JP4200894B2 - 露光装置、デバイスの製造方法、及び保守方法 - Google Patents

Description

本発明は、高集積半導体回路素子の製造のためのリソグラフィ工程のうち、転写工程で用いられる露光装置に関する技術である。

半導体素子等を製造するリソグラフィ工程では、種々の露光装置が用いられおり、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）などの逐次移動型の投影露光装置が主流となっている。
このような露光装置においては、半導体メモリの大容量化やＣＰＵプロセッサの高速化・大集積化の進展とともにウエハ上に形成されるレジストパターンの微細化の要求が高まっており、高い露光精度が要求されている。また、露光装置は、デバイスの量産に用いられるものであることから、高いスループットも必然的に要求される。このため、露光波長の短波長化及び投影光学系の開口数（ＮＡ：Numerical Aperture）の増大による解像力向上やウエハの大判化（直径３００ｍｍ，１６インチ等）等によって、露光精度並びにスループットの向上が図られている。これに伴い、投影光学系やステージ装置等を支持するフレーム類が大型化する傾向にある。
特開２００２−３０５１４０号公報

しかしながら、投影光学系やステージ装置等を支持するフレーム類が大型化すると、露光装置の重量が増大し、メンテナンス等の作業性が悪化するという問題がある。すなわち、例えば、投影光学系のメンテナンス等を行う際には、投影光学系の上方に配置されるユニット（マスクステージ等）をフォークリフト等で持ち上げて、露光装置から取り外すことが必要となる場合があるが、フレーム類が大型化・重量化しているため大型フォークリフトが必要となる。このため、露光装置が設置されるクリーンルーム等のように、天井までの高さが十分に確保できない場所での分解作業は、事実上不可能であるという問題がある。また、精密機械である露光装置をフォークリフトで持ち上げるので、フォークリフトの操作に細心の注意を払う必要があり、非常に作業効率が悪いという問題がある。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、露光装置の分解作業等を補助する支持部材を露光装置に設けることにより、メンテナンスの作業性を向上させることができる露光装置を提供することを第１の目的とする。また、該露光装置を用いて、効率よくデバイスを製造することができるデバイス製造装置を提供することを第２の目的とする。また、露光装置の分解作業を容易にし、メンテナンス作業を効率よく行うことができる露光装置の保守方法を提供することを第３の目的とする。

本発明に係る露光装置、デバイスの製造方法、及び保守方法では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第１の発明に係る露光装置は、マスク（Ｒ）から射出された露光光（ＥＬ）を基板（Ｗ）上に照射する投影光学系（３０）を支持する第１支持構造体（１１０）と、第１支持構造体上に立設して第１支持構造体によって支持され、マスクを保持するマスクステージ（２０）を支持する第２支持構造体（１２０）とを備える露光装置（ＥＸ）において、第１支持構造体による支持を解き、第２支持構造体を第１支持構造体から鉛直方向に離間させて支持するために第２支持構造体と当接する支持部材（３００）を備えるようにした。
この発明によれば、第２支持構造体を第１支持構造体から鉛直方向に離間させる際に、第２支持構造体を支持部材で支持することができる。

また、支持部材（３００）が、第１支持構造体（１１０）を防振装置（１５０）を介して支持するベース構造体（２００）上に配置されるものでは、支持部材をベース構造体上に配置する構造とすることにより、支持部材によって第２支持構造体を安定して支持することができる。
また、支持部材（３００）を鉛直方向に移動させるアクチュエータ（４１０）が支持材に着脱可能に連結されるものでは、アクチュエータを必要としない場合には、アクチュエータを外しておくことができる。
また、支持部材（３００）が、第２支持構造体（１２０）を第１支持構造体（１１０）に対して水平移動させるスライド機構（３２０）を備えるものでは、第２支持構造体を支持構造体で支持したまま、容易に水平移動することができる。
また、スライド機構（３２０）による第２支持構造体（１２０）の水平移動を補助する補助装置（４２１，４２２）が支持部材（３００）に着脱可能に連結されるものでは、小さな力で第２支持構造体を水平移動することができる。更に、補助装置を必要としない場合には、補助装置を外しておくことができる。
また、支持部材（３００）が、第１支持構造体（１１０）及び／又は第２支持構造体（１２０）に向けて敷設される配線（３６１）を収納して引き回す収納部（３３０）を備えるものでは、配線を外部から露光装置の各ユニットに接続する場合に、一旦、収納部を経由して這わせることにより、配線を整然と整列させることができる。
また、支持部材（３００）が、配線（３６１）が連結される電気基板（３６２）を収納する筐体（３３０）を支持するものでは、電気基板の発生する熱が熱伝導により第１構造体又は第２構造体に流入するのを回避することができる。
また、筐体（３３０）が、収納した電気基板（３６２）から発生する熱を排出する排出装置（３５３）を有するものでは、筐体の温度上昇が抑えられ、露光装置の温度変化を抑えることができる。
また、筐体（３３０）が、第１支持構造体（１１０）及び／又は第２支持構造体（１２０）と対向する領域（３５１）に、断熱部材（３５２）を備えるものでは、筐体から露光装置への輻射等による熱伝達が抑えられる。

