JP4943121B2 - 極端紫外光源装置及びコレクタミラー交換方法 - Google Patents

極端紫外光源装置及びコレクタミラー交換方法 Download PDF

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Description

本発明は、極端紫外(EUV:extreme ultra violet)光源装置に関しさらに、EUV光源装置においてプラズマから放射される極端紫外光を集光するコレクタミラーの交換方法に関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴い、光リソグラフィの微細化も急速に進展しており、次世代においては、100〜70nmの微細加工、更には50nm以下の微細加工が要求されるようになる。そのため、例えば、50nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度のEUV光源と縮小投影反射光学系(catadioptric system)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
EUV光源としては、ターゲットにレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(laser produced plasma:レーザ生成プラズマ)光源(以下において、「LPP式EUV光源装置」ともいう)と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(discharge produced plasma)光源と、軌道放射光を用いたSR(synchrotron radiation)光源との3種類がある。これらの内でも、LPP光源は、プラズマ密度をかなり大きくできるので黒体輻射に近い極めて高い輝度が得られ、ターゲット物質を選択することにより必要な波長帯のみの発光が可能であり、ほぼ等方的な角度分布を持つ点光源であるので光源の周囲に電極等の構造物がなく、2πsteradianという極めて大きな捕集立体角の確保が可能であること等の利点から、数十ワット以上のパワーが要求されるEUVリソグラフィ用の光源として有力であると考えられている。
例えば、LPP式EUV光源装置においては、次のような原理でEUV光が生成される。即ち、ノズルを用いて真空チャンバ内にターゲット物質を供給し、このターゲット物質に対してレーザビームを照射することにより、ターゲット物質を励起してプラズマ化させる。そのようにして生成されたプラズマからは、極端紫外光(EUV)光を含む様々な波長成分が放射される。そこで、その内の所望の波長成分(例えば、13.5nm)を選択的に反射するコレクタミラー(集光ミラー)を用いることによりEUV光を反射集光し、露光器に出力する。例えば、波長が13.5nm付近のEUV光を集光するコレクタミラーとしては、反射面にモリブデン(Mo)及びシリコン(Si)の薄膜が交互に積層されたミラーが用いられる。通常、Mo/Si薄膜の積層数は、数百層に及ぶ。
また、EUV光の集光率を高くするためには、コレクタミラーの反射面の表面粗さや形状について、高い精度を維持しなくてはならない。従って、コレクタミラーの価格は非常に高価である。
さらに、このようなコレクタミラーは、プラズマ化したターゲット物質から放出される高速のイオンや中性粒子等の飛散物によって損傷を受け易い。そのため、コレクタミラーは、プラズマ生成点(発光点)からなるべく離して配置される。一方、EUV光の出力を稼ぐためには、コレクタミラーの捕集立体角を大きくする必要がある。従って、コレクタミラーの径は必然的に大きくなり、それに伴って重量も増加する。
ところで、このようなコレクタミラーの交換は手作業によって行われている。しかしながら、重量のあるコレクタミラーの交換作業は大変手間がかかり、万が一、作業に失敗すると、コレクタミラーの破損や作業者の怪我につながるおそれが大きい。また、上述したように、コレクタミラーは非常に高価なので、発生する損害も大きい。そのため、安全且つ容易にコレクタミラーを交換できる方法が望まれている。
関連する技術として、特許文献1には、照明光学系の交換作業を容易にすると共に、初期の位置決め精度を確保し、さらに、交換時間を短縮することにより露光のスループットを高めるために、ミラーと、減圧環境を生成可能なチャンバの壁に開口自在に設けられた蓋に上記ミラーを弾性的に結合する弾性部材とを有するミラー保持装置が開示されている。
しかしながら、特許文献1においては、コレクタミラー、及び、それが取り付けられるチャンバの蓋や、それらを結合する支持体(弾性部材)の重量は考慮されていない。即ち、それらの部材をチャンバの壁面に固定する場合には、大きな重量を支える必要があるが、それを支える手段については一切示されていない。
特開2004−103961号公報(第1頁)
そこで、上記の点に鑑み、本発明は、EUV光を集光する際に用いられるコレクタミラーを安全且つ容易に交換できる極端紫外光源装置及び、コレクタミラー交換方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の1つ観点に係る極端紫外光源装置は、チャンバ内のターゲット物質にチャンバ外からのレーザビームを照射することによってプラズマを発生させ、該プラズマから放射される所定の波長成分を集光することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であってチャンバ内において発生するプラズマから放射される所定の波長成分を反射集光するコレクタミラーコレクタミラーの背面側に設けられ、フレキシブルな材料で形成された配管を含み、冷却媒体を循環させる冷却装置と、少なくともコレクタミラーの位置及び/又は姿勢を調整するための位置調整ステージと、チャンバ内の支持台上における少なくともコレクタミラーの移動方向を規制するガイド手段と、支持台上に固定され、支持台上において少なくともコレクタミラーを位置決めする位置決め部材とを具備し、位置調整ステージが、3次元方向に移動可能なXYZステージと、水平面内において回転可能なステージと、仰角方向において回転可能なステージとの内の少なくとも1つを含み、ガイド手段が、チャンバ内におけるプラズマ生成点とコレクタミラーによる極端紫外光の集光点とを含む軸に直交すると共にプラズマ生成点を含む面に交差しないことを特徴とする
