JP2008108599A - 極端紫外光光源装置 - Google Patents
極端紫外光光源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008108599A JP2008108599A JP2006290901A JP2006290901A JP2008108599A JP 2008108599 A JP2008108599 A JP 2008108599A JP 2006290901 A JP2006290901 A JP 2006290901A JP 2006290901 A JP2006290901 A JP 2006290901A JP 2008108599 A JP2008108599 A JP 2008108599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- lid member
- light source
- container
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70166—Capillary or channel elements, e.g. nested extreme ultraviolet [EUV] mirrors or shells, optical fibers or light guides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
Abstract
【課題】放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができる極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】容器１０の開口を覆う、容器１０に対して着脱可能な蓋部材２１を設ける。この蓋部材２１に、第１の電極１１、第２の電極１２、絶縁材１３などから構成される放電部材１８、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３を取り付け、放電部集光鏡ユニット１９とする。そして、放電部集光鏡ユニット１９の状態で、放電部材１８の光軸と、集光鏡２の光軸とを一致させ、また放電部材１８に対する集光鏡２の光軸方向の位置を調整したのち、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡側を、容器１０（チャンバ）の開口に向け、チャンバ１０の中に集光鏡２およびホイルトラップ３を挿入し、蓋部材２１を容器１０に固定する。
【選択図】 図１
【解決手段】容器１０の開口を覆う、容器１０に対して着脱可能な蓋部材２１を設ける。この蓋部材２１に、第１の電極１１、第２の電極１２、絶縁材１３などから構成される放電部材１８、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３を取り付け、放電部集光鏡ユニット１９とする。そして、放電部集光鏡ユニット１９の状態で、放電部材１８の光軸と、集光鏡２の光軸とを一致させ、また放電部材１８に対する集光鏡２の光軸方向の位置を調整したのち、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡側を、容器１０（チャンバ）の開口に向け、チャンバ１０の中に集光鏡２およびホイルトラップ３を挿入し、蓋部材２１を容器１０に固定する。
【選択図】 図１
Description
本発明は、極端紫外光を発生させる極端紫外光光源装置に関し、特に、極端紫外光光源装置の放電部や集光鏡の保守を容易に行なうことができるようにした極端紫外光光源装置に関するものである。
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、その製造用の投影露光装置においては解像力の向上が要請されている。その要請に応えるため、露光用光源の短波長化が進められており、エキシマレ一ザ装置に続く次世代の半導体露光用光源として、波長１３〜１４ｎｍ、特に波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、ＥＵＶ（ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光ともいう）光を照射する極端紫外光光源装置（以下、ＥＵＶ光源装置ともいう）が開発されている。
ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶ光を発生させる方法はいくつか知られているが、そのうちの一つに極端紫外光放射種（以下ＥＵＶ光放射種）を加熱し励起することにより高温プラズマを発生させ、このプラズマから放射されるＥＵＶ光を取り出す方法がある。
このような方法を採用するＥＵＶ光源装置は、高温プラズマの生成方式により、ＬＰＰ（ＬａｓｅｒＰｒｏｄｕｃｅｄＰｌａｓｍａ：レーザ生成プラズマ）方式とＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ＰｒｏｄｕｃｅｄＰｌａｓｍａ：放電生成プラズマ）方式とに大きく分けられる。
ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶ光を発生させる方法はいくつか知られているが、そのうちの一つに極端紫外光放射種（以下ＥＵＶ光放射種）を加熱し励起することにより高温プラズマを発生させ、このプラズマから放射されるＥＵＶ光を取り出す方法がある。
このような方法を採用するＥＵＶ光源装置は、高温プラズマの生成方式により、ＬＰＰ（ＬａｓｅｒＰｒｏｄｕｃｅｄＰｌａｓｍａ：レーザ生成プラズマ）方式とＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ＰｒｏｄｕｃｅｄＰｌａｓｍａ：放電生成プラズマ）方式とに大きく分けられる。
ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む原料からなるターゲットにレーザ光を照射することで、レーザアブレーションにより高温プラズマを生成し、そこから放射されるＥＵＶ光を利用する。
一方、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光放射種を含む原料から電流駆動によって高温プラズマを生成し、そこから放射されるＥＵＶ光を利用する。
ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置における放電方式には、Ｚピンチ方式、キャピラリー放電方式、プラズマフォーカス方式、ホロカソードトリガーＺピンチ方式などがある。
ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置と比較して、光源装置の小型化や光源システムの消費電力が小さいといったメリットがあり、実用化への期待も大きい。
一方、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光放射種を含む原料から電流駆動によって高温プラズマを生成し、そこから放射されるＥＵＶ光を利用する。
ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置における放電方式には、Ｚピンチ方式、キャピラリー放電方式、プラズマフォーカス方式、ホロカソードトリガーＺピンチ方式などがある。
ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置と比較して、光源装置の小型化や光源システムの消費電力が小さいといったメリットがあり、実用化への期待も大きい。
上記した両方式のＥＵＶ光源装置において、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放出する放射種、すなわち、高温プラズマの原料として、現在１０価前後のＸｅ（キセノン）イオンが知られているが、より強い放射強度を得るための原料としてＬｉ（リチウム）イオンとＳｎ（スズ）イオンが注目されている。
例えば、Ｓｎは、高温プラズマの発生に必要な電気入力と波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光放射強度の比であるＥＵＶ変換効率がＸｅより数倍大きく、大出力のＥＵＶ光源の放射種として有力視されている。例えば、特許文献１に示されるように、ＥＵＶ光放射種であるＳｎを放電部に供給するための原料としてガス状のスズ化合物（例えばスタナンガス：ＳｎＨ4 ）を使ったＥＵＶ光源の開発が進められている。
例えば、Ｓｎは、高温プラズマの発生に必要な電気入力と波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光放射強度の比であるＥＵＶ変換効率がＸｅより数倍大きく、大出力のＥＵＶ光源の放射種として有力視されている。例えば、特許文献１に示されるように、ＥＵＶ光放射種であるＳｎを放電部に供給するための原料としてガス状のスズ化合物（例えばスタナンガス：ＳｎＨ4 ）を使ったＥＵＶ光源の開発が進められている。