マスク（Ｒ）から射出された露光光（ＥＬ）を基板（Ｗ）上に照射する投影光学系（３０）を支持する第１支持構造体（１１０）と、マスクステージ（２０）を戴置し、第１支持構造体に支持される第２支持構造体（１２０）と、第１支持構造体を防振装置（１５０）を介して支持するベース構造体（２００）と、を備える露光装置（ＥＸ）において、ベース構造体と第２支持構造体との間に配置され、第２支持構造体と当接することにより第１支持構造体に替わって第２支持構造体をベース構造体に対して支持可能である支持部材（３００）を備えるようにした。この発明によれば、第１支持構造体に替わって支持部材により第２支持構造体を安定してベース構造体に対して支持することができる。

また、支持部材（３００）が、第２支持構造体（１２０）をベース構造体（２００）に対して支持する支持力を発生するアクチュエータ（４１０）が脱着可能に取り付けられるものでは、アクチュエータを必要としない場合には、アクチュエータを外しておくことができる。
また、支持部材（３００）が、支持している第２支持構造体を水平方向にスライドさせるスライド機構（３２０）を有するものでは、第２支持構造体を容易に水平移動することができる。

第２の発明に係るデバイス製造方法は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第１の発明の露光装置（ＥＸ）を用いるようにした。この発明によれば、配線を介して外部の振動が伝わりづらく、また、分解作業等のメンテナンスが行いやすくなる。

第３の発明に係る保守方法は、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを投影する投影光学系（３０）と、その投影光学系を支持する第１支持構造体（１１０）と、その第１支持構造体上に立設してマスクを投影光学系に対して支持する第２支持構造体（１２０）と、第１支持構造体を支持するベース構造体（２００）とを有する露光装置（ＥＸ）の保守方法であって、第１構造体と第２構造体とを離間させ、第２構造体を第１構造体とは異なる支持部材（３００）を介してベース構造体上で支持する工程と、ベース構造体で支持している前記第２構造体をベース構造体とは異なる支持台（５００）に受け渡す工程とを有することを特徴とする。これによれば、支持部材を介してベース構造体上で第２構造体を支持し、第１構造体と第２構造体とを離間させることができる。
この場合において、投影光学系を第１構造体から分離する起重装置（６２０）を第１構造体上に戴置する工程と、投影光学系をその起重装置を用いて第１構造体から分離するとともに投影光学系をその起重装置で保持する工程と、投影光学系を保持したその起重装置を第１構造体から退避させる工程とを更に有する保守方法とすることができる。これにより、第２構造体が取り除かれた露光装置の第１構造体から投影光学系を容易に分離することができる。

第４の発明に係る保守方法は、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを投影する投影光学系（３０）と、投影光学系を支持する第１構造体（１１０）とを有する露光装置（ＥＸ）の保守方法であって、投影光学系を第１構造体から分離する起重装置（６２０）を第１構造体上に戴置する工程と、投影光学系をその起重装置を用いて第１構造体から分離するとともに投影光学系をその起重装置で保持する工程と、投影光学系を保持したその起重装置を第１構造体から退避させる工程とを有することを特徴とするものである。これによれば、投影光学系を第１構造体から容易に分離することができる。