また、本発明の1つの観点に係るコレクタミラー交換方法は、チャンバ内のターゲット物質にチャンバ外からのレーザビームを照射することによってプラズマを発生させ、該プラズマから放射される所定の波長成分を集光することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置において、極端紫外光を反射集光するコレクタミラーを交換する方法であって、少なくともコレクタミラーの位置及び/又は姿勢を調整するための位置調整ステージを用いて、チャンバ内の支持台上に設置されている少なくともコレクタミラーを所望の角度だけ回転させるステップ(a)と、少なくともコレクタミラーを、ガイド手段にって移動方向を規制しながら移動させることにより、少なくともコレクタミラーをチャンバの外側に取り出すステップ()と、チャンバの外側において、使用済みのコレクタミラーを、新しいコレクタミラーに交換するステップ()と、少なくとも交換後のコレクタミラーをイド手段にって移動方向を規制しながら移動させ、位置調整ステージを用いて少なくともコレクタミラーを元の位置に戻すステップ()とを具備する。
本発明によれば、コレクタミラー、又は、コレクタミラーとその周辺の機構とが一体化された構造体を、移動方向を規制しながら支持台上で移動させることにより、コレクタミラーをチャンバから取り出してコレクタミラーを交換するので、重量がある構造体であっても、安全且つ高い精度で、短時間にコレクタミラーを交換することができる。それにより、コレクタミラーを交換する手間が軽減されると共に、コレクタミラーの破損事故やそれに伴う怪我が防止されるので、ライン稼働率を向上させることが可能になる。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外(EUV)光源装置の一部を示す斜視図である。このEUV光源装置は、ターゲットノズル110と、レーザ発振器120と、コレクタミラー装置130と、EUVフィルタ140と、ターゲット回収装置150と、コレクタミラー交換装置160とを含んでいる。レーザ発振器120を除くこれらの装置は、真空排気装置が設けられたチャンバ内に設置されている。
ターゲットノズル110は、チャンバの外部から供給されるターゲット物質1を噴射することにより、ターゲット・ジェット(噴流)やドロップレット(液滴)ターゲットを形成してプラズマ発光点(レーザビーム2によってターゲット物質1を照射することにより、プラズマを生成する位置)に供給する。なお、ドロップレット・ターゲットを形成する場合には、ターゲット・ジェットを形成するターゲットノズル110に所定の周波数で振動を与える振動機構が更に設けられる。
レーザ発振器120は、高い繰り返し周波数でパルス発振できるレーザ光源であり、ターゲット物質1を照射することにより励起させるためのレーザビーム2を射出する。また、レーザ発振器120の光路には集光レンズ121が配置されており、それにより、レーザ発振器120から射出したレーザビーム2をプラズマ発光点に集光させる。なお、図1においては集光レンズ121を用いているが、それ以外の集光光学部品又は複数の光学部品を組み合わせることにより、集光光学系を構成しても良い。
図2は、図1に示すコレクタミラー装置130を拡大して示す側面図である。コレクタミラー装置130は、プラズマから放射されるEUV光を反射集光するコレクタミラー10と、コレクタミラー10の機能を維持するための機構12〜40が設けられたコレクタミラー構造体である。本願において、コレクタミラーを交換する際には、コレクタミラーのみを交換する場合もあるし、コレクタミラー構造体そのものを交換する場合もある。
コレクタミラー装置130は、コレクタミラー10と、コレクタミラー固定装置12と、冷却装置20と、コレクタミラー回転装置30と、支持部40とを含んでいる。
コレクタミラー10は、所定の波長(例えば、13.5nm)を有するEUV光を選択的に反射して所定の位置に集束させる反射面11を有している。この反射面11には、例えば、モリブデン(Mo)及びシリコン(Si)が交互に積層されたMo/Si多層膜が形成されている。このようなコレクタミラー10は、コレクタミラー固定装置12によって支持されている。
冷却装置20は、コレクタミラー10の背面側に設けられており、コレクタミラー10の温度がプラズマから発生する熱によって上昇するのを抑制する。冷却装置20には、冷却装置20に水等の冷却媒体を導入するための配管21と、冷却装置20から冷却媒体を導出するための配管22とが設けられており、冷却装置20の内部には、冷却媒体を循環させる流路23が形成されている。配管21及び22は、コレクタミラー10の回転や交換作業に対応するため、フレキシブルな材料によって形成されている。
回転装置30は、コレクタミラー10の反射面の一部が、プラズマから飛散するイオン等によって損傷を受けた場合に、コレクタミラーを円周方向に回転させることにより、プラズマから放射されるEUV光の反射率に対する損傷領域の影響を低減する。回転装置30においては、例えば、円筒ウォーム及びウォームホイールを含むウォームギア構造が採用されている。ここで、ウォームギア構造とは、円筒ウォーム(ねじ歯車)と、ウォームホイール(はす歯歯車)との歯同士を噛み合わせ、ウォームを回転駆動することにより、ウォームホイールを回転させる機構である。
これらの各装置10〜30は、支持部40によって支えられている。
以下において、コレクタミラー10から集光点を臨む方向を、コレクタミラー装置130の前方といい、その反対方向を、コレクタミラー装置130の後方という。
再び、図1を参照すると、ターゲットノズル110から噴射されたターゲット物質1にレーザビーム2を照射することによりプラズマが生成され、そこから様々な波長を有する光が放射される。この内の所定の波長成分(例えば、13.5nm)が、コレクタミラー10によって反射集光される。このEUV光3は、例えば、コレクタミラー10の集光点に配置されているEUVフィルタ140及びその後段の出力光学系を介して露光器に出力される。ここで、EUVフィルタ140は、所定の波長成分(例えば、13.5nm)を選択的に透過させるフィルタであり、不要な波長成分が露光器側に入射するのを防いでいる。
