JP2013182864A - ターゲット供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このターゲット供給装置は、液体のターゲット物質を内部に収容するための容器と、容器に収容された液体のターゲット物質に電気的に接続された第1電極と、容器に収容された液体のターゲット物質を放出するための貫通孔が形成されたノズル部と、第1電極に第1の電位を印加するための第1電源と、第1電極に電気的に接続され、前記第1電極の電位変動を抑制するように構成された回路と、ノズル部の前記貫通孔に対向して配置された第2電極と、第2電極に、前記第1の電位と異なる第2の電位を印加するための第2電源と、を備えてもよい。
【選択図】図3A
Description
1.概要
2.極端紫外光生成システムの全体説明
2.1 構成
2.2 動作
3.電位変動抑制回路を有するターゲット供給装置
3.1 構成
3.2 動作
3.3 電位変動抑制回路の例
4.第3電極を含むターゲット供給装置
5.リザーバの全体を遮蔽するカバーが設けられたターゲット供給装置
5.1 構成
5.2 動作
6.電位変動抑制回路をリザーバに接続したターゲット供給装置
LPP式のEUV光生成装置においては、ターゲット供給装置がターゲットを出力し、プラズマ生成領域に到達させてもよい。ターゲットがプラズマ生成領域に到達した時点で、ターゲットにパルスレーザ光を照射することで、ターゲットがプラズマ化し、このプラズマからEUV光が放射され得る。
2.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給装置26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給装置26から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照に、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
3.1 構成
図2は、第1の実施形態に係るターゲット供給装置を含むEUV光生成装置の構成を示す一部断面図である。図3Aは、図2に示すターゲット供給装置及びその周辺部を示す一部断面図である。図3Bは、図2に示すターゲット供給装置において電極に印加する電位を示す波形図である。
不活性ガスボンベ54は、不活性ガスを供給するための配管によって圧力調節器53に接続されていてもよい。圧力調節器53は、さらに、不活性ガスを供給するための配管によってリザーバ61の内部と連通してもよい。
圧力調節器53は、ターゲット制御部52から出力される制御信号に応じて、不活性ガスボンベ54から供給される不活性ガスの圧力を調整してもよい。リザーバ61内部へ導入された不活性ガスは、リザーバ61内の溶融したターゲット物質を加圧してもよい。不活性ガスがターゲット物質を加圧することにより、ノズル板62の貫通孔が開口する先端部62bからターゲット物質を僅かに突出させてもよい。
なお、チャンバ2の壁は、一定の電位P0に電気的に接続されていてもよい。一定の電位P0は、接地電位(0V)であってもよい。
図4は、第1の実施形態に係るターゲット供給装置において用いられる電位変動抑制回路の1つの例を示す等価回路図である。図4において、第1電極63に接触した液体のターゲット物質と、電位P0に接続されたチャンバ2の壁との間が、電気的に絶縁されているので、ターゲット供給装置26は等価回路である1つのコンデンサとして表されている。
図6Aは、第2の実施形態に係るターゲット供給装置及びその周辺部を示す一部断面図である。図6Bは、図6Aに示すターゲット供給装置において電極に印加する電位を示す波形図である。第2の実施形態においては、リザーバ61が、ターゲット物質と反応しにくく、且つ導電性を有する材料、例えば、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の材料によって構成されてもよい。また、第2電極66に対してターゲット27の進行方向下流側の位置に、第3電極(加速電極)67が設けられてもよい。第3電極67は、電気絶縁部材65の内側に保持されてもよい。
その他の点に関しては、第1の実施形態と同様でよい。なお、第3電極67は、第1の実施形態に係るターゲット供給装置に含まれていてもよい。
5.1 構成