本発明によれば以下の効果を得ることができる。
第１の発明は、マスクから射出された露光光を基板上に照射する投影光学系を支持する第１支持構造体と、第１支持構造体上に立設して、マスクを保持するマスクステージを支持する第２支持構造体とを備える露光装置において、第２支持構造体を第１支持構造体から鉛直方向に離間させて支持するために第２支持構造体と当接する支持部材を備えるようにした。これにより、第２支持構造体を第１支持構造体から鉛直方向に離間させる際に、支持部材によって第２支持構造体を支持することができるので、メンテナンス性を向上させることができる。

また、支持部材が、第１支持構造体を防振装置を介して支持するベース構造体上に配置されるようにしたので、支持部材によって第２支持構造体を安定してベース構造体上に支持することができる。
また、支持部材を鉛直方向に移動させるアクチュエータが支持材に着脱可能に連結されるようにしたので、アクチュエータを使用しない場合には外しておくことができ、また、アクチュエータを複数の露光装置で使いまわすことができるので、メンテナンスのための設備費を最小限に抑えることができる。
また、支持部材が、第２支持構造体を第１支持構造体に対して水平移動させるスライド機構を備えるようにしたので、第２支持構造体を容易に水平移動することができ、投影光学系等のメンテナンススペースを確保することができる。
また、スライド機構による第２支持構造体の水平移動を補助する補助装置が支持部材に着脱可能に連結されるようにしたので、小さな力で第２支持構造体を水平移動することができる。また、補助装置を複数の露光装置で使いまわすことができ、メンテナンスのための設備費を最小限に抑えることができる。
また、支持部材が、第１支持構造体及び／又は第２支持構造体に向けて敷設される配線を収納して引き回す収納部を備えるようにしたので、配線を整然と整列させることができ、しかも、配線が収納部を経由するので、外部からの振動が配線を介して露光装置（正確には、本体フレーム）に伝わることを抑制できる。
また、支持部材が、配線が連結される電気基板を収納する筐体を支持するものでは、より配線を整然と整理することができ、また、電気基板の発生する熱が熱伝導により本体フレームに流入するのを回避することができる。
また、筐体が、収納した電気基板から発生する熱を排出する排出装置を有するものでは、筐体の温度上昇が抑えられ、露光装置の温度変化を抑えることができるので、微細なパターンを安定して転写することができる。更に、過熱による電気基板の性能低下を抑えることができる。
また、筐体が、第１支持構造体及び／又は第２支持構造体と対向する領域に、断熱部材を備えるものでは、筐体から露光装置への熱伝達が抑えられるので、微細なパターンを安定して転写することができる。

マスクから射出された露光光を基板上に照射する投影光学系を支持する第１支持構造体と、マスクステージを戴置し、第１支持構造体に支持される第２支持構造体と、第１支持構造体を防振装置を介して支持するベース構造体と、を備える露光装置において、ベース構造体と第２支持構造体との間に配置され、第２支持構造体と当接することにより第１支持構造体に替わって第２支持構造体をベース構造体に対して支持可能である支持部材を備えるようにした。これにより、第２支持構造体を支持部材によってベース構造体に対して支持することができるので、第１支持構造体と第２支持構造体とを分離して支持することができる。

また、支持部材が、第２支持構造体をベース構造体に対して支持する支持力を発生するアクチュエータが脱着可能に取り付けられるものでは、アクチュエータを必要としない場合には、アクチュエータを外しておくことができ、更に、アクチュエータを複数の露光装置で使いまわすことができるので、メンテナンスのための設備費を最小限に抑えることができる。
また、支持部材が、支持している第２支持構造体を水平方向にスライドさせるスライド機構を有するものでは、第２支持構造体を水平移動することができるので、投影光学系等のメンテナンススペースを容易に確保することができる。

第２の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第１の発明の露光装置を用いるようにした。これにより、配線を介して外部の振動が伝わりづらいので、微細なパターンを備えたデバイスを製造することができる。また、メンテナンス作業を行いやすくなるので、露光装置のダウンタイムを最小限に抑えることができ、間接的にデバイスの生産性を向上させることができる。