ターゲット回収装置150は、ターゲットノズル110から噴射されたにもかかわらず、レーザビーム2を照射されることなくEUV光3の生成に貢献しなかったターゲット物質を回収する。
コレクタミラー交換装置160は、コレクタミラー装置130を載せるコレクタミラー支持台161と、ミラー交換用レール162と、位置調整ステージ163と、位置決めピン164と、位置決め固定装置(図示せず)とを含んでいる。
ミラー交換用レール162は、ミラー交換作業においてコレクタミラー装置130をチャンバから取り出す際に、コレクタミラー装置130の移動方向を規制するガイドとして用いられる。ミラー交換用レール162の先端には、位置決めピン164が配置されており、コレクタミラー装置130をこの位置まで突き当てることにより、その位置精度が確保される。
位置調整ステージ163は、3次元空間において移動可能なXYZステージと、水平面内において回転可能なステージと、仰角方向において回転可能なステージとを含んでおり、コレクタミラー装置130の位置及び姿勢を調整する。
位置決め固定装置は、位置調整されたコレクタミラー装置130の位置を固定するために、コレクタミラー支持台161上に設けられている。即ち、位置決め固定装置をロックすることにより、コレクタミラー装置の位置が固定され、ロックを解除することにより、コレクタミラー装置の位置が移動可能となる。
本実施形態において、コレクタミラー10の交換は次のように行われる。即ち、まず、位置決め固定装置のロックを解除し、ミラー交換用レール162に沿って、コレクタミラー装置130をコレクタミラー10の後方(図の左方向)に移動させることにより、チャンバから取り出す。そして、チャンバの外部において、コレクタミラー装置130のコレクタミラー10を新しいものに交換し、ミラー交換後のコレクタミラー装置130をコレクタミラー支持台161に載せ、ミラー交換用レール162に沿ってコレクタミラー10の前方(図の右方向)に移動させることにより、元の設置位置に戻す。それにより、重量のあるコレクタミラー装置130についても、安全且つ容易にミラー交換を行うことができる。
図3は、図1に示すコレクタミラー装置130と、プラズマ発光点と、集光点との位置関係を示す平面図である。コレクタミラー装置130の移動は、破線III-IIIによって示す面(プラズマ発光点及び集光点を含む軸に直交する面の内で、プラズマ発光点を含む面)よりも後方(図の左側の領域)において行うことが望ましい。コレクタミラー10の前方には、ターゲットノズル110や、EUVフィルタ140や、ターゲット回収装置150等(図1参照)の装置が設置されているので、ミラー交換作業において、それらの装置との干渉を避けるためである。具体的には、図3の矢印に示すように、コレクタミラー装置130を、後方(図の左方向)や、側方(図の上下方向)や、上下方向(紙面の表方向又は裏方向)に移動させることにより、コレクタミラー装置130の移動径路が上記プラズマ発光点を含む面と交差しないようにする。
本実施形態においては、コレクタミラー130を後方に移動させているが、それ以外の方向に移動させる場合には、例えば、位置調整ステージ163を所望の角度(ただし、90度以内)だけ回転させてから、コレクタミラー装置130をミラー交換用レール162に沿って移動させれば良い。
また、本実施形態においては、コレクタミラー交換装置130側に、コレクタミラー装置130をガイドするミラー交換用レール162を設けたが、コレクタミラー装置130側にレールを設けたり、溝を形成することによって、コレクタミラー装置の移動方向を規制するようにしても良い。
次に、本発明の第2の実施形態に係るコレクタミラー交換装置について、図4を参照しながら説明する。図4は、本実施形態に係るコレクタミラー交換装置と、その上に配置されたコレクタミラー装置とを示す側面図である。また、図4には、コレクタミラー交換装置が用いられるEUV光源装置のチャンバ隔壁100が示されている。
図4に示すコレクタミラー交換装置は、図1に示すコレクタミラー交換装置160に加えて、ミラーキャリア210と、ミラー反転装置211と、ミラー交換用レール212と、ミラーキャリア固定装置213とをさらに含んでいる。
ミラーキャリア210は、コレクタミラー装置130を運搬する際に用いられる台車である。また、ミラー反転装置211は、水平面内において回転する回転ステージを有しており、コレクタミラー装置130を載せた状態でステージを回転させることにより、コレクタミラー装置130の向きを反転させる装置である。ミラーキャリア210及びミラー反転装置211の上には、コレクタミラー装置130を移動させる際にガイドとして用いられるミラー交換用レール212が配置されている。さらに、ミラーキャリア固定装置213は、ミラー反転装置211を介してミラーキャリア210をコレクタミラー支持台161に固定する。
これらの装置210〜213は、コレクタミラー装置130を交換する際に、コレクタミラー装置130の背後のチャンバ隔壁100に設けられたミラー出入口101から、チャンバ内に挿入して用いられる。その際には、ミラー反転装置211の一部がチャンバ内に挿入され、ミラーキャリア210の車の部分はチャンバの外側(チャンバ隔壁100の左側)で待機させられる。或いは、コレクタミラー装置130が真空チャンバの奥の方に配置されている場合には、ミラーキャリア210の車の部分をチャンバ隔壁100のすぐ傍まで寄せて、ミラー反転装置211をさらに奥まで(例えば、ミラーキャリア210上部のミラー交換用レール212の突出部分がチャンバ内に入る程度)挿入しても良い。なお、図4には、ミラー出入口101が開放されている状態が示されているが、通常のEUV光生成時には、ミラー出入口101は、ミラー交換用ハッチによって閉じられている。
本実施形態に係るコレクタミラー交換方法について、図4及び図5を参照しながら説明する。
まず、チャンバ内の気圧及び雰囲気を、大気、又は、大気圧よりも気圧が若干高い状態(陽圧)の窒素とする。次に、チャンバ隔壁100に設けられたミラー交換用ハッチを開く。そして、開放されたミラー出入口101から、ミラー反転装置211をチャンバ内に挿入し、ミラーキャリア固定装置213によってコレクタミラー支持台161に固定する。それにより、コレクタミラー支持台161上のミラー交換用レール162と、ミラー反転装置211及びミラーキャリア210上のミラー交換用レール212とが、実質的に一直線上に連結された状態となり、コレクタミラー装置130を移動させる方向が定められる。
