JPWO2017017834A1 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1.極端紫外光生成システムの全体説明
1.1 構成
1.2 動作
2.用語の説明
3.比較例に係るEUV光生成装置
3.1 構成
3.2 動作
3.3 課題
4.筒状部材を備えたEUV光生成装置
4.1 構成及び動作
4.2 効果
5.ターゲット供給部の移動機構を備えたEUV光生成装置
6.筒状部材をターゲット供給部に固定したEUV光生成装置
7.筒状部材の内側にパージガスを供給するEUV光生成装置
8.筒状部材の内側にエッチングガスを供給するEUV光生成装置
1.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2及びターゲット供給部26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部26から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照に、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過して、チャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33としてターゲット27に照射されてもよい。
ターゲットの「軌道」は、ターゲット供給部から出力されるターゲットの理想的な経路、あるいは、ターゲット供給部の設計に従ったターゲットの経路とする。
ターゲットの「軌跡」は、ターゲット供給部から出力されたターゲットの実際の経路とする。
「プラズマ生成領域」は、ターゲットにパルスレーザ光が照射されることによってプラズマの生成が開始される領域とする。プラズマ生成領域は、本開示における所定領域に相当し得る。
3.1 構成
図2は、本開示の比較例に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図2に示されるように、チャンバ2aは、チャンバ保持部材10によって、重力方向に対して斜めの姿勢に保持されていてもよい。図2に示されるように、EUV光の出力方向をZ方向としてもよい。ターゲットの出力方向をY方向としてもよい。Z方向とY方向との両方に垂直な方向をX方向としてもよい。チャンバ2aの外部には、保持部36と、エッチングガス供給装置50と、排気装置59と、接続部29aと、が設けられていてもよい。
シールド部材7には、液体の冷媒を通過させる流路71が形成されていてもよい。冷媒は水でもよい。流路71は、図示しないポンプと熱交換機とに接続されていてもよい。
エッチングガス供給装置50は、チャンバ2aの内部にエッチングガスを供給してもよい。排気装置59は、チャンバ2aの内部が大気圧未満の所定の圧力となるようにチャンバ2aの内部のガスを排気してもよい。従って、エッチングガスをチャンバ2aの内部に導入する接続ポート52から、チャンバ2aの内部のガスを排気する排気装置59に向けて、チャンバ2aの内部にガスの流れが発生してもよい。チャンバ2aの内部に発生するガスの流れは、シールド部材7の内側を通るガスの流れ(図示せず)の他に、図2に一点鎖線の矢印で示されるようなシールド部材7の外側を通るガスの流れを含んでもよい。
図3は、図2に示されるターゲットの軌道を拡大して示す斜視図である。ターゲット供給部26aとプラズマ生成領域25とを結ぶターゲットの軌道Aには、シールド部材7の貫通孔70と、ターゲットセンサ4aによる検出領域41とが位置していてもよい。ターゲットセンサ4aは、照明装置40と、受光装置44と、を含んでもよい。照明装置40は、検出領域41を照明する位置に配置されてもよい。受光装置44は、照明装置40から出力されて検出領域41を通過した光を受光する位置に配置されてもよい。
4.1 構成及び動作
図4は、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図4に示されるように、筒状部材60aが、ターゲット供給部26aからプラズマ生成領域25までのターゲットの軌道のうち、シールド部材7の貫通孔70よりも上流側の少なくとも一部を囲んで配置されてもよい。チャンバ2aの貫通孔20の周囲に、筒状部材60aの一端が固定されてもよい。筒状部材60aの他端は、シールド部材7の貫通孔70の近傍に位置していてもよい。筒状部材60aは、シールド部材7との間に隙間を有していてもよい。
筒状部材の断面形状は、円形状又は四角形状に限られず、他の形状でもよい。
第1の実施形態によれば、ターゲット供給部26aから出力されたターゲット27は、チャンバ2aの内部のシールド部材7より外側のガスの流れには晒されることなく、筒状部材60a又は60bの内側を通過することができる。従って、チャンバ2aの内部におけるガスの流れの変化によってターゲット27の軌跡が変動することが抑制され得る。