第３の発明に係る保守方法は、マスクに形成されたパターンを投影する投影光学系と、その投影光学系を支持する第１支持構造体と、その第１支持構造体上に立設してマスクを投影光学系に対して支持する第２支持構造体と、第１支持構造体を支持するベース構造体とを有する露光装置の保守方法であって、第１構造体と第２構造体とを離間させ、第２構造体を第１構造体とは異なる支持部材を介してベース構造体上で支持する工程と、ベース構造体で支持している前記第２構造体をベース構造体とは異なる支持台に受け渡す工程とを有することを特徴とする。これによれば、支持部材を介してベース構造体上で第２構造体を支持し、第１構造体と第２構造体とを離間させることができる。
この場合において、投影光学系を第１構造体から分離する起重装置を第１構造体上に戴置する工程と、投影光学系をその起重装置を用いて第１構造体から分離するとともに投影光学系をその起重装置で保持する工程と、投影光学系を保持したその起重装置を第１構造体から退避させる工程とを更に有する保守方法とすることができる。これにより、第２構造体が取り除かれた露光装置の第１構造体から投影光学系を容易に分離することができる。

第４の発明に係る保守方法は、マスクに形成されたパターンを投影する投影光学系と、投影光学系を支持する第１構造体とを有する露光装置の保守方法であって、投影光学系を第１構造体から分離する起重装置を第１構造体上に戴置する工程と、投影光学系をその起重装置を用いて第１構造体から分離するとともに投影光学系をその起重装置で保持する工程と、投影光学系を保持したその起重装置を第１構造体から退避させる工程とを有することを特徴とするものである。これによれば、投影光学系を第１構造体から容易に分離することができる。

以下、本発明の露光装置及びデバイスの製造方法の実施形態について図を参照して説明する。図１は、露光装置ＥＸの構成を表す模式図、図２は露光装置ＥＸの斜視図、図３は露光装置ＥＸの分解斜視図である。
露光装置ＥＸは、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（基板）Ｗとを一次元方向（ここでは、図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に同期移動しつつ、レチクルに形成された回路パターンを投影光学系３０を介してウエハ上の各ショット領域に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
なお、以下の説明において、投影光学系３０の光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

露光装置ＥＸは、光源５からの照明光によりレチクルを照明する照明光学系１０、レチクルを保持するレチクルステージ２０、レチクルから射出される照明光をウエハ上に投射する投影光学系３０、ウエハを保持するウエハステージシステム４０、レチクルステージ２０と投影光学系３０等を保持する本体フレーム１００、本体フレーム１００及びウエハステージシステム４０を支持する基礎フレーム２００等を備える。
また、基礎フレーム２００の上端には、レチクルステージ２０等に接続する電気ケーブル等を収容するとともに、露光装置ＥＸのメンテナンス（分解作業）時には本体フレーム１００の分解作業（第１架台１１０から第２架台１２０をＺ方向に離間させる作業）を補助する支持部材３００が配置される。

照明光学系１０は、ハウジング１１と、その内部に所定の位置関係で配置されたリレーレンズ系、光路折り曲げ用ミラー、コンデンサレンズ系等から成る光学部品を備える。また、露光装置ＥＸ本体の後部（図１の右側）には、露光装置ＥＸ本体と分離されて、振動の伝達がないように設置された光源５と照明光学系分離部６が配置される。そして、光源５から射出されたレーザビームは、照明光学系分離部６を介して照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状が整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光ＥＬ）となってレチクル上に照射される。
この照明光学系１０は、本体フレーム１００を構成する第２架台１２０の上面に固定された照明系支持部材１２によって支持される。

レチクルステージ（マスクステージ）２０は、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＹ軸方向に所定ストロークで移動するレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等を備える。そして、レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルが真空吸着等により保持される。また、レチクル微動ステージの２次元的な位置及び回転角、並びにレチクル粗動ステージのＹ軸方向の位置は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてレチクルＲの位置及び速度が制御される。
このレチクルステージ２０は、本体フレーム１００を構成する第２架台１２０の上面に不図示の非接触ベアリング（例えば気体静圧軸受）を介して浮上支持される。