次に、コレクタミラー支持台161上の位置決め固定装置のロックを解除して、コレクタミラー装置130を移動可能な状態にする。そして、コレクタミラー装置130をミラー交換用レール162及び212に沿って、ミラー反転装置211上まで移動させる。
次に、図5に示すように、ミラー反転装置211のステージを180度回転させることにより、コレクタミラー装置130の向きを反転させる。このようにコレクタミラー10がチャンバの外側を向くようにした状態で、コレクタミラー装置130から使用済みのコレクタミラー10を取り外し、新しいコレクタミラー10を取り付ける。
次に、ミラー反転装置211のステージを180度回転させることにより、コレクタミラー10をチャンバの内側に向ける。そして、コレクタミラー装置130をミラー交換用レール212及び162に沿って、位置決めピン164に突き当たるまで移動させる。さらに、コレクタミラー支持台161上の位置決め固定装置をロックする。最後に、ミラー交換用ハッチを閉じることにより、コレクタミラーの交換作業が終了する。なお、この段階では、コレクタミラー装置130は粗くアライメントされた状態なので、EUV光の生成を再開する前に、さらに精密なアライメントが行われる。
ここで、先にも述べたように、コレクタミラー装置130の冷却装置20に取り付けられている配管21及び22は、フレキシブルな材料によって形成されているので、コレクタミラー装置130の移動や回転をスムーズに行うことができる。しかしながら、コレクタミラー装置130の回転等をよりスムーズに行うために、配管21及び22を取り外した後で、コレクタミラー装置130の回転等を行っても良い。
また、本実施形態においては、コレクタミラー10のみを交換したが、コレクタミラー装置130ごと新しいものに交換しても良い。その際には、新しいコレクタミラー10が取り付けられたコレクタミラー装置130を別のミラーキャリア210に載せたものを予め用意しておくことにより、コレクタミラーの交換作業を素早く行うことができる。この場合には、使用済みのコレクタミラー装置130をミラーキャリア210上に載せた後で、ミラーキャリア固定装置213を解除してミラーキャリア210を移動させ、その替わりに、新しいコレクタミラー装置130が載せられたミラーキャリア210をコレクタミラー支持台161に固定して、コレクタミラー装置130をチャンバ内に移動させるという交換手順となる。また、この場合に、配管21及び22を、使用済みのコレクタミラー装置130から新しいコレクタミラー装置130に付け替えるタイミングはいつでも良いが、チャンバの外で行うとスムーズである。
次に、本発明の第3の実施形態に係るコレクタミラー交換装置について、図6を参照しながら説明する。図6は、本実施形態に係るコレクタミラー装置と、その上に配置されたコレクタミラー装置とを示す側面図である。また、図6には、コレクタミラー交換装置が用いられるEUV光源装置のチャンバ隔壁100が示されている。
図6に示すコレクタミラー交換装置は、図1に示すコレクタミラー交換装置160に加えて、ミラーキャリア310と、図6の紙面に直交する回転軸を有するミラー回転装置311と、昇降ステージ312と、連結台313と、ミラー交換用レール314と、ミラーキャリア固定装置315とをさらに含んでいる。
ミラーキャリア310は、コレクタミラー装置130を運搬する際に用いられる台車である。また、ミラー回転装置311及び昇降ステージ312は、連結台313上に載せられるコレクタミラー装置130を鉛直面内において回転させることにより、コレクタミラー装置130の向きを変える装置である。さらに、連結台313は、昇降ステージ312とコレクタミラー支持台161とを連結する台であり、コレクタミラーを交換する際には、その一部がチャンバ隔壁100に設けられたミラー出入口101からチャンバ内に挿入される。これらの昇降ステージ312及び連結台313上には、コレクタミラー装置130を移動させる際にガイドとして用いられるミラー交換用レール314が配置されている。また、ミラーキャリア固定装置315は、連結台313を介してミラーキャリア310をコレクタミラー支持台161に固定する。
本実施形態に係るコレクタミラー交換方法について、図6及び図7を参照しながら説明する。
本実施形態においては、コレクタミラー装置130を水平面内において回転させることによってその向きを変化させる(第2の実施形態)替わりに、ミラー回転装置311及び昇降ステージ312により、コレクタミラー装置を鉛直面内において略90度回転させる。
それにより、図7に示すように、コレクタミラー10の反射面が上向きになるので、この状態でコレクタミラー10の交換を行う。ここで、コレクタミラー10は重量があるので、コレクタミラー10を上向きにすることにより、ミラーの交換作業、及び、その後のコレクタミラー固定装置12(図2)に対するコレクタミラー10の位置合わせが容易になる。なお、それ以外の交換手順については、第2の実施形態におけるものと同様である。
次に、本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換装置について、図8及び図9を参照しながら説明する。図8の(a)は、本実施形態に係るコレクタミラー交換装置が備えられたEUV光源装置を示す背面図であり、図8の(b)は、同EUV光源装置の一部を示す側面図である。また、図9は、図8に示すEUV光源装置を拡大して示す平面図である。
図8及び図9に示すEUV光源装置には、チャンバの外側(チャンバ隔壁100の左側)に、コレクタミラーの位置決め(アライメント)に用いられるレーザユニット400が配置されている。また、それに伴い、コレクタミラー装置130の中央には、位置決め用のレーザビーム404を透過させるための開口が形成されている。さらに、コレクタミラー装置130の後方のチャンバ隔壁100には、ミラー交換用ハッチ102が設けられており、その中央には、位置決め用窓103が配置されている。この窓103の一部は、位置決め用のレーザビーム404を透過させる材料によって形成されている。なお、図8には、スライド式のミラー交換用ハッチ102が示されているが、スペースに余裕があれば、それ以外の方式でハッチを開閉しても良い。