図７に、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置の構成例を示す。
図７に示すように、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、放電容器であるチャンバ１０を有する。チャンバ１０内には、例えば、リング状の第１の主放電電極（カソード）１１と第２の主放電電極（アノード）１２とが、リング状の絶縁材１３を挟んで配置され、放電部１を構成する。
第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２は、例えば、タングステン、モリブデン、タンタル等の高融点金属からなる。また、絶縁材１３は、例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ダイヤモンド等からなる。
図７に示すように、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、放電容器であるチャンバ１０を有する。チャンバ１０内には、例えば、リング状の第１の主放電電極（カソード）１１と第２の主放電電極（アノード）１２とが、リング状の絶縁材１３を挟んで配置され、放電部１を構成する。
第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２は、例えば、タングステン、モリブデン、タンタル等の高融点金属からなる。また、絶縁材１３は、例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ダイヤモンド等からなる。
リング状の第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２、絶縁材１３は、それぞれの貫通穴が略同軸上に位置するように配置し、連通穴を構成している。後述するように、第１の主放電電極１１および第２の主放電電極１２間に電力が供給されて放電が発生したとき、この連通穴もしくは連通穴近傍にて、容器内に導入されたＥＵＶ放射種が加熱励起され高温プラズマＰが生成され、ＥＵＶ光が放射される。
放電部１への電力供給は、第１の主放電電極１１および第２の主放電電極１２に接続された高電圧パルス発生部１５によりなされる。
なお、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、図７に示すもの以外にも様々な構成例があるが、それについては非特許文献１を参照されたい。
放電部１への電力供給は、第１の主放電電極１１および第２の主放電電極１２に接続された高電圧パルス発生部１５によりなされる。
なお、ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、図７に示すもの以外にも様々な構成例があるが、それについては非特許文献１を参照されたい。
チャンバ１０の第１の主放電電極１１側には、原料導入管１４ａが設けられ、ＥＵＶ光放射種を含む放電ガスを供給する原料供給ユニット１４が接続されている。この原料導入管１４ａを介してＥＵＶ光放射種がチャンバ１０内に供給される。
チャンバ１０の第２の主放電電極１２側には、ガス排出口８ａが設けられ、ガス排気ユニット８と接続されている。ガス排気ユニット８は、チャンバ１０内を排気するとともに、放電部１の圧力を調整する。
また、チャンバ１０の第２の主放電電極１２側には、ＥＵＶ集光鏡２が設けられる。ＥＵＶ集光鏡２は、放電部１にて加熱励起されて生成した高温プラズマＰから放射されるＥＵＶ光を反射して集光し、チャンバ１０のＥＵＶ光取出部７から、外部にＥＵＶ光を出射する。なお、この、ＥＵＶ集光鏡２によりＥＵＶ光が集光される点は、中間集光点と呼ばれる。
チャンバ１０の第２の主放電電極１２側には、ガス排出口８ａが設けられ、ガス排気ユニット８と接続されている。ガス排気ユニット８は、チャンバ１０内を排気するとともに、放電部１の圧力を調整する。
また、チャンバ１０の第２の主放電電極１２側には、ＥＵＶ集光鏡２が設けられる。ＥＵＶ集光鏡２は、放電部１にて加熱励起されて生成した高温プラズマＰから放射されるＥＵＶ光を反射して集光し、チャンバ１０のＥＵＶ光取出部７から、外部にＥＵＶ光を出射する。なお、この、ＥＵＶ集光鏡２によりＥＵＶ光が集光される点は、中間集光点と呼ばれる。
また、放電部１とＥＵＶ集光鏡２との間には、ホイルトラップ３が設置される。ホイルトラップ３は、高温プラズマによる金属（たとえば主放電電極）のスパッタや、スズ等の放電ガスに起因して生じるデブリが、ＥＵＶ集光鏡２に向かうのを防ぐ働きをする。
ホイルトラップ３は、同心円状に配置された内部リングと外部リングの２個のリングと、この２個のリングにより両側が支持されて放射状に配置された複数の薄いプレートから構成されている。プレートは配置した空間を細かく分割することにより、その空間の圧力を上げ、デブリの運動エネルギーを低下させるとともに、デブリをプレートやリングに捕捉する。一方、このホイルトラップは高温プラズマから見ると、２個のリングを除けばプレートの厚みしか見えず、ＥＵＶ光のほとんどは通過する。
ホイルトラップ３は、同心円状に配置された内部リングと外部リングの２個のリングと、この２個のリングにより両側が支持されて放射状に配置された複数の薄いプレートから構成されている。プレートは配置した空間を細かく分割することにより、その空間の圧力を上げ、デブリの運動エネルギーを低下させるとともに、デブリをプレートやリングに捕捉する。一方、このホイルトラップは高温プラズマから見ると、２個のリングを除けばプレートの厚みしか見えず、ＥＵＶ光のほとんどは通過する。
また、図７に示すＤＰＰ方式ＥＵＶ光源装置は、制御部１６を有する。この制御部１６は、露光機の制御部１７からのＥＵＶ発光指令等に基づき、高電圧パルス発生部１５、原料供給ユニット１４、ガス排気ユニット８を制御する。
例えば、制御部１７は、露光機の制御部１７からのＥＵＶ発光指令を受信すると、原料供給ユニット１４を制御して、チャンバ１０内にＥＵＶ光放射種を含む放電ガスを供給する。
また、チャンバ１０に設けた圧力モニタ９からの圧力データに基づき、放電部１が所定の圧力となるよう、原料供給ユニット１４からの放電ガス供給量を制御するとともに、ガス排気ユニット８による排気量を制御する。その後、高電圧パルス発生部１５を制御して、第１の主放電電極１１および第２の主放電電極１２間に電力を供給し、ＥＵＶを放射する高温プラズマを発生させる。
例えば、制御部１７は、露光機の制御部１７からのＥＵＶ発光指令を受信すると、原料供給ユニット１４を制御して、チャンバ１０内にＥＵＶ光放射種を含む放電ガスを供給する。
また、チャンバ１０に設けた圧力モニタ９からの圧力データに基づき、放電部１が所定の圧力となるよう、原料供給ユニット１４からの放電ガス供給量を制御するとともに、ガス排気ユニット８による排気量を制御する。その後、高電圧パルス発生部１５を制御して、第１の主放電電極１１および第２の主放電電極１２間に電力を供給し、ＥＵＶを放射する高温プラズマを発生させる。
ＥＵＶ光光源装置の動作は以下のように行われる。
放電容器であるチャンバ１０内に、原料供給ユニット１４より第１の主放電電極１１側に設けられた原料導入管１４ａを介してＥＵＶ光発生種を含む放電ガスが導入される。
放電ガスは、例えばスタナン（ＳｎＨ4 ）であり、導入されたＳｎＨ4 は、放電部１の第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２、絶縁材１３により形成されている連通穴を通過して、チャンバ１０側に流れ、ガス排出口８ａに到達する。ガス排出口８ａには、真空ポンプ等のガス排気手段を有するガス排気ユニット８が接続され排気される。
ここで、放電部１の圧力は１〜２０Ｐａに調節される。この圧力調節は、例えば、以下のように行われる。まず、制御部１６がチャンバ１０に備えられた圧力モニタ９により出力される圧力データを受信する。制御部１５は受信した圧力データに基づき、原料供給ユニット１４及びガス排気ユニット８を制御して、チャンバ１０内へのＳｎＨ4 の供給量ならびに排気量を調節することにより、高温プラズマ発生部の圧力を所定の圧力に調節する。
放電容器であるチャンバ１０内に、原料供給ユニット１４より第１の主放電電極１１側に設けられた原料導入管１４ａを介してＥＵＶ光発生種を含む放電ガスが導入される。
放電ガスは、例えばスタナン（ＳｎＨ4 ）であり、導入されたＳｎＨ4 は、放電部１の第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２、絶縁材１３により形成されている連通穴を通過して、チャンバ１０側に流れ、ガス排出口８ａに到達する。ガス排出口８ａには、真空ポンプ等のガス排気手段を有するガス排気ユニット８が接続され排気される。
