｃ及び６５のうちレール６５の長手方向に垂直な断面を、凸状又は凹状とし、当該レール６５に沿って転がる車輪８５の直径に沿った断面を、レール６５に対応する凹状又は凸状とすることにより、チャンバ１０の脱輪を防止している点で第１の実施例と異なる。なおレール６１ｃ及び６５は、移動機構設置ベース６７上に固定されており、この移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第１９の実施例に用いる位置決め機構７０としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図２２は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第２０の実施例を示す背面図である。
図２２に示すように、第２０の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として２本の平行なスライドレール６１ｄを備えることによりチャンバ１０が移動する点で、第１の実施例と類似している。第２０の実施例のスライドレール６１ｄ上には、スライドブロック８１ｄが移動可能に設けられている。スライドレール６１ｄとスライドブロック８１ｄとの間には循環式ボールが入っており、いわゆるリニアベアリングを構成している。スライドブロック８１ｄはチャンバ１０に固定されており、スライドブロック８１ｄの移動に伴ってチャンバ１０が移動する。なおスライドレール６１ｄは、移動機構設置ベース６７上に固定されており、この移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第２０の実施例に用いる位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図２３は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第２１の実施例を示す背面図である。
図２３に示すように、第２１の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として、ラック・アンド・ピニオンと、第１５の実施例と同じ脱輪防止ガイド溝を採用している。すなわち、移動機構設置ベース６７上には、細長い平板の一側面に歯切りをした２本のラック６６ａと、脱輪防止ガイド溝６４が、互いに平行に固定されている。そして、ラック６６ａの上を、チャンバ１０に軸支された小口径の円形歯車（ピニオン）８６ａが噛み合って回転移動するとともに、脱輪防止ガイド溝６４内を脱輪防止片８４が滑り移動することでチャンバ１０の脱輪を防止する。なお移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第２１の実施例に用いる位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図２４は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第２２の実施例を示す背面図である。
図２４に示すように、第２２の実施例に係るＥＵＶ光源装置１は、移動機構６０として、ラック・アンド・ピニオンを採用している点で、第２１の実施例と類似している。第２２の実施例では、ラック６６ｂがリッゲンバッハ（Riggenbach）式で断面Ｕ字型となっているため、チャンバ１０に軸支されたピニオン８６ｂの脱輪が防止されている。従って第２１の実施例のような脱輪防止ガイド溝６４や脱輪防止片８４は不要となっている。なおラック６６ｂは、移動機構設置ベース６７上に固定されており、この移動機構設置ベース６７はアンカーボルト６８により床面に固定されている。

第２２の実施例に用いる位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図２５〜図２９は、それぞれ、ＥＵＶ光源装置の移動機構及び位置決め機構に関する第２３〜第２７の実施例を示す背面図である。
図２５〜図２９に示すように、第２３〜第２７の実施例に係るＥＵＶ光源装置は、それぞれ、移動機構６０について第１５〜第２０及び第２２の実施例と同様の構成を備えている。第１５〜第２０及び第２２の実施例では、車輪８１ａ及び脱輪防止片８４、車輪８１ｂ、車輪８１ｃ及び８５、スライドブロック８１ｄ、ピニオン８６ｂが、チャンバ１０に軸支又は固定されているが、第２３〜第２７の実施例では、これらがいずれも台車８７に軸支又は固定されている。そして、チャンバ１０は、台車８７上に位置決めされ、台車８７の移動に伴ってメンテナンス領域に移動する。

第２３〜第２７の実施例で台車８７を位置決めする位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図３０は、ＥＵＶ光源装置１の移動機構及び位置決め機構に関する第２８の実施例を示す背面図である。
図３０に示すように、第２８の実施例に係るＥＵＶ光源装置は、移動機構６０として、台車８７の下面に第８の実施例と同様のエアー発生装置６３ｂを備えている。そして、チャンバ１０は、台車８７上に位置決めされており、台車８７の移動に伴ってメンテナンス領域に移動する。

台車８７の位置決めは、２本又はそれ以上の位置決めピン７５ｂを用いる点は第８の実施例と同様であるが、第２８の実施例では、位置決めピン７５ｂはベース６７ｂに設けられている。ベース６７ｂは更に、第２６の実施例と同様のスライドレール等のガイド機構６９を介して移動機構設置ベース６７ａに設置されている。移動機構設置ベース６７ａはアンカーボルトにより床面に固定されている。この構成により、チャンバ１０を載せた台車８７は、ベース６７ｂとともに、ガイド機構６９により投影光学系２０側に移動し、チャンバ１０と投影光学系２０の光軸が一致する所定位置に位置決めされる。