図9に示すように、位置決め用レーザユニット400は、ヘリウム(He)−ネオン(Ne)レーザ401と、反射ミラー402及び403とを含んでいる。これらの反射ミラー402及び403は、He−Neレーザ401から射出したレーザビーム404が、位置決め用窓103を通ってコレクタミラー装置130の中心開口を貫通するように位置及び向きを設定されている。
本実施形態に係るコレクタミラー交換装置は、このような位置決め用レーザユニット400が備えられている場合に対応できる構成を有している。即ち、図9に示すように、このコレクタミラー交換装置は、ミラー交換用ガイドステージ410と、ミラーキャリア420と、チャンバ隔壁内に配置されているコレクタミラー支持台161とを含んでいる。コレクタミラー支持台161には、ミラー交換用レール162及び位置決めピン164が設置されている。
ミラー交換用ガイドステージ410は、コレクタミラー装置130をチャンバから取り出す際に用いられる移動ステージであり、その上面には、コレクタミラー装置130を後方に引き出す際に用いられる引出し用ガイド411と、コレクタミラー装置130の転落を防止すると共に、コレクタミラー装置130を側方にスライドさせる際に用いられるスライド用ガイド412とが配置されている。
一方、ミラーキャリア420は、コレクタミラー装置130を運搬するための台車である。ミラーキャリア420には、ミラー交換用ガイドステージ410に連結するための連結用ガイド421と、コレクタミラー装置130をスライドさせる際に用いられるスライド用ガイド422と、コレクタミラー装置130の転落を防止するためのガイド423とが配置されている。
次に、本実施形態に係るコレクタミラー交換方法について、図9〜図14を参照しながら説明する。
まず、図9に示すように、チャンバ内の気圧及び雰囲気を、大気、又は、大気圧よりも気圧が若干高い状態(陽圧)の窒素とする。また、チャンバ付近に、ミラーキャリア420を配置しておく。
次に、図10に示すように、ミラー交換用ハッチ102を開き、ミラー交換用ガイドステージ410をスライドさせてチャンバ内に挿入し、コレクタミラー支持台161に固定する。それにより、コレクタミラー支持台161上のミラー交換用レール162と、ミラー交換用ガイドステージ410上の引出し用ガイド411とが実質的に一直線上に連結された状態となり、コレクタミラー装置130を移動させる方向が定められる。
次に、コレクタミラー支持台161上の位置決め固定装置のロックを解除して、コレクタミラー装置130を移動可能な状態にする。そして、図11に示すように、コレクタミラー装置130をミラー交換用レール162及び引出し用ガイド411沿って、ミラー交換用ガイドステージ410の後端付近に至るまで移動させる。そして、コレクタミラー装置130に接続されている配管21及び22を取り外す。
次に、図12に示すように、ミラー交換用ガイドステージ410を、コレクタミラー装置130ごとチャンバから引き出す。そして、ミラーキャリア420の連結用ガイド421をミラー交換用ガイドステージ410に掛け渡すことにより、ミラーキャリア420をミラー交換用ガイドステージ410に連結する。次に、図13に示すように、コレクタミラー装置130をスライド用ガイド412及び422に沿ってミラーキャリア420に移動させ、図14に示すように、コレクタミラー装置130をミラーキャリア420に載せて移動させる。
次に、コレクタミラー装置130の移動先において、使用済みのコレクタミラー10を新しいコレクタミラー10に交換する。或いは、コレクタミラー装置130ごと新しいものに交換しても良い。そして、コレクタミラー装置130を取り出すのと逆の手順によりコレクタミラー装置130を移動させ、配管21及び22を接続してから、チャンバ内に設置する。それにより、コレクタミラーの交換作業が終了する。なお、この段階では、コレクタミラー10は粗くアライメントされた状態なので、位置決め用レーザユニットを用いることにより、さらに精密なアライメントが行われる。
このように、本実施形態においては、コレクタミラーの移動方向を途中で変更(後方〜側方)しているが、いずれの方向においても、コレクタミラー装置の移動径路がプラズマ発光点を含む面(図3の破線III-IIIによって示す面)を横切ることはない。従って、チャンバ内に配置された装置と干渉させることなく、コレクタミラー装置をスムーズに交換することが可能になる。
なお、本実施形態においても、新しいコレクタミラー装置130が載せられたミラーキャリアを、予め、別に用意しておいても良い。それにより、コレクタミラーの交換作業をさらに効率良く交換作業を行うことが可能になる。
次に、本発明の第5の実施形態に係るコレクタミラー交換装置及び交換方法について、図15を参照しながら説明する。図15は、本実施形態に係るコレクタミラー交換装置が備えられたEUV光源装置の一部を示す平面図である。
図15に示すように、コレクタミラー装置130の側方(図の下側)にメンテナンスを行う空間を確保できる場合には、コレクタミラー装置130を側方に引き出すことにより、コレクタミラーを交換しても良い。
この場合には、チャンバ内においてコレクタミラー装置130を支持するコレクタミラー支持台500に、コレクタミラー装置130を側方に移動させる際にガイドとして用いられるミラー交換用レール501と、コレクタミラー装置130の側方における突き止め位置を決定する位置決めピン502とが配置される。また、コレクタミラー130を移動させるための台車として、連結用ガイド511と、スライド用ガイド512と、転落防止用ガイド513とが配置されたミラーキャリア510が用いられる。
コレクタミラーの交換を行う際には、コレクタミラー装置130の側方に設けられたミラー交換用ハッチ104を開き、ミラー出入口105からミラーキャリア510をチャンバ内に挿入する。そして、コレクタミラー装置130をミラー交換用レール501及びスライド用ガイド512に沿ってミラーキャリア510上に移動させ、ミラーキャリア510に載せたままコレクタミラー装置130をチャンバの外側に引き出す。さらに、コレクタミラー10を新しいものに交換して、逆の手順により、コレクタミラー装置をチャンバ内に再度取り付ける。或いは、コレクタミラー装置130ごと新しいものに交換しても良い。
本実施形態によれば、コレクタミラー装置130の後方に位置決め用レーザユニット400が設置されている場合においても、ユニット400との干渉を考慮することなくコレクタミラーの交換作業を行うことができる。