ここで、放電部１の圧力は１〜２０Ｐａに調節される。この圧力調節は、例えば、以下のように行われる。まず、制御部１６がチャンバ１０に備えられた圧力モニタ９により出力される圧力データを受信する。制御部１５は受信した圧力データに基づき、原料供給ユニット１４及びガス排気ユニット８を制御して、チャンバ１０内へのＳｎＨ4 の供給量ならびに排気量を調節することにより、高温プラズマ発生部の圧力を所定の圧力に調節する。
放電ガスが、リング状の第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２、絶縁材１３により形成されている連通穴を流れている状態で、第２の主放電電極１２と第１の主放電電極１１との間に、高電圧パルス発生部１５からおよそ＋２０ｋＶ〜−２０ｋＶの高電圧パルス電圧が印加される。その結果、絶縁材１３表面に沿面放電（ｃｒｅｅｐｉｎｇｄｉｓｃｈａｒｇｅ）が発生して第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２間は実質、短絡状態になり、第１の主放電電極１１、第２の主放電電極１２間にパルス状の大電流が流れる。その後、ピンチ効果によるジュール加熱によってリング状の第１、第２の各主放電電極１１，１２間の高温プラズマ発生部には、放電ガスによる高温プラズマが発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。
放射されたＥＵＶ光は、第２の主放電電極１２側に設けられたホイルトラップ３を通過し、ＥＵＶ集光鏡２により反射されて集光し、ＥＵＶ光取出部７より露光機側光学系２０側に出射される。
特開２００４一２７９２４６号公報
「リソグラフィ用ＥＵＶ（極端紫外）光源研究の現状と将来展望」Ｊ．ＰｌａｓｍａＦｕｓｉｏｎＲｅｓ．Ｖｏｌ．７９．Ｎ０．３，Ｐ２１９−２６０，２ＯＯ３年３月
放射されたＥＵＶ光は、第２の主放電電極１２側に設けられたホイルトラップ３を通過し、ＥＵＶ集光鏡２により反射されて集光し、ＥＵＶ光取出部７より露光機側光学系２０側に出射される。
図７に示すように、従来は、放電部１、ホイルトラップ３、ＥＵＶ集光鏡２が、チャンバ１０に対して別々に取り付け支持されていた。
放電部１はチャンバ１０の１面側に設けられ、第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２が取り付けられている。ホイルトラップ３は、チャンバ１０内に設けられた支持壁３ａにより支持されている。また、ＥＵＶ集光鏡２も、チャンバ１０内に設けられた保持機構４により保持されている。
一方、放電部１、ホイルトラップ３、ＥＵＶ集光鏡２は、次に示すような理由で、定期的に修理や交換が必要である。
（ａ）放電部１の第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２は、放電が繰り返されることにより磨耗するので、定期的に交換が必要である。
（ｂ）ホイルトラップ３のホイルは、高温プラズマからのデブリにより磨耗損傷する。またデブリが付着することにより、ＥＵＶ光の透過率が低下することがある。したがって定期的に交換が必要である。
（ｃ）集光鏡２も、ホイルトラップ３等のデブリトラップにより捕獲しきれなかったデブリにより、磨耗損傷したり、デブリが付着したりする。そのために反射率が低下するので、定期的に交換が必要である。
放電部１はチャンバ１０の１面側に設けられ、第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２が取り付けられている。ホイルトラップ３は、チャンバ１０内に設けられた支持壁３ａにより支持されている。また、ＥＵＶ集光鏡２も、チャンバ１０内に設けられた保持機構４により保持されている。
一方、放電部１、ホイルトラップ３、ＥＵＶ集光鏡２は、次に示すような理由で、定期的に修理や交換が必要である。
（ａ）放電部１の第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２は、放電が繰り返されることにより磨耗するので、定期的に交換が必要である。
（ｂ）ホイルトラップ３のホイルは、高温プラズマからのデブリにより磨耗損傷する。またデブリが付着することにより、ＥＵＶ光の透過率が低下することがある。したがって定期的に交換が必要である。
（ｃ）集光鏡２も、ホイルトラップ３等のデブリトラップにより捕獲しきれなかったデブリにより、磨耗損傷したり、デブリが付着したりする。そのために反射率が低下するので、定期的に交換が必要である。
以上の理由から放電部１、ホイルトラップ３、ＥＵＶ集光鏡２は定期的に修理や交換が必要であり、この交換は次の手順で行われる。
（１）放電部１、即ち第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２を、チャンバ１０から取り外す。
（２）放電部１を取り外した側からチャンバ１０内に手を入れ、ホイルトラップ支持壁３ａからホイルトラップ３を、また集光鏡保持機構４からＥＵＶ集光鏡２を取り外す。
（３）交換する新しいＥＵＶ集光鏡２を集光鏡保持機構４に、また、新しいホイルトラップ３をホイルトラップ支持壁３ａに取り付ける。
（４）チャンバ１０に第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２を取り付け、放電部１を組み立てる。
（１）放電部１、即ち第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２を、チャンバ１０から取り外す。
（２）放電部１を取り外した側からチャンバ１０内に手を入れ、ホイルトラップ支持壁３ａからホイルトラップ３を、また集光鏡保持機構４からＥＵＶ集光鏡２を取り外す。
（３）交換する新しいＥＵＶ集光鏡２を集光鏡保持機構４に、また、新しいホイルトラップ３をホイルトラップ支持壁３ａに取り付ける。
（４）チャンバ１０に第１の主放電電極１１、絶縁材１３、第２の主放電電極１２を取り付け、放電部１を組み立てる。
ここで、放電部１や集光鏡２を交換した場合、集光鏡２の集光点（中間集光点）の位置が、ＥＵＶ光源装置に接続される露光機２０に対して所定の位置になるように、また、中間集光点でのＥＵＶ光の特性（例えば光強度）が所望の値になるように、放電部１の光軸（図７の場合であれば、第１の主放電電極１１と第２の主放電電極１２および絶縁材１３により構成された連通穴の中心軸）と、集光鏡２の光軸とを一致させなければならないし、集光鏡２の光軸方向の位置も調整しなければならない。
したがって、これらの交換作業は単に各部品を交換しただけではすまず、保持機構４に備えられている位置調整手段（不図示）により集光鏡２の位置を調整したり、放電部１の第１および第２の主放電電極１１，１２や絶縁材１３の位置調整を行ったりしていた。即ち、従来は、放電部１や集光鏡２を交換した後、現場で、交換した部品の位置調整作業を行わなければならず、作業に時間がかかっていた。
放電部１や集光鏡２の交換や位置調整といった保守作業を行っている間は、装置が停止している。生産性の観点から、この停止は短時間であればあるほど望ましい。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の課題は、ＥＵＶ光源装置において、放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができるようにすることである。
したがって、これらの交換作業は単に各部品を交換しただけではすまず、保持機構４に備えられている位置調整手段（不図示）により集光鏡２の位置を調整したり、放電部１の第１および第２の主放電電極１１，１２や絶縁材１３の位置調整を行ったりしていた。即ち、従来は、放電部１や集光鏡２を交換した後、現場で、交換した部品の位置調整作業を行わなければならず、作業に時間がかかっていた。
放電部１や集光鏡２の交換や位置調整といった保守作業を行っている間は、装置が停止している。生産性の観点から、この停止は短時間であればあるほど望ましい。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の課題は、ＥＵＶ光源装置において、放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができるようにすることである。
本発明は前記課題を次のように解決する。
（１）容器と、上記容器内に極端紫外光放射種を供給する極端紫外光放射種供給手段と、上記極端紫外光放射種を加熱して励起し高温プラズマを発生させる一対の主放電電極からなる放電部材と、上記高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光鏡と、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し、容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた極端紫外光光源装置において、容器の一面に開口を設け、その開口に着脱可能な蓋部材を設ける。そして、この蓋部材に前記放電部材と集光鏡を取り付け、上記蓋部材を取り外すことにより、放電部材と集光鏡が蓋部材と一体で容器から取り出されるように構成する。