第２８の実施例でベース６７ｂを位置決めする位置決め機構としては、第１の実施例の位置決めブロック７１ａや固定プレート７２と同様の構成を用いることができる他、他の実施例の位置決め機構７０を用いることもできる。

図３１は、ＥＵＶ光源装置１と投影光学系２０との接続部に関する第２９の実施例を示す側面図である。ＥＵＶ光源装置１のチャンバ１０内と、投影光学系２０内は、いずれも、ＥＵＶ光の透過に良好な環境を提供するため、真空またはＥＵＶ光を透過する低圧ガス（例えば、Ａｒ、Ｈｅ等の不活性ガスや、付着物質をエッチングするための水素ガス、ハロゲンガスまたはハロゲン化水素ガス）で満たされた状態で使用される。そこで、チャンバ１０の容易なメンテナンスを可能にするため、チャンバ１０と投影光学系２０との間の光路上に位置する接続部に、チャンバ１０のゲートバルブ９１ａと投影光学系２０のゲートバルブ９１ｂとを設け、ゲートバルブ９１ａとゲートバルブ９１ｂとの間に、フレキシブル配管９２を設けている。またフレキシブル配管９２中には、ピンホールの形成されたピンホール付遮蔽板９３を、チャンバ１０側に固定している。ＥＵＶ光はこのピンホールを通って投影光学系２０内に入射される。ピンホール付遮蔽板９３は、チャンバ１０内のターゲット物質等または上述したＥＵＶ光を透過する低圧ガスが投影光学系２０内に侵入することを防止している。

移動機構及び位置決め機構としては、第１〜第２８の実施例に挙げた移動機構及び位置決め機構のほか、任意の移動機構及び位置決め機構を用いることができる。
チャンバ１０をメンテナンスする際には、まず、チャンバ１０のゲートバルブ９１ａと投影光学系２０のゲートバルブ９１ｂとをそれぞれ閉める。次に、チャンバ１０に低圧の反応性ガス（例えば水素ガス、ハロゲンガスまたはハロゲン化水素ガス）が充填されている場合は、最初に、真空ポンプで上記ガスを排気し、チャンバ１０内に窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを大気圧程度まで充填する。そして、フレキシブル配管９２を取り外し、移動機構６０によりチャンバ１０を図３１の破線に示す位置まで移動させる。

チャンバ１０を設置するには、以上と逆の手順を辿り、まず、移動機構６０によりチャンバ１０を投影光学系２０側に移動し、位置決め機構７０によりチャンバ１０を投影光学系２０の光軸と一致する所定位置に位置決めする。次に、フレキシブル配管９２を接続し、フレキシブル配管内を真空排気ポンプにより真空になるまで排気する。そして、チャンバ１０のゲートバルブ９１ａと投影光学系２０のゲートバルブ９１ｂとをそれぞれ開ける。このようにすることにより、チャンバ１０内及び投影光学系２０内を空気で汚染することなく、チャンバ１０をメンテナンスすることができる。

図３２は、ＥＵＶ光源装置のチャンバ１０のうち一部のみを移動させる構成に関する第３０の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）であり、図３３は、ＥＵＶ光源装置のチャンバ１０のうち一部のみを移動させる構成に関する第３１の実施例を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。

図３２に示す第３０の実施例に係るＥＵＶ光源装置１のチャンバ１０は、プラズマ発生部側のメンテナンスユニット１０ａと、投影光学系２０側の非定期メンテナンスユニット１０ｂとに分割可能になっている。この実施例では、チャンバ１０のうちプラズマ発生部付近の大径部分をメンテナンスユニット１０ａとし、この大径部分から投影光学系２０側に収束する光路を形成するテーパー部分を非定期メンテナンスユニット１０ｂとしている。

図３３に示す第３１の実施例でも、チャンバ１０が、プラズマ発生部側のメンテナンスユニット１０ｃと、投影光学系２０側の非定期メンテナンスユニット１０ｄとに分割可能になっている。図３２に示した実施例と異なるのは、チャンバ１０のテーパー部分を、移動機構６０による移動方向と垂直な面で分割するようにした点であり、分割面よりプラズマ発生部側の部分をメンテナンスユニット１０ｃとし、分割面より投影光学系２０側の部分を非定期メンテナンスユニット１０ｄとしている。この構成によれば、メンテナンスユニット１０ｃのメンテナンス領域側への移動作業と、非定期メンテナンスユニット１０ｄとの結合作業が容易になる。

メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃは、図３３に詳細に示すように、ドロップレット発生器１１、レーザ集光軸外放物面ミラー１４、ＥＵＶ集光ミラー１５、ドロップレットキャッチャ１６、レーザ光ダンパー１７など定期的なメンテナンスを必要とする部品を含んでいる。すなわち、ドロップレット発生器１１はターゲット物質をチャンバ１０内に供給する装置であり、長期間使用するとターゲットノズル等に目詰まりが発生するため定期的な交換が必要である。レーザ集光軸外放物面ミラー１４及びＥＵＶ集光ミラー１５は、使用中にターゲット物質の付着やイオンエッチング等により反射率が低下していくため定期的な交換が必要である。ドロップレットキャッチャ１６はドロップレット発生器１１から供給されたにもかかわらずプラズマ化しなかったターゲット物質を回収する装置であり、使用中にターゲット物質で汚染されていくため定期的な交換が必要である。レーザ光ダンパー１７はターゲット物質を励起させるために照射されたレーザ光を受け止める装置であり、使用中にチャンバ１０内のターゲット物質が付着していくため定期的な交換が必要である。

これに対し、非定期メンテナンスユニット１０ｂ、１０ｄは、メンテナンスユニット１０ａ、１０ｃほど頻繁なメンテナンスを必要としない。そこで、これらの実施例ではメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃだけをメンテナンス領域に運べるようにしている。

メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄとの間の接合部には、Ｏリング或いはメタルシール等が埋め込まれている。そして、メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄは、ボルト或いはクランプ等によって、合体締め込みシールされるようになっている。

移動機構及び位置決め機構としては、第１〜第２８の実施例に挙げた移動機構及び位置決め機構のほか、任意の移動機構及び位置決め機構を用いることができる。第３０及び第３１の実施例における移動機構及び位置決め機構は、チャンバ１０のうちメンテナンスを行うメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃのみを移動し位置決めする。

メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃをメンテナンス領域に移動させる際には、まず、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性気体でパージして、大気圧付近にまでチャンバ１０内にガスを注入する。次に、メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄとを合体するボルト或いはクランプ等を外す。次に、移動機構６０によりメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃをメンテナンス領域に向かって移動させるとともに、分割されたメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄに、それぞれ板による蓋をする。

メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃを設置するには、以上と逆の手順を辿り、まず、移動機構６０上のメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと、投影光学系２０側に残っている非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄから、それぞれ分割面の蓋を外す。次に、移動機構６０によりメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃを非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄ側に移動し、位置決め機構７０によりメンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃを投影光学系２０の光軸と一致する所定位置に位置決めする。次に、メンテナンスユニット１０ａ或いは１０ｃと非定期メンテナンスユニット１０ｂ或いは１０ｄとを合体させ、ボルト或いはクランプ等で締めて、シールする。そして、真空排気ポンプにより、チャンバ１０内を真空排気する。

本発明は、露光装置の光源として用いられるＥＵＶ光源装置において利用することが可能である。

ＭＴ…マスクテーブル、ＷＴ…ワークピーステーブル、１…ＥＵＶ光源装置、１０…チャンバ、１０ａ，１０ｃ…メンテナンスユニット、１０ｂ，１０ｄ…非定期メンテナンスユニット、１１…ドロップレット発生器、１２…ターゲットノズル、１４…レーザ集光軸外放物面ミラー、１５…ＥＵＶ集光ミラー、１６…ドロップレットキャッチャ、１７…レーザ光ダンパー、２０…投影光学系、２１…マスク照射部、２２…ワークピース照射部、３０…ドライバレーザ、３１…レーザ光導入ダクト、３２…レーザ光高反射ミラー、３３…レーザ光導入用フレキシブル配管、３４…レーザ光導入用チャンバウィンド、３５…レーザ集光光学系、４１…真空排気ポンプ、４３，４３ａ…真空排気ポンプ用フレキシブル配管、４４，４４ａ…ゲートバルブ、５１，５２，５２ａ，５２ｂ…マグネット、５３，５４，５４ａ，５４ｂ…マグネット固定台、５５，５７…車輪、５６…回転軸、６０…移動機構、６１，６１ａ，６１ｂ，６１ｃ…レール、６１ｄ…スライドレール、６２…クレーン、６３ａ，６３ｂ…エアー発生装置、６４…脱輪防止ガイド溝、６４ａ…ガイドレール、６４ｂ…ガイド片、６４ｃ…ガイド溝、６５…レール、６６ａ，６６ｂ…ラック、６７，６７ａ…移動機構設置ベース、６７ｂ，６７ｃ…ベース、６８…アンカーボルト、６９…ガイド機構、７０…位置決め機構、７１ａ，７１ｂ…位置決めブロック、７２…固定プレート、７３ａ，７３ｂ…ボルト、７４ａ，７４ｃ…チャンバ台、７４ｂ…位置決め台、７５ａ，７５ｂ…位置決めピン、７６…露光装置基準部材、８１ａ，８１ｂ，８１ｃ…車輪、８１ｄ…スライドブロック、８４…脱輪防止片、８４ａ…突起、８５…車輪、８６ａ，８６ｂ…ピニオン、８７…台車、９１ａ，９１ｂ…ゲートバルブ、９２…フレキシブル配管、９３…ピンホール付遮蔽板

