JP5702164B2 - 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法及びターゲット供給装置 - Google Patents
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Description
Claims (30)
- レーザ光源と共に用いられるチャンバ装置であって、
前記レーザ光源から出力されたレーザ光を内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、
前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の位置にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、
所定条件が成立した場合に、前記タ―ゲット供給部に対してリカバリ動作の実行を指示するリカバリ制御部と、
前記リカバリ制御部からの指示に応じて前記リカバリ動作を実行するリカバリ部と、
前記ターゲット供給部から前記チャンバ内に供給されたターゲット物質の位置を計測する位置計測部と、
を備える、チャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部は、前記ターゲット供給部の起動回数をカウントするカウンタを含み、
前記所定条件は、前記ターゲット供給部の起動回数が所定の起動回数に達したことである、請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部は、リカバリ動作実行からの経過時間を測定するタイマを含み、
前記所定条件は、前回のリカバリ動作の実行から所定の時間が経過したことである、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部は、前記ターゲット物質の出力回数をカウントするカウンタを含み、
前記所定条件は、前記ターゲット物質の出力回数が所定の出力回数に達したことである、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部には、前記位置計測部による計測結果が入力され、
前記所定条件は、前記チャンバ内に供給されたターゲット物質の位置が所定の位置範囲に収まっていないことである、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部は、
前記所定条件が成立した場合、前記リカバリ動作を実行可能な時期であるか否かを判定し、
前記リカバリ動作を実行可能な時期であると判定した場合、前記リカバリ部に前記リカバリ動作の実行を指示する、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ制御部は、
前記リカバリ部が前記ターゲット供給部に対して前記リカバリ動作を実行した後で、前記ターゲット供給部の状態を判定し、
前記ターゲット供給部が正常状態にあると判定した場合、通常モードに移行し、
前記ターゲット供給部が正常状態にないと判定した場合、再度前記リカバリ動作を実行するよう前記リカバリ部に指示する、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部にはノズルが設けられており、
前記リカバリ部は、前記ノズルに設けられる振動子と、前記振動子に接続された電源を含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部にはノズルが設けられており、
前記リカバリ部は、前記ノズルに設けられるヒータと、前記ヒータに接続された電源とを含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部には、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物が設けられ、
前記リカバリ部は、前記中間構造物に設けられるヒータと、前記ヒータに接続された電源とを含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部には、ヒータと、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物とが設けられ、
前記リカバリ部は、前記中間構造物に設けられる加熱パイプと、前記加熱パイプと前記ターゲット供給部内部とを連通させる流路とを含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部には、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物が設けられ、
前記リカバリ部は、前記中間構造物に向けて電磁波を出力する電磁波源を含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部には、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物が設けられ、
前記リカバリ部は、前記中間構造物に設けられる少なくとも1つのガスパイプと、該少なくとも1つのガスパイプに接続されたガス源とを含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部には、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物が設けられ、
前記リカバリ部は、前記中間構造物と前記ターゲット供給部端部との間に配置された少なくとも1つのガスパイプと、該少なくとも1つのガスパイプに接続されたガス源とを含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ターゲット供給部にはノズルが設けられており、
前記リカバリ部は、前記ノズルの周囲に所定の空間を気密に画定するカバー部と、該所定の空間内に不活性ガスを供給するガス供給部と、前記カバー部を開閉させる開閉機構と、を含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記ガス供給部は、前記所定の空間内の圧力を前記ターゲット供給部内部の圧力よりも高くなるように前記所定の空間内にガスを供給する、請求項15記載のチャンバ装置。
- 前記ターゲット供給の内部には異物をトラップするためのトラップが設けられている、請求項15記載のチャンバ装置。
- 前記ターゲット供給部にはノズルが設けられており、
前記リカバリ部は、前記ターゲット供給部の壁部を貫通するよう設けられ、その一端が前記ノズル近傍に延在する吸引管と、該吸引管の他端側に設けられる吸引ポンプと、を含む、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記リカバリ部は、前記他端側に設けられる回収槽をさらに含む、請求項18記載のチャンバ装置。
- 前記ターゲット供給部は、ノズルと、該ターゲット供給部内の圧力を制御する圧力制御部と、該ターゲット供給部内部にガスを供給するガス供給部と、を含む、請求項1記載のチャンバ装置。
- 前記ターゲット供給部には、該ターゲット供給部と前記チャンバ内の前記所定の位置との間に位置するよう配置された中間構造物が設けられ、
前記中間構造物の少なくとも表面は、前記ターゲット物質に対して濡れ性の低い物質から構成された、
請求項1記載のチャンバ装置。 - 前記中間構造物は、重力方向に対して傾いて配置された、請求項21記載のチャンバ装置。
- 前記物質は、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、ステンレス、ダイヤモンド、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニューム、酸化ジルコニューム、ダイヤモンド、酸化珪素、酸化モリブデン、酸化タンタル、および酸化タングステンのいずれかを含む物質である、請求項21記載のチャンバ装置。
- 前記チャンバは、前記ターゲット供給部と該チャンバ内の前記所定の位置との間に移動可能に配置された捕獲部と、前記捕獲部に接続されたモータと、を含む、請求項1記載のチャンバ装置。
- 前記モータは、前記捕獲部を、前記リカバリ動作が実行される際に第1の位置に移動させ、前記リカバリ動作が実行されていない際に第2の位置に移動させる、請求項24記載のチャンバ装置。
- 前記チャンバは、前記チャンバ内で前記ターゲット物質に前記レーザ光が照射されて放射された極端紫外光を集光するコレクタミラーと、前記コレクタミラーの反射面側に移動可能に配置されたミラー保護部と、前記ミラー保護部に接続されたモータと、を含む、請求項1記載のチャンバ装置。
- 前記モータは、前記ミラー保護部を、前記リカバリ動作が実行される際に第3の位置に移動させ、前記リカバリ動作が実行されていない際に第4の位置に移動させる、請求項26記載のチャンバ装置。
- チャンバ、ターゲット供給部、リカバリ制御部、リカバリ部および位置計測部を備えるチャンバ装置において、前記タ―ゲット供給部をメンテナンスする方法であって、
前記ターゲット供給部に対してリカバリ動作を実行するか否かの判定用情報を取得することと、
前記リカバリ動作を実行すると判定された際に、前記リカバリ動作が実行可能なタイミングであるか否かを判定することと、
前記リカバリ動作が実行可能なタイミングであると判定された際に、前記リカバリ制御部が前記リカバリ部に前記リカバリ動作を指示することと、
前記リカバリ部が、前記リカバリ制御部の指示に応じて、所定のリカバリ動作を実行することと、
を含む、ターゲット供給部のメンテナンス方法。 - 前記リカバリ動作は、前記ターゲット供給部に設けられる部材を加熱することを含む、請求項28記載のメンテナンス方法。
- 前記リカバリ動作は、前記ターゲット供給部に不活性ガスを吹きつける、請求項28記載のメンテナンス方法。
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