（２）上記蓋部材に、高温プラズマから生じるデブリが集光鏡の方向に飛散するのを防ぐホイルトラップを支持させる。
（１）容器と、上記容器内に極端紫外光放射種を供給する極端紫外光放射種供給手段と、上記極端紫外光放射種を加熱して励起し高温プラズマを発生させる一対の主放電電極からなる放電部材と、上記高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光鏡と、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し、容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた極端紫外光光源装置において、容器の一面に開口を設け、その開口に着脱可能な蓋部材を設ける。そして、この蓋部材に前記放電部材と集光鏡を取り付け、上記蓋部材を取り外すことにより、放電部材と集光鏡が蓋部材と一体で容器から取り出されるように構成する。
（２）上記蓋部材に、高温プラズマから生じるデブリが集光鏡の方向に飛散するのを防ぐホイルトラップを支持させる。
本発明においては、以下のような効果を得ることができる。
（１）放電部材と集光鏡およびホイルトラップ等が、蓋部材に対して位置決めされ蓋部材に取り付けられ、ユニット構造化される。そのため、あらかじめ、蓋部材に集光鏡およびホイルトラップ等を取り付けて位置決めを済ませた交換ユニットを準備し、ユニットごと交換することができる。
したがって、現場で、交換した部品の位置調整作業を行なう必要がなく、交換時間を短縮することができる。
（２）ユニットごと交換するのではなく、放電部、集光鏡、ホイルトラップといった部品を交換する場合であっても、これらの各部品は、容器の着脱可能な蓋部材に取り付けられ、容器の他の部分には固定されていないので、蓋部材を、各部品が取り付けられた状態で、台車等を使って、作業が行ないやすい場所に運搬し、交換作業を行なうことができる。容器内に手を入れて作業する必要もなく、したがって、各部品の取り付け取り外しが容易で、作業の短時間化が期待できる。
（３）以上より放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができる。
（１）放電部材と集光鏡およびホイルトラップ等が、蓋部材に対して位置決めされ蓋部材に取り付けられ、ユニット構造化される。そのため、あらかじめ、蓋部材に集光鏡およびホイルトラップ等を取り付けて位置決めを済ませた交換ユニットを準備し、ユニットごと交換することができる。
したがって、現場で、交換した部品の位置調整作業を行なう必要がなく、交換時間を短縮することができる。
（２）ユニットごと交換するのではなく、放電部、集光鏡、ホイルトラップといった部品を交換する場合であっても、これらの各部品は、容器の着脱可能な蓋部材に取り付けられ、容器の他の部分には固定されていないので、蓋部材を、各部品が取り付けられた状態で、台車等を使って、作業が行ないやすい場所に運搬し、交換作業を行なうことができる。容器内に手を入れて作業する必要もなく、したがって、各部品の取り付け取り外しが容易で、作業の短時間化が期待できる。
（３）以上より放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができる。
図１、図２は、本発明の第１の実施例の構成を示す図であり、図１は本実施例のＥＵＶ光源装置の全体構成を示す断面図、図２は放電部、ホイルトラップ、集光鏡から構成される部分を詳しく示した拡大図である。
図１に示すＥＵＶ光源装置は、放電部、ホイルトラップ、集光鏡等の取り付け構造が相違する点を除き、前記図７に示したＥＵＶ光源装置と同様の構成を有し、その動作も同じである。また、図７に示したものと同一のものには同一の符号が付されており、以下の説明では図７で説明したものと同一のものについては説明を省略している。
図１〜図２において、チャンバ（容器）１０は、光取出部７がある面に対向する面に開口を有し、また、この開口を覆う蓋部材２１を備える。この蓋部材２１は、容器１０に対して着脱可能であり、ねじ２７によるねじ止めで容器１０に固定される。この蓋部材２１を、一種の基準部材として、第１の電極１１、第２の電極１２、絶縁材１３などから構成される部材（これらを合わせて放電部材１８という）、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３が取り付けられる。
図１に示すＥＵＶ光源装置は、放電部、ホイルトラップ、集光鏡等の取り付け構造が相違する点を除き、前記図７に示したＥＵＶ光源装置と同様の構成を有し、その動作も同じである。また、図７に示したものと同一のものには同一の符号が付されており、以下の説明では図７で説明したものと同一のものについては説明を省略している。
図１〜図２において、チャンバ（容器）１０は、光取出部７がある面に対向する面に開口を有し、また、この開口を覆う蓋部材２１を備える。この蓋部材２１は、容器１０に対して着脱可能であり、ねじ２７によるねじ止めで容器１０に固定される。この蓋部材２１を、一種の基準部材として、第１の電極１１、第２の電極１２、絶縁材１３などから構成される部材（これらを合わせて放電部材１８という）、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３が取り付けられる。
蓋部材２１には、図１、図２に示すように段差を有する貫通孔２４が形成されている。第２の主放電電極１２は、この貫通孔２４の段差に係合する形状に加工され、その上に絶縁材１３と第１の主放電電極１１が載るようにして放電部１が形成される。
放電部材は、図１、図２の左側から蓋部材２１に挿入され、第２の主放電電極１２側の段差と貫通孔２４の段差とが係合して蓋部材２１に対する放電部材１８の位置が決まった状態で、固定される。
また、蓋部材２１には、高電圧パルス発生部１５のパルス生成器１５ｂが取り付けられている。パルス生成器１５ｂからは、第１の主放電電極１１と第２の主放電電極１２に、パルス電圧を印加する配線が接続されている。なお、パルス生成器１５ｂには充電器１５ａから高電圧が印加され、パルス生成器１５ｂは高電圧パルスを生成する。
放電部材は、図１、図２の左側から蓋部材２１に挿入され、第２の主放電電極１２側の段差と貫通孔２４の段差とが係合して蓋部材２１に対する放電部材１８の位置が決まった状態で、固定される。
また、蓋部材２１には、高電圧パルス発生部１５のパルス生成器１５ｂが取り付けられている。パルス生成器１５ｂからは、第１の主放電電極１１と第２の主放電電極１２に、パルス電圧を印加する配線が接続されている。なお、パルス生成器１５ｂには充電器１５ａから高電圧が印加され、パルス生成器１５ｂは高電圧パルスを生成する。
一方、蓋部材２１の、放電部材が挿入される側とは反対側には、ホイルトラップ支持構造体２３と集光鏡支持構造体２２が、支柱２５，２６を介して取り付けられている。
ホイルトラップ支持構造体２３には、ホイルトラップ３が取り付けられて支持される。また、集光鏡支持構造体２２には、集光鏡２が取り付けられて支持される。
したがって、蓋部材２１は、蓋部材２１を挟んで一方の側に放電部材１８が、他方の側にホイルトラップ３や集光鏡２が取り付けられた、一種のユニット構造になる。以下、放電部材と集光鏡２（およびホイルトラップ３）と、これらが取り付けられた蓋部材２１のことを、放電部集光鏡ユニット１９とも呼ぶ。
なお、容器１０の、蓋部材２１により覆われる開口の径は、上記のホイルトラップ支持構造体２３や集光鏡支持構造体２２の径よりも大きい。
ホイルトラップ支持構造体２３には、ホイルトラップ３が取り付けられて支持される。また、集光鏡支持構造体２２には、集光鏡２が取り付けられて支持される。
したがって、蓋部材２１は、蓋部材２１を挟んで一方の側に放電部材１８が、他方の側にホイルトラップ３や集光鏡２が取り付けられた、一種のユニット構造になる。以下、放電部材と集光鏡２（およびホイルトラップ３）と、これらが取り付けられた蓋部材２１のことを、放電部集光鏡ユニット１９とも呼ぶ。
なお、容器１０の、蓋部材２１により覆われる開口の径は、上記のホイルトラップ支持構造体２３や集光鏡支持構造体２２の径よりも大きい。
次に、放電部集光鏡ユニット１９における放電部材や集光鏡の位置調整について説明する。
放電部材１８や集光鏡２（およびホイルトラップ３）の位置は、蓋部材２１を基準部材として位置決めされる。
放電部材１８の位置は、第２の主放電電極１２に形成された段差と、蓋部材２１の貫通孔２４に形成された段差との嵌め合いにより、蓋部材２１に対して機械寸法公差で位置が決まる。
集光鏡２およびホイルトラップ３の、光軸方向の位置は、集光鏡支持構造体２２やホイルトラップ支持構造体２３の支柱２５，２６の高さを変えることにより調整する。