Claims (16)

1. レーザ光をターゲット物質に照射することによりプラズマを発生させ、該プラズマから放射される極端紫外光を露光装置の投影光学系に入射させる極端紫外光源装置であって、
   極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
   ターゲット物質を前記チャンバ内に供給するターゲット供給部と、
   前記ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによってプラズマを生成するドライバレーザと、
   前記チャンバ内に位置し、プラズマから放射される極端紫外光を反射することにより集光する集光ミラーと、
   少なくとも前記チャンバの一部を構成する筐体であって、前記集光ミラーと前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸とを囲む前記筐体を、前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸と前記露光装置の投影光学系の光軸とが一致する所定位置に位置決めする位置決め機構と、
   前記所定位置に位置決めされた前記筐体を、前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸と前記露光装置の投影光学系の光軸とに対して交差する方向に移動させることにより、前記所定位置とメンテナンス領域との間で移動させる移動機構と、
   を具備する極端紫外光源装置。
2. 前記チャンバが、前記筐体の開口であって前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸が位置する前記開口を閉じることができるように構成されたゲートバルブを備える、請求項１記載の極端紫外光源装置。
3. 前記筐体を支持する台車をさらに具備し、
   前記筐体は、前記台車に位置決めされ、
   前記位置決め機構は、前記台車を位置決めすることにより、前記筐体を前記所定位置に位置決めし、
   前記移動機構は、前記台車を移動させることにより、前記筐体を前記所定位置とメンテナンス領域との間で移動させる、
   請求項１記載の極端紫外光源装置。
4. 前記移動機構が、前記筐体の移動経路を規制するガイド溝を具備する、請求項１記載の極端紫外光源装置。
5. 前記移動機構が、レール及び該レールに沿って転がる車輪を具備する、請求項１記載の極端紫外光源装置。
6. 前記移動機構が、長手方向に垂直な断面が凸状又は凹状であるレールと、該レールに沿って転がる車輪であって、該レールに対応する凹状又は凸状の断面を有する前記車輪と、を具備する、請求項１記載の極端紫外光源装置。
7. 前記移動機構が、前記筐体を吊り上げるクレーン機構を具備する、請求項１記載の極端紫外光源装置。
8. 前記移動機構が、前記筐体から設置面にエアーを噴出させるエアー噴出機構を具備する、請求項１記載の極端紫外光源装置。
9. 前記位置決め機構が、前記チャンバの外に設けられて前記筐体の位置決めの基準となる基準部材を備える、請求項１記載の極端紫外光源装置。
10. 前記位置決め機構が、前記筐体の位置決めの基準となり且つ前記投影光学系の位置決めの基準となる基準部材を備える、請求項１記載の極端紫外光源装置。
11. 前記位置決め機構が、前記レール及び前記車輪による進行方向に沿った前記筐体の移動を規制するストッパを具備する、請求項５又は請求項６記載の極端紫外光源装置。
12. 前記位置決め機構が、前記筐体の形状に合わせた位置決め台であって、前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光軸と前記露光装置の投影光学系の光軸とが一致するように、重力方向に対して斜めの姿勢に前記筐体を保持する前記位置決め台を具備し、
    前記移動機構が、前記筐体を、前記斜めの姿勢のまま、前記所定位置とメンテナンス領域との間で移動させる、請求項１記載の極端紫外光源装置。
13. 前記位置決め機構が、前記設置面上において、前記筐体の少なくとも２点の位置を決定する位置決めピンを具備する、請求項８記載の極端紫外光源装置。
14. 前記チャンバ外から前記チャンバ内に前記レーザ光を導入するレーザ光導入路を更に具備し、
    前記レーザ光導入路は、前記所定位置と前記メンテナンス領域との間で前記筐体が移動する軌跡外に設けられている、請求項１乃至請求項１３の何れか一項記載の極端紫外光源装置。
15. 前記チャンバ内の排気を行う排気装置を更に具備し、
    前記排気装置は、前記所定位置と前記メンテナンス領域との間で前記筐体が移動する軌跡外に設けられている、請求項１乃至請求項１３の何れか一項記載の極端紫外光源装置。
16. 前記プラズマから発生する荷電粒子をトラップする磁場発生装置を前記チャンバ外に更に具備し、
    前記磁場発生装置は、前記所定位置と前記メンテナンス領域との間で前記筐体が移動する軌跡外に設けられている、請求項１乃至請求項１３の何れか一項記載の極端紫外光源装置。

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