本実施形態においては、コレクタミラー装置130をスライドさせたままの状態でコレクタミラー10を交換しているが、必要に応じてコレクタミラー装置130の向きを変えてからミラー交換を行っても良い。その場合には、第2又は第3の実施形態において説明したのと同様に、コレクタミラー装置130を回転させる機構をミラーキャリア510に設けても良い。
次に、本発明の第6の実施形態に係るコレクタミラー交換装置及び交換方法について、図16〜図18を参照しながら説明する。図16〜図18は、本実施形態に係るコレクタミラー交換装置が備えられたEUV光源装置の一部を示す側面図である。
図16に示すように、コレクタミラー装置130の上方(図の上側)に、メンテナンスを行う空間を確保できる場合には、コレクタミラー装置130を上方に引き出すことにより、コレクタミラーを交換しても良い。
この場合には、チャンバ内に、コレクタミラー装置130を支持するコレクタミラー支持台600と、エレベータガイド601とが設けられる。コレクタミラー支持台600は、エレベータガイド601に沿って昇降できる状態で設置されている。また、コレクタミラー支持台600は、回転治具602を介してエレベータガイド601に取り付けられている。回転治具602は、図16の紙面に直交する回転軸を有している。
コレクタミラーの交換を行う際には、図16に示すように、コレクタミラー装置130の上方に設けられたミラー交換用ハッチ106を開く。そして、図17に示すように、コレクタミラー支持台600をエレベータガイド601に沿って引き上げ、コレクタミラー装置130をミラー出入口107の外側に出す。さらに、図18に示すように、コレクタミラー支持台600を略90度回転させることにより、コレクタミラー10の反射面を上向きにする。この状態で、コレクタミラー10を新しいものに交換する。その後、逆の手順により、コレクタミラー装置130をチャンバ内に再度取り付ける。
本実施形態によれば、コレクタミラー装置130の後方に位置決め用レーザユニット400が設置されている場合においても、ユニット400との干渉を考慮することなくコレクタミラーの交換作業を行うことができる。
なお、本実施形態においては、コレクタミラー10の反射面を上向きにしてミラー交換を行ったが、横向きのままでミラー交換を行っても良い。この場合には、回転治具602を設けなくても良い。
以上説明した第1〜第6の実施形態においては、コレクタミラーに冷却装置及び回転装置が設けられた構造体(コレクタミラー装置)が用いられているが、コレクタミラーの周辺機構を含まない構造体、即ち、コレクタミラーのみ、又は、コレクタミラー及びその支持機構のみを含む構造体を交換する場合に本発明を適用しても良い。
本発明は、極端紫外光源装置において、プラズマから放射される極端紫外光を集光するコレクタミラーの交換装置及び交換方法において利用することが可能である。
本発明の第1の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外光源装置の一部を示す斜視図である。 図1に示すコレクタミラー装置を拡大して示す側面図である。 図1に示すコレクタミラー装置を示す平面図である。 本発明の第2の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を示す側面図である。 本発明の第2の実施形態に係るコレクタミラー交換装置において、コレクタミラー装置を反転させた様子を示す側面図である。 本発明の第3の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を示す側面図である。 本発明の第3の実施形態に係るコレクタミラー交換装置において、コレクタミラーを回転させた様子を示す側面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外光源装置の一部を示す図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外光源装置の一部を示す平面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換方法を説明するための平面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換方法を説明するための平面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換方法を説明するための平面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換方法を説明するための平面図である。 本発明の第4の実施形態に係るコレクタミラー交換方法を説明するための平面図である。 本発明の第5の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外光源装置の一部を示す平面図である。 本発明の第6の実施形態に係るコレクタミラー交換装置を含む極端紫外光源装置の一部を示す側面図である。 本発明の第6の実施形態係るコレクタミラー交換方法を説明するための側面図である。 本発明の第6の実施形態係るコレクタミラー交換方法を説明するための側面図である。
符号の説明
1…ターゲット物質、2、404…レーザビーム、3…EUV光、10…コレクタミラー、11…反射面、12…コレクタミラー固定装置、20…冷却装置、21、22…配管、23…流路、30…回転装置、40…支持部、100…チャンバ隔壁、101、105、107…ミラー出入口、102、104、106…ミラー交換用ハッチ、103…位置決め用窓、110…ターゲットノズル、120…レーザ発振器、121…集光レンズ、130…コレクタミラー装置、140…EUVフィルタ、150…ターゲット回収装置、160…コレクタミラー交換装置、161、500、600…コレクタミラー支持台、162、501…ミラー交換用レール、163…位置調整ステージ、164、502…位置決めピン、210、310、420、510…ミラーキャリア、211…ミラー反転装置、212…ミラー交換用レール、213、315…ミラーキャリア固定装置、311…ミラー回転装置、312…昇降ステージ、313…連結台、314…ミラー交換用レール、400…位置決め用レーザユニット、401…He−Neレーザ、402、403…反射ミラー、410…ミラー交換用ガイドステージ、411…引出し用ガイド、412、422、512…スライド用ガイド、421、511…連結用ガイド、423、513…転落防止用ガイド、601…エレベータガイド、602…回転治具