集光鏡２およびホイルトラップ３の、光軸方向に直交する方向の位置は、支柱２５，２６に対して、集光鏡支持構造体２２、またはホイルトラップ支持構造体２３の位置を移動させることにより調整する。
放電部材１８や集光鏡２（およびホイルトラップ３）の位置は、蓋部材２１を基準部材として位置決めされる。
放電部材１８の位置は、第２の主放電電極１２に形成された段差と、蓋部材２１の貫通孔２４に形成された段差との嵌め合いにより、蓋部材２１に対して機械寸法公差で位置が決まる。
集光鏡２およびホイルトラップ３の、光軸方向の位置は、集光鏡支持構造体２２やホイルトラップ支持構造体２３の支柱２５，２６の高さを変えることにより調整する。
集光鏡２およびホイルトラップ３の、光軸方向に直交する方向の位置は、支柱２５，２６に対して、集光鏡支持構造体２２、またはホイルトラップ支持構造体２３の位置を移動させることにより調整する。
したがって、放電部集光鏡ユニット１９の状態で、放電部材１８の光軸（第１の主放電電極１１と第２の主放電電極１２および絶縁材１３により構成された連通穴の中心軸）と、集光鏡２の光軸とを一致させることができる。また、放電部材１８に対する集光鏡２の光軸方向の位置も調整でき、放電部材１８に対する中間集光点の位置を、決めることができる。
このようにして、蓋部材２１に対して放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２の位置調整がなされた放電部集光鏡ユニット１９を、チャンバ１０に取り付ける。
すなわち、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡側を、容器１０（チャンバ）の開口に向け、チャンバ１０の中に集光鏡２およびホイルトラップ３を挿入し、蓋部材２１を容器１０に固定する。
中間集光点の位置を、露光機２０に対して所定の位置にするためには、放電部集光鏡ユニット１９を、チャンバ１０の所定の位置に取り付けなければならない。そのため、チャンバ１０には、図２に示すように蓋部材２１の位置を決めるガイド２８が設けられており、蓋部材２１はこのガイド２８にはめ込まれて固定される。
放電部集光鏡ユニット１９の光軸方向の位置は、容器１０（チャンバ）と蓋部材２１とが接する面で決まり、また、放電部集光鏡ユニット１９の光軸に対して直交する方向の位置は、容器１０（チャンバ）に設けられたガイド２８と蓋部材２１の供め合いにより決まる。これにより、放電部集光鏡ユニット１９はチャンバ１０に対して所定の位置に位置決めされ、したがって、中間集光点の位置が、露光機２０に対して所定の位置に決まる。
このようにして、蓋部材２１に対して放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２の位置調整がなされた放電部集光鏡ユニット１９を、チャンバ１０に取り付ける。
すなわち、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡側を、容器１０（チャンバ）の開口に向け、チャンバ１０の中に集光鏡２およびホイルトラップ３を挿入し、蓋部材２１を容器１０に固定する。
中間集光点の位置を、露光機２０に対して所定の位置にするためには、放電部集光鏡ユニット１９を、チャンバ１０の所定の位置に取り付けなければならない。そのため、チャンバ１０には、図２に示すように蓋部材２１の位置を決めるガイド２８が設けられており、蓋部材２１はこのガイド２８にはめ込まれて固定される。
放電部集光鏡ユニット１９の光軸方向の位置は、容器１０（チャンバ）と蓋部材２１とが接する面で決まり、また、放電部集光鏡ユニット１９の光軸に対して直交する方向の位置は、容器１０（チャンバ）に設けられたガイド２８と蓋部材２１の供め合いにより決まる。これにより、放電部集光鏡ユニット１９はチャンバ１０に対して所定の位置に位置決めされ、したがって、中間集光点の位置が、露光機２０に対して所定の位置に決まる。
図１〜図２の実施例では、図３（ａ）に示すように、２本の支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を支柱２５によりホイルトラップ支持構造体２３に取りつける構造を示したが、図３（ｂ）〜（ｄ）に示すように蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３と集光鏡支持構造体２２を取り付けるようにしてもよい。
図３（ｂ）は、１本の支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を支柱２５によりホイルトラップ支持構造体２３に取りつけた場合を示し、図３（ｃ）は、支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を支柱２５により蓋部材２１に取りつけた場合を示す。また、図３（ｄ）はホイルトラップ支持構造体２３に貫通穴２９を設け、支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を上記貫通穴２９を介して、支柱２５により蓋部材２１に取りつけた場合を示す。
図３（ｂ）は、１本の支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を支柱２５によりホイルトラップ支持構造体２３に取りつけた場合を示し、図３（ｃ）は、支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を支柱２５により蓋部材２１に取りつけた場合を示す。また、図３（ｄ）はホイルトラップ支持構造体２３に貫通穴２９を設け、支柱２６により蓋部材２１にホイルトラップ支持構造体２３を取り付け、集光鏡支持構造体２２を上記貫通穴２９を介して、支柱２５により蓋部材２１に取りつけた場合を示す。
図４は放電部集光鏡ユニット１９の取り外し／取り付け手順を説明するである。同図は、ＥＵＶ光源装置が台３５上に横向きに配置され、ＥＵＶ光源装置のＥＵＶ光取出部７の右側には露光機側光学系２０が配置されており、放電部集光鏡ユニット１９を露光機側光学系２０が設置された側の反対側から横方向に引き出す場合を示している。
図４を用いて、本実施例のＥＵＶ光源装置の保守作業の手順を説明する。
（１）ＥＵＶ光源装置の動作を停止する。
（２）蓋部材２１を容器１０（チャンバ）に固定しているねじ２７を取り外す。また、放電部材１８に接続されている原料供給ユニット１４からの配管（原料導入管１４ａ）や、高電圧パルス電源１５からの配線を取り外す。
（３）図４（ａ）に示すように、蓋部材２１を、放電部材１８が取り付けられている側に直線移動させることにより、容器１０（チャンバ）から、集光鏡２およびホイルトラップ３を引き抜く。放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２は、放電部集光鏡ユニット１９の一式として、容器１０（チャンバ）から取り外される。
なお、放電部集光鏡ユニット１９の下側には車輪４１が取り付けられ、また、ＥＵＶ光源装置の放電部集光鏡ユニット１９の移動する方向には、上記車輪が乗るレール４２が設けられている。このレール４２は、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡２等が、容器１０から完全に引き出せるまで伸びている。
図４を用いて、本実施例のＥＵＶ光源装置の保守作業の手順を説明する。
（１）ＥＵＶ光源装置の動作を停止する。
（２）蓋部材２１を容器１０（チャンバ）に固定しているねじ２７を取り外す。また、放電部材１８に接続されている原料供給ユニット１４からの配管（原料導入管１４ａ）や、高電圧パルス電源１５からの配線を取り外す。
（３）図４（ａ）に示すように、蓋部材２１を、放電部材１８が取り付けられている側に直線移動させることにより、容器１０（チャンバ）から、集光鏡２およびホイルトラップ３を引き抜く。放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２は、放電部集光鏡ユニット１９の一式として、容器１０（チャンバ）から取り外される。
なお、放電部集光鏡ユニット１９の下側には車輪４１が取り付けられ、また、ＥＵＶ光源装置の放電部集光鏡ユニット１９の移動する方向には、上記車輪が乗るレール４２が設けられている。このレール４２は、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡２等が、容器１０から完全に引き出せるまで伸びている。
また、放電部材１８と、ホイルトラップ３および集光鏡２とでは、通常、集光鏡２側のほうが重くなるので、バランスを取るために、放電部材１８側には重り４３がつけられ、放電部集光鏡ユニット１９が引き出したり、移動したりしやすいようになっている。なお、この重りは、蓋部材２１の周辺部に放電部材１８を取り囲むように円環状に設けると、放電部材１８への配管や配線の邪魔にならない。また、この重り４３は、放電部集光鏡ユニット１９に常時取り付けられていてもよいし、放電部集光鏡ユニット１９を取り外し、取り付けする際に取り付けるようにしてもよい。