図7は、本開示の第2の実施形態に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図7に示されるように、ターゲット供給部26aは、XZステージ37を介して保持部36に保持されてもよい。図7には示されていないターゲットセンサ4aは、ターゲットの軌跡も検出できるように構成されてもよい。XZステージ37は、X方向及びZ方向のいずれにも、ターゲット供給部26aを移動させることができるように構成されてもよい。XZステージ37がターゲット供給部26aを移動させることにより、ターゲットの軌道が変更されてもよい。XZステージ37は、本開示における軌道調整機構に相当し得る。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図8は、本開示の第3の実施形態に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図8に示されるように、筒状部材60cは、ターゲット供給部26aに固定されてもよい。筒状部材60cは、チャンバ2aに固定されなくてもよい。筒状部材60cは、チャンバ2aの貫通孔20の径よりも小さい径を有し、チャンバ2aとの間に隙間を有していてもよい。筒状部材60cは、図5A又は図5Bに示されるようなフランジ部61を有しなくてもよい。
他の点については、第2の実施形態と同様でよい。
図9は、本開示の第4の実施形態に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図9に示されるように、第4の実施形態は、パージガス供給装置55をさらに備えていてもよい。パージガス供給装置55は、パージガスを収容した図示しないボンベと、図示しないマスフローコントローラ又は開閉弁とを含んでもよい。パージガスは、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガスを含んでもよい。パージガスは、水素あるいはその他ハロゲンガスを含んでもよい。パージガスはエッチングガスであってもよい。パージガス供給装置55には、配管56が接続されていてもよい。配管56は、ターゲット供給部26aを保持する保持部36に接続されていてもよい。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図11は、本開示の第6の実施形態に係るEUV光生成装置の構成を概略的に示す。図11に示されるように、第6の実施形態においては、エッチングガス供給装置50に接続された配管53が、保持部36に接続されていてもよい。
従って、第6の実施形態においては、保持部36の内部及び筒状部材60の内側に、パージガスではなくエッチングガスが供給されてもよい。
他の点については、第4又は第5の実施形態と同様でよい。
Claims (8)
- パルスレーザ光が入射するための第1の貫通孔を有するチャンバと、
前記チャンバに保持され、前記チャンバの内部の所定領域に向けてターゲットを出力するターゲット供給部と、
前記チャンバの内部において前記所定領域を囲んで配置され、前記ターゲット供給部から出力された前記ターゲットを前記所定領域に向けて通過させるターゲット通路を有するシールド部材と、
前記ターゲット供給部から前記所定領域までの前記ターゲットの軌道のうち、前記ターゲット通路よりも上流側の少なくとも一部を囲んで配置された筒状部材と、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記チャンバの内部であって前記シールド部材の外側の空間にガスを供給する第1のガス供給装置をさらに備える
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記筒状部材の内側にガスを供給する第2のガス供給装置をさらに備える
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記筒状部材は、前記シールド部材との間に間隔をあけて、前記チャンバに固定されている、
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記筒状部材は、前記シールド部材との間に間隔をあけて、前記ターゲット供給部に固定されている、
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲットの軌道を、前記軌道に対して略垂直な第1方向と、前記軌道及び前記第1方向の両方に略垂直な第2方向と、に調整可能に構成された軌道調整機構をさらに備え、
前記筒状部材は、矩形状の断面を有し、前記矩形状の断面が、前記第1方向に略平行な第1及び第3の辺と、前記第2の方向に略平行な第2及び第4の辺と、を有する、
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記所定領域で生成された極端紫外光を反射して集光する集光ミラーをさらに備え、
前記シールド部材は、前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光路を囲んで配置された、
請求項1記載の極端紫外光生成装置。 - 前記所定領域で生成された極端紫外光を反射して集光する集光ミラーをさらに備え、
前記筒状部材は、前記集光ミラーによって反射された極端紫外光の光路の外側に位置する、
請求項1記載の極端紫外光生成装置。
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