Claims (8)

  1. チャンバ内のターゲット物質に前記チャンバ外からのレーザビームを照射することによってプラズマを発生させ、該プラズマから放射される所定の波長成分を集光することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって
    前記チャンバ内において発生するプラズマから放射される所定の波長成分を反射集光するコレクタミラー
    前記コレクタミラーの背面側に設けられ、フレキシブルな材料で形成された配管を含み、冷却媒体を循環させる冷却装置と、
    少なくとも前記コレクタミラーの位置及び/又は姿勢を調整するための位置調整ステージと、
    前記チャンバ内の支持台上における少なくとも前記コレクタミラーの移動方向を規制するガイド手段と、
    前記支持台上に固定され、前記支持台上において少なくとも前記コレクタミラーを位置決めする位置決め部材と、
    を具備し、
    前記位置調整ステージが、3次元方向に移動可能なXYZステージと、水平面内において回転可能なステージと、仰角方向において回転可能なステージとの内の少なくとも1つを含み、
    前記ガイド手段が、前記チャンバ内におけるプラズマ生成点と前記コレクタミラーによる極端紫外光の集光点とを含む軸に直交すると共にプラズマ生成点を含む面に交差しない、極端紫外光源装置
  2. 少なくとも前記コレクタミラーを運搬する台車であって、前記支持台に連結される連結機構を有し、上部に第2のガイド手段が配置されており、前記台車が前記支持台に連結された場合に、前記第2のガイド手段が、前記ガイド手段に実質的に連続する、前記台車をさらに具備する請求項1記載の極端紫外光源装置
  3. 前記台車が、少なくとも前記コレクタミラーが載せられた場合に、少なくとも前記コレクタミラーの向きを変化させる回転機構をさらに含む、請求項記載の極端紫外光源装置
  4. チャンバ内のターゲット物質に前記チャンバ外からのレーザビームを照射することによってプラズマを発生させ、該プラズマから放射される所定の波長成分を集光することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって
    前記チャンバ内において発生するプラズマから放射される所定の波長成分を反射集光するコレクタミラー、前記コレクタミラーの背面側に設けられ、フレキシブルな材料で形成された配管を含み、冷却媒体を循環させる冷却装置、少なくとも前記コレクタミラーの位置及び/又は姿勢を調整するための位置調整ステージ、及び、前記チャンバ内の支持台上における少なくとも前記コレクタミラーの移動方向を規制するガイド手段を含むコレクタミラー構造体と、
    極端紫外光の生成に寄与しなかったターゲット物質を回収するターゲット回収装置と、
    前記支持台上に固定され、前記支持台上において少なくとも前記コレクタミラーを位置決めする位置決め部材と、
    を具備し、
    前記ガイド手段が、前記チャンバ内におけるプラズマ生成点と前記コレクタミラーによる極端紫外光の集光点とを含む軸に直交すると共にプラズマ生成点を含む面に交差しない、極端紫外光源装置
  5. チャンバ内のターゲット物質に前記チャンバ外からのレーザビームを照射することによってプラズマを発生させ、該プラズマから放射される所定の波長成分を集光することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置において、極端紫外光を反射集光するコレクタミラーを交換する方法であって、
    少なくともコレクタミラーの位置及び/又は姿勢を調整するための位置調整ステージを用いて、前記チャンバ内の支持台上に設置されている少なくとも前記コレクタミラーを所望の角度だけ回転させるステップ(a)と、
    少なくとも前記コレクタミラーを、ガイド手段にって移動方向を規制しながら移動させることにより、少なくとも前記コレクタミラーを前記チャンバの外側に取り出すステップ()と、
    前記チャンバの外側において、使用済みのコレクタミラーを、新しいコレクタミラーに交換するステップ()と、
    少なくとも交換後のコレクタミラーを、前記ガイド手段にって移動方向を規制しながら移動させ、前記位置調整ステージを用いて少なくとも前記コレクタミラーを元の位置に戻すステップ()と、
    を具備するコレクタミラー交換方法。
  6. 前記ガイド手段が、前記チャンバ内においてプラズマを発生させるプラズマ発光点と前記コレクタミラーによる極端紫外光の集光点とを含む軸に直交する面の内でプラズマ発光点を含む面に交差しない位置に配置されている、請求項記載のコレクタミラー交換方法。
  7. ステップ()及び()が、少なくとも前記コレクタミラーを運搬する台車であって、前記支持台に連結される連結機構を有し、上部に第2のガイド手段が配置されている前記台車を、前記支持台に連結することにより、前記第2のガイド手段を前記ガイド手段に実質的に連続させ、少なくとも前記コレクタミラーを前記支持台及び前記台車上で移動させることを含む、請求項又は記載のコレクタミラー交換方法。
  8. ステップ()の前で、前記台車上に載せられた少なくとも前記コレクタミラーの向きを変化させるステップと、
    ステップ()の後で、前記台車上に載せられた少なくとも前記コレクタミラーの向きを元に戻すステップと、
    をさらに具備する、請求項記載のコレクタミラー交換方法。
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US11/979,513 US8477412B2 (en) 2006-11-07 2007-11-05 Collector mirror exchanging apparatus and method for extreme ultraviolet light source apparatus