また、レール４２の延びる先には、容器１０から取り外した放電部集光鏡ユニット１９を載せる台車４４が設けられている。
また、レール４２の延びる先には、容器１０から取り外した放電部集光鏡ユニット１９を載せる台車４４が設けられている。
（４）図４（ｂ）に示すように、容器１０（チャンバ）から取り外した放電部集光鏡ユニット１９を、レール４２に沿ってレール４２の先の台車４４にまで移動させる。
（５）図４（ｃ）に示すように、放電部集光鏡ユニット１９を台車４４に載せ、台車４４を放電部材１８や集光鏡２の交換作業が行ないやすい位置に移動させる。
（６）蓋部材２１から放電部材１８または集光鏡２あるいはその両方を取り外して交換し、放電部材１８と集光鏡２の位置合わせを行なう。もしくは、あらかじめ工場で、蓋部材２１に放電部材１８と集光鏡２およびホイルトラップ３を取り付け、各部の位置調整を済ませた新しい放電部集光鏡ユニット１９と交換する。
（７）図４（ｃ）から図４（ｂ）に示すように、交換した放電部集光鏡ユニット１９を、台車を使ってＥＵＶ光源装置にまで運ぶ。放電部集光鏡ユニット１９をレール４２に沿って、容器１０にまで移動させる。
（８）図４（ａ）に示すように、集光鏡２等を容器１０内に挿入し、蓋部材２１をねじ止めして容器１０に固定する。以上で放電部材１８および集光鏡２との交換が終了する。
なお、以上では、ＥＵＶ光源装置が横向きに配置され、放電部集光鏡ユニット１９を横方向に引き出す場合について説明したが、ＥＵＶ光源装置が縦方向（下側にＥＵＶ光を放射）に配置されている場合にも、引き出し挿入方向が上下方向になるが、同様に放電部集光鏡ユニット１９を交換することが可能である。
（５）図４（ｃ）に示すように、放電部集光鏡ユニット１９を台車４４に載せ、台車４４を放電部材１８や集光鏡２の交換作業が行ないやすい位置に移動させる。
（６）蓋部材２１から放電部材１８または集光鏡２あるいはその両方を取り外して交換し、放電部材１８と集光鏡２の位置合わせを行なう。もしくは、あらかじめ工場で、蓋部材２１に放電部材１８と集光鏡２およびホイルトラップ３を取り付け、各部の位置調整を済ませた新しい放電部集光鏡ユニット１９と交換する。
（７）図４（ｃ）から図４（ｂ）に示すように、交換した放電部集光鏡ユニット１９を、台車を使ってＥＵＶ光源装置にまで運ぶ。放電部集光鏡ユニット１９をレール４２に沿って、容器１０にまで移動させる。
（８）図４（ａ）に示すように、集光鏡２等を容器１０内に挿入し、蓋部材２１をねじ止めして容器１０に固定する。以上で放電部材１８および集光鏡２との交換が終了する。
なお、以上では、ＥＵＶ光源装置が横向きに配置され、放電部集光鏡ユニット１９を横方向に引き出す場合について説明したが、ＥＵＶ光源装置が縦方向（下側にＥＵＶ光を放射）に配置されている場合にも、引き出し挿入方向が上下方向になるが、同様に放電部集光鏡ユニット１９を交換することが可能である。
なお、本発明の構造は、放電部の主放電電極が、放電時回転するように構成されたものについても適用できる。
図５、図６は、主放電電極が放電時回転するように構成されたＥＵＶ光源装置に本発明を適用した本発明の第２の実施例を示す図である。
図５は、図２と同様方向から見た側断面図、図６は図５の平面図（図５のＡ−Ａ断面図）である。第１の主放電電極と第２の主放電電極は、水平方向に並んで配置されているので、図５においては、一方の電極（第１の主放電電極）しか見えない。
なお、図５、図６では、容器、放電部材、ホイルトラップ、集光鏡等の部分について示しているが、本実施例のＥＵＶ光源装置の全体構成は前記図１と同じであり、主放電電極が回転する点を除き、その動作も前記第１の実施例で説明したのと同様である。
図５、図６において、前記第１の実施例と同様、チャンバ１０（容器）は、光取出部７がある面に対向する面に開口を有し、また、この開口を覆う蓋部材２１を備える。この蓋部材２１は、容器１０に対して着脱可能であり、ねじ止めにより容器１０に固定される。この蓋部材２１を、一種の基準部材として、放電部材１８、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３が取り付けられ、これらで放電部集光鏡ユニット１９を構成する。
ＥＵＶ集光鏡２とホイルトラップ３の取り付け構造については、前記図３（ａ）〜（ｄ）で説明した第１の実施例と同じであるので、ここでは説明を省略し、以下では主として放電部材１８の取り付け構造について説明する。
図５、図６は、主放電電極が放電時回転するように構成されたＥＵＶ光源装置に本発明を適用した本発明の第２の実施例を示す図である。
図５は、図２と同様方向から見た側断面図、図６は図５の平面図（図５のＡ−Ａ断面図）である。第１の主放電電極と第２の主放電電極は、水平方向に並んで配置されているので、図５においては、一方の電極（第１の主放電電極）しか見えない。
なお、図５、図６では、容器、放電部材、ホイルトラップ、集光鏡等の部分について示しているが、本実施例のＥＵＶ光源装置の全体構成は前記図１と同じであり、主放電電極が回転する点を除き、その動作も前記第１の実施例で説明したのと同様である。
図５、図６において、前記第１の実施例と同様、チャンバ１０（容器）は、光取出部７がある面に対向する面に開口を有し、また、この開口を覆う蓋部材２１を備える。この蓋部材２１は、容器１０に対して着脱可能であり、ねじ止めにより容器１０に固定される。この蓋部材２１を、一種の基準部材として、放電部材１８、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３が取り付けられ、これらで放電部集光鏡ユニット１９を構成する。
ＥＵＶ集光鏡２とホイルトラップ３の取り付け構造については、前記図３（ａ）〜（ｄ）で説明した第１の実施例と同じであるので、ここでは説明を省略し、以下では主として放電部材１８の取り付け構造について説明する。
蓋部材２１には段差を有する貫通孔２４が形成されている。そして、この貫通孔２４の段差に係合する段差を有するフランジ３０が設けられる。
このフランジ３０には、第１および第２の主放電電極３１，３２、それぞれの電極３１，３２を回転させる第１、第２の駆動装置（モータ）３１ａ，３２ａ、それぞれの電極に供給される液体金属を溜める液体金属入れ３４ａ，３４ｂ、それぞれの液体金属入れに電力を供給するための端子３１ｂ，３２ｂが取り付けられる（本実施例では、これらの部材を合わせて放電部材１８という）。
放電部材１８の各部品を取り付けたフランジ３０は、図５、図６の左側から蓋部材２１に挿入され、フランジ３０の段差と貫通孔２４の段差とが係合して蓋部材２１に対する放電部材１８の位置が決まった状態で、固定される。
フランジ３０の位置は、光軸方向についても、光軸に直交する方向についても、蓋部材２１の貫通孔２４に形成された段差との嵌め合いにより、蓋部材２１に対して機械寸法公差で位置が決まる。
このフランジ３０には、第１および第２の主放電電極３１，３２、それぞれの電極３１，３２を回転させる第１、第２の駆動装置（モータ）３１ａ，３２ａ、それぞれの電極に供給される液体金属を溜める液体金属入れ３４ａ，３４ｂ、それぞれの液体金属入れに電力を供給するための端子３１ｂ，３２ｂが取り付けられる（本実施例では、これらの部材を合わせて放電部材１８という）。
放電部材１８の各部品を取り付けたフランジ３０は、図５、図６の左側から蓋部材２１に挿入され、フランジ３０の段差と貫通孔２４の段差とが係合して蓋部材２１に対する放電部材１８の位置が決まった状態で、固定される。
フランジ３０の位置は、光軸方向についても、光軸に直交する方向についても、蓋部材２１の貫通孔２４に形成された段差との嵌め合いにより、蓋部材２１に対して機械寸法公差で位置が決まる。
第１および第２の主放電電極３１，３２は円盤状であり、それぞれの電極３１，３２の中心に回転軸３１ｃ，３２ｃが取り付けられている。回転軸３１ｃ，３２ｃは、第１、第２の駆動装置（モータ）３１ａ，３２ａの回転軸に連結され、第１、第２の駆動装置（モータ）３１ａ，３２ａが駆動することにより電極が回転する。なお、回転軸３１ｃ，３２ｃの途中に絶縁材３３が介挿され、電極３１，３２が設けられた部分と、第１、第２の駆動装置３１ａ，３２ａが連結された部分を電気的に絶縁している。
円盤状の第１および第２の主放電電極３１，３２の一部は、液体金属入れ３４ａ，３４ｂに溜められた液化した液体金属３５（ＥＵＶ光発生種の金属、例えば液体スズ）に浸かっている。また、第１および第２の主放電電極３１，３２への電力の供給は、この液体金属３５を介して行なわれる。
第１および第２の主放電電極３１，３２が回転することにより、液体状のＥＵＶ光発生種の金属が、両方の主放電電極３１，３２の周辺部に供給される。
円盤状の第１および第２の主放電電極３１，３２の一部は、液体金属入れ３４ａ，３４ｂに溜められた液化した液体金属３５（ＥＵＶ光発生種の金属、例えば液体スズ）に浸かっている。また、第１および第２の主放電電極３１，３２への電力の供給は、この液体金属３５を介して行なわれる。