図7は、第3の実施形態に係るターゲット供給装置及びその周辺部を示す一部断面図である。第3の実施形態において、ターゲット供給装置26は、カバー85と、第4電極(偏向電極)70と、をさらに含んでもよい。
第2電極66の配線は、電気絶縁部材65の貫通孔および中継端子90aを介して、パルス電圧電源58に電気的に接続されてもよい。
ヒーター電源51は、2本の配線により、中継端子90cを介してヒーター64に接続されてもよい。温度センサ73は、2本の配線により、中継端子90cを介して温度制御部56に接続されてもよい。
ターゲット制御部52は、圧力調節器53、DC高圧電源55及びパルス電圧電源58に制御信号を出力するよう構成されてもよい。これにより、ノズル板62から帯電したターゲット27が引き出されて、引き出されたターゲット27が第2電極66の貫通孔66aを通過し得る。第2電極66の貫通孔66aを通過したターゲット27は、第2電極66と接地電位(0V)に接続された第3電極67との間の電界の作用によって加速され、第3電極67の貫通孔67aを通過し得る。
F=QE
ここで、電界Eは、平板電極70aに与えられる電位Paと平板電極70bに与えられる電位Pbとの間の電位差(Pa−Pb)と、それらの電極間のギャップ長Gとによって、次式で表され得る。
E=(Pa−Pb)/G
F=ma (m:ターゲットの質量、a:加速度)
また、ターゲット27が電界から脱出するときのX軸方向速度成分Vxは次式から導かれ得る。
Vx=aL/Vz (L:電極70のZ方向の長さ)
V=(Vz2+Vx2)1/2
このように、電位差(Pa−Pb)を与えてターゲット27の軌道の一部に電界を作用させることによって、ターゲット27の進行方向を変更させてもよい。また、電位差(Pa−Pb)を調節することによって、進行方向の変更量を制御してもよい。この制御により、電界から脱出したターゲット27は、速度Vで移動して、レーザ光が照射される位置に到達し得る。同様に、Y軸方向に関しても、Y軸方向に一対の平板電極を配置し、前記と同様にターゲット27に電界を作用させることによって、ターゲット27の進行方向を制御することが可能である。
その他の点に関しては、第2の実施形態と同様でよい。なお、第4電極70は、第1及び第2の実施形態に係るターゲット供給装置に含まれていてもよい。
図9は、第4の実施形態に係るターゲット供給装置を含むEUV光生成装置の構成を示す一部断面図である。第4の実施形態においては、電位変動抑制回路59dの一方の端子が、導電性を有するリザーバ61に接触して、リザーバ61を介してターゲット物質に電気的に接続されてもよい。
その他の点に関しては、第3の実施形態と同様でよい。
Claims (7)
- 液体のターゲット物質を内部に収容するための容器と、
前記容器に収容された液体のターゲット物質に電気的に接続された第1電極と、
前記容器に収容された液体のターゲット物質を放出するための貫通孔が形成されたノズル部と、
前記第1電極に第1の電位を印加するための第1電源と、
前記第1電極に電気的に接続され、前記第1電極の電位変動を抑制するように構成された回路と、
前記ノズル部の前記貫通孔に対向して配置された第2電極と、
前記第2電極に、前記第1の電位と異なる第2の電位を印加するための第2電源と、
を備えるターゲット供給装置。 - 前記回路は、一方の端子が前記第1電極に電気的に接続され、他方の端子が前記第1の電位と異なる第2の電位に電気的に接続されたコンデンサを含む、請求項1記載のターゲット供給装置。
- 前記回路は、一方の端子が前記第1電極に電気的に接続され、他方の端子が前記第2の電位に電気的に接続された抵抗を更に含む、請求項2記載のターゲット供給装置。
- 前記回路は、前記第1電極と前記第1電源とを電気的に接続する配線を介して前記第1電極に電気的に接続された、請求項1記載のターゲット供給装置。
- 前記容器は導電性の材料を含み、
前記第1電極は前記容器を介して液体のターゲット物質に電気的に接続された、請求項1記載のターゲット供給装置。 - 前記回路は、前記容器を介して前記第1電極に電気的に接続された、請求項5記載のターゲット供給装置。
- 前記ノズル部は導電性の材料を含み、
前記第1電極は前記ノズル部を介して液体のターゲット物質に電気的に接続された、請求項1記載のターゲット供給装置。
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