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10813206B2 (en) 2017-06-13 2020-10-20 Gigaphoton Inc. Extreme ultraviolet light generation apparatus

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8110326B2 (en) 2007-06-04 2012-02-07 Ricoh Company Limited Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge
US9052615B2 (en) 2008-08-29 2015-06-09 Gigaphoton Inc. Extreme ultraviolet light source apparatus
JP2010080754A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Nikon Corp 照明光学系及び露光装置
JP5474522B2 (ja) * 2009-01-14 2014-04-16 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源システム
US8138487B2 (en) * 2009-04-09 2012-03-20 Cymer, Inc. System, method and apparatus for droplet catcher for prevention of backsplash in a EUV generation chamber
JP5670174B2 (ja) * 2010-03-18 2015-02-18 ギガフォトン株式会社 チャンバ装置および極端紫外光生成装置
US9073098B2 (en) * 2012-05-16 2015-07-07 Asml Netherlands B.V. Light collector mirror cleaning
EP2883111B1 (de) * 2012-08-13 2018-11-07 TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH Optische anordnung, optisches modul und verfahren zum lagerichtigen positionieren eines optischen moduls in einem gehäuse
DE102013200368A1 (de) * 2013-01-14 2014-07-17 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Kollektorspiegeleinheit für die Halbleiterlithographie
US9429858B2 (en) 2013-09-24 2016-08-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Rotary EUV collector
NL2018110A (en) * 2016-01-18 2017-07-24 Asml Netherlands Bv A beam measurement system, a lithographic system, and a method
WO2018092227A1 (ja) 2016-11-17 2018-05-24 ギガフォトン株式会社 ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法
WO2019035165A1 (ja) * 2017-08-14 2019-02-21 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置及びメンテナンス方法
JP7110323B2 (ja) 2018-03-13 2022-08-01 ギガフォトン株式会社 架台、極端紫外光生成システム、及びデバイスの製造方法
EP3726940A3 (en) 2019-04-16 2020-11-11 Okinawa Institute of Science and Technology School Corporation Laser-driven microplasma xuv source
KR20220116181A (ko) * 2019-12-17 2022-08-22 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 방사선 소스용 용기

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0540178B1 (en) * 1991-09-30 1998-05-06 Canon Kabushiki Kaisha X-ray exposure apparatus and method for using it
JP3710443B2 (ja) * 2002-09-11 2005-10-26 キヤノン株式会社 ミラー保持装置及び方法、並びに、ミラー交換方法
AU2003248107A1 (en) * 2002-09-24 2004-04-19 Nikon Corporation X-ray generating device and exposure device
JP2005311032A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Nsk Ltd 真空用位置決め装置及びその組立方法ならびに分解方法、真空用位置決め装置用組立/分解装置
JP2008108599A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Ushio Inc 極端紫外光光源装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10813206B2 (en) 2017-06-13 2020-10-20 Gigaphoton Inc. Extreme ultraviolet light generation apparatus

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