第１および第２の主放電電極３１，３２が回転することにより、液体状のＥＵＶ光発生種の金属が、両方の主放電電極３１，３２の周辺部に供給される。
図５、図６に示したＥＵＶ光源装置においては、以下のようにしてＥＵＶを放射する高温プラズマを発生させる。
両電電極が最も接近する位置において、電極周辺部に供給された金属に対し、不図示のレーザ照射装置からレーザを照射する。また、高電圧パルス発生部１５から、両電極３１，３２間にパルス電圧を印加する。すなわち、高電圧パルス発生部１５が出力するパルス電圧は、第１の電極電流導入端子３１ｂ、液体金属入れ３４ａ、液体金属３５の経路、および第２の電極電流導入端子３２ｂ、液体金属入れ３４ｂ、液体金属３５、第２の主放電電極３２の経路で、第１、第２の主放電電極３１，３２に印加される。
電極周辺部の金属は上記レーザ照射により気化し、第１および第２の主放電電極３１，３２間に高電圧パルスを印加することで、第１および第２の主放電電極３１，３２間で放電が生じ、気化した金属ガスによる高温プラズマが発生する。
両電電極が最も接近する位置において、電極周辺部に供給された金属に対し、不図示のレーザ照射装置からレーザを照射する。また、高電圧パルス発生部１５から、両電極３１，３２間にパルス電圧を印加する。すなわち、高電圧パルス発生部１５が出力するパルス電圧は、第１の電極電流導入端子３１ｂ、液体金属入れ３４ａ、液体金属３５の経路、および第２の電極電流導入端子３２ｂ、液体金属入れ３４ｂ、液体金属３５、第２の主放電電極３２の経路で、第１、第２の主放電電極３１，３２に印加される。
電極周辺部の金属は上記レーザ照射により気化し、第１および第２の主放電電極３１，３２間に高電圧パルスを印加することで、第１および第２の主放電電極３１，３２間で放電が生じ、気化した金属ガスによる高温プラズマが発生する。
本実施例のＥＵＶ光源装置においても、前記実施例と同様、放電部集光鏡ユニット１９の状態で、放電部材１８の光軸と、集光鏡２の光軸とを一致させることができ、また、放電部材１８に対する集光鏡２の光軸方向の位置も調整でき、放電部材１８に対する中間集光点の位置を、決めることができる。
このようにして、蓋部材２１に対して放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２の位置調整がなされた放電部集光鏡ユニット１９は、前述したように、チャンバ１０に取り付けられる。また、その取り外し／取り付けは前記図４で説明したのと同様の手順で行なうことができる。
このようにして、蓋部材２１に対して放電部材１８、ホイルトラップ３、集光鏡２の位置調整がなされた放電部集光鏡ユニット１９は、前述したように、チャンバ１０に取り付けられる。また、その取り外し／取り付けは前記図４で説明したのと同様の手順で行なうことができる。
１ 放電部
２ ＥＵＶ集光鏡
３ ホイルトラップ
７ ＥＵＶ光取出部
１０ チャンバ
１１ 第１の主放電電極（カソード）
１２ 第２の主放電電極（アノード）
１３ 絶縁材１３
１４ 原料供給ユニット
１５ 高電圧パルス発生部
１８ 放電部材
１９ 放電部集光鏡ユニット
２０ 露光機
２１ 蓋部材
２２ 集光鏡支持構造体
２３ ホイルトラップ支持構造体
２４ 段差を有する貫通孔
２５，２６ 支柱
２７ ねじ
２８ ガイド
３０ フランジ
３１ 第１の主放電電極
３２ 第２の主放電電極
３３ 絶縁材
３１ａ，３１ｂ 駆動装置
３１ｂ，３２ｂ 端子
３４ａ，３４ｂ 液体金属入れ、
３５ 液体金属
４１ 車輪
４２ レール
４３ 重り
４４ 台車
２ ＥＵＶ集光鏡
３ ホイルトラップ
７ ＥＵＶ光取出部
１０ チャンバ
１１ 第１の主放電電極（カソード）
１２ 第２の主放電電極（アノード）
１３ 絶縁材１３
１４ 原料供給ユニット
１５ 高電圧パルス発生部
１８ 放電部材
１９ 放電部集光鏡ユニット
２０ 露光機
２１ 蓋部材
２２ 集光鏡支持構造体
２３ ホイルトラップ支持構造体
２４ 段差を有する貫通孔
２５，２６ 支柱
２７ ねじ
２８ ガイド
３０ フランジ
３１ 第１の主放電電極
３２ 第２の主放電電極
３３ 絶縁材
３１ａ，３１ｂ 駆動装置
３１ｂ，３２ｂ 端子
３４ａ，３４ｂ 液体金属入れ、
３５ 液体金属
４１ 車輪
４２ レール
４３ 重り
４４ 台車
Claims (2)
- 容器と、
上記容器内に極端紫外光放射種を供給する極端紫外光放射種供給手段と、
上記極端紫外光放射種を加熱して励起し高温プラズマを発生させる一対の主放電電極からなる放電部材と、
上記高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光鏡と、
上記集光された光を取り出す、上記容器に形成された光取り出し部と、
上記容器内を排気し、容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた極端紫外光光源装置において、
上記容器の一面に開口が設けられ、その開口には、着脱可能な蓋部材が設けられ、
上記蓋部材には前記放電部材と集光鏡が取り付けられ、
上記蓋部材を取り外すことにより、放電部材と集光鏡が蓋部材と一体で容器から取り出される
ことを特徴とする極端紫外光光源装置。 - 上記蓋部材には、高温プラズマから生じるデブリが集光鏡の方向に飛散するのを防ぐホイルトラップが支持されている
ことを特徴とする請求項１に記載の極端紫外光光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006290901A JP2008108599A (ja) | 2006-10-26 | 2006-10-26 | 極端紫外光光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006290901A JP2008108599A (ja) | 2006-10-26 | 2006-10-26 | 極端紫外光光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008108599A true JP2008108599A (ja) | 2008-05-08 |
Family
ID=39441767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006290901A Pending JP2008108599A (ja) | 2006-10-26 | 2006-10-26 | 極端紫外光光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008108599A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008118020A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用コレクタミラー交換装置及び交換方法 |
| JP2010062379A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Ushio Inc | 集光反射鏡ユニット及び極端紫外光光源装置 |
| JP2010080941A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-04-08 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| JP2010177577A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Toshiba Corp | 極端紫外光光源装置及びその調整方法 |
| JP2011029587A (ja) * | 2009-01-14 | 2011-02-10 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源システム |
| JP2015531887A (ja) * | 2012-08-13 | 2015-11-05 | トルンプフ レーザーシステムズ フォー セミコンダクター マニュファクチャリング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＴＲＵＭＰＦ Ｌａｓｅｒｓｙｓｔｅｍｓ ｆｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ ＧｍｂＨ | 光学アッセンブリ、光学モジュール及びハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法 |
| WO2018092227A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法 |
| WO2018229855A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
-
2006
- 2006-10-26 JP JP2006290901A patent/JP2008108599A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008118020A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用コレクタミラー交換装置及び交換方法 |
| US8477412B2 (en) | 2006-11-07 | 2013-07-02 | Gigaphoton Inc. | Collector mirror exchanging apparatus and method for extreme ultraviolet light source apparatus |
| US8804902B2 (en) | 2006-11-07 | 2014-08-12 | Gigaphoton Inc. | Collector mirror exchanging apparatus and method for extreme ultraviolet light source apparatus |
| US9052615B2 (en) | 2008-08-29 | 2015-06-09 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| JP2010080941A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-04-08 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| US9429847B2 (en) | 2008-08-29 | 2016-08-30 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| US9332625B2 (en) | 2008-08-29 | 2016-05-03 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| JP2010062379A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Ushio Inc | 集光反射鏡ユニット及び極端紫外光光源装置 |
| JP2011029587A (ja) * | 2009-01-14 | 2011-02-10 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源システム |
| US8067757B2 (en) | 2009-01-30 | 2011-11-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Extreme ultraviolet light source apparatus and method of adjusting the same |
| JP2010177577A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Toshiba Corp | 極端紫外光光源装置及びその調整方法 |
| JP2015531887A (ja) * | 2012-08-13 | 2015-11-05 | トルンプフ レーザーシステムズ フォー セミコンダクター マニュファクチャリング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＴＲＵＭＰＦ Ｌａｓｅｒｓｙｓｔｅｍｓ ｆｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ ＧｍｂＨ | 光学アッセンブリ、光学モジュール及びハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法 |
| WO2018092227A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法 |
| US10698316B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-06-30 | Gigaphoton Inc. | Target generation device replacement trolley, target generation device replacement system, and target generation device replacement method |
| WO2018229855A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
| US10813206B2 (en) | 2017-06-13 | 2020-10-20 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generation apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4904809B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2008108599A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| US9000404B2 (en) | Systems and methods for optics cleaning in an EUV light source | |
| JP5076349B2 (ja) | 極端紫外光集光鏡および極端紫外光光源装置 | |
| US7641349B1 (en) | Systems and methods for collector mirror temperature control using direct contact heat transfer | |
| JP2007005542A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP5355115B2 (ja) | 極端紫外光光源装置及びその調整方法 | |
| JP2007134166A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2008041742A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2007200919A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP5103976B2 (ja) | ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた極端紫外光光源装置 | |
| EP2170020B1 (en) | Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet radiation | |
| JP4618013B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP4893730B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2007305908A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP5504673B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP6075096B2 (ja) | ホイルトラップおよびこのホイルトラップを用いた光源装置 | |
| JP4956825B2 (ja) | 反射鏡、その製造方法、そのクリーニング方法及び光源装置 | |
| JP4973425B2 (ja) | 極端紫外光光源装置における集光光学手段のクリーニング方法及び極端紫外光光源装置 | |
| JP5034362B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2008053696A (ja) | 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法 | |
| WO2021251046A1 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP2007129103A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
| JP5176794B2 (ja) | 集光反射鏡ユニット及び極端紫外光光源装置 | |
| JP2009032776A (ja) | 極端紫外光光源装置及び極端紫外光光源装置における高速粒子の捕捉方法 |