投影光学系３０は、物体面側（レチクルＲ側）と像面側（ウエハＷ側）の両方がテレセントリックであり、所定の投影倍率β（βは、例えば１／４）で縮小する縮小系が用いられる。このため、レチクルＲに照明光学系１０から照明光（紫外パルス光）が照射されると、レチクルＲ上に形成されたパターン領域のうちの紫外パルス光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系３０に入射し、そのパターンの部分倒立像が紫外パルス光の各パルス照射の度に投影光学系３０の像面側の視野中央にＹ軸方向に細長いスリット状又は矩形状（多角形）に制限されて結像される。これにより、投影されたパターンの部分倒立像は、投影光学系３０の結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうちの１つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
この投影光学系３０は、本体フレーム１００を構成する第１架台１１０に設けられた穴部１１３に挿入されて、投影光学系３０の外周に形成されたフランジ３１を介して支持される。なお、投影光学系３０と第１架台１１０の間には、キネマティックマウント（不図示）が設けられ、投影光学系３０のあおり角を調整することができる。

ウエハステージシステム４０は、ウエハを保持するウエハホルダと、ウエハホルダと一体にリニアモータ等によりＸ方向に走査移動するとともにＹ方向にステップ移動し、更にθＺ方向に微少移動可能なウエハステージ４１と、ウエハステージ４１を支持する定盤４５とを備える。また、ウエハステージ４１は、ウエハＷのレベリング及びフォーカシングを行うためにＺ軸方向、θＸ方向、及びθＹ方向の３方向の微少移動が可能であり、全体として６自由度を有する。また、ウエハステージシステム４０は、ウエハステージ４１の駆動時に発生する反力をキャンセルするため、ウエハステージ４１とは反対方向に移動するカウンタマス４２（図１には不図示、図２参照）をウエハステージ４１のＸ方向側面に備える。
ウエハステージ４１のＸＹ方向位置及びθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向の回転角は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてウエハステージ４１、ひいてはウエハＷの位置及び速度が制御される。

ウエハステージシステム４０が備える定盤４５は、防振ユニット１６０によって支持される。防振ユニット１６０は、定盤４５を支持するエアマウントと定盤４５を非接触で駆動するアクチュエータとを備える。そして、防振ユニット１６０は、定盤４５に取り付けられた加速度計と定盤４５の位置を非接触で検出する位置センサ（いずれも不図示）と共に、床振動を遮断しつつ定盤４５の位置を制御するアクティブ防振台を構成している。これにより、ウエハステージ４１は基礎フレーム２００から振動的に分離され、能動的に防振支持される。

本体フレーム１００は、図１等に示すように、投影光学系３０等を支持する第１架台１１０と、投影光学系３０の上方に配置されるレチクルステージ２０等を支持する第２架台１２０とから構成される。
第１架台（第１支持構造体）１１０は、円筒状の投影光学系３０の外径よりもやや大きく形成された穴部１１３を備える鏡筒支持盤１１１と、鏡筒支持盤１１１の外周部に鏡筒支持盤１１１よりも上方に形成されて、基礎フレーム２００及び第２架台１２０と接続する第１架台接続部１１２とから構成される。第１架台接続部１１２は、第１架台１１０の安定性を考慮すると３箇所であることが望ましいが、これに限るのもではない。また、鏡筒支持盤１１１と第１架台接続部１１２とは、締結手段等で連結するのではなく、一体に形成される。
そして、鏡筒支持盤１１１の穴部１１３には、投影光学系３０が挿入されて、投影光学系のフランジ３１が鏡筒支持盤１１１の上面に支持される。
したがって、第１架台１１０は、露光装置ＥＸの横側面方向（図１の紙面方向）から見ると、逆アーチ形に形成されて、投影光学系３０を支持する。

第２架台（第２支持構造体）１２０は、レチクルステージ２０を戴置する支持盤１２１と、支持盤１２１の外周部の下面から下方に伸びて、第１架台１１０と連結される第２架台接続部１２２とから構成される。第２架台接続部１２２は、第２架台１２０の安定性を考慮すると３箇所であることが望ましいが、これに限るものではない。また、支持盤１２１と第２架台接続部１２２とは、締結手段等で連結されるのではなく、一体に形成される。したがって、第２架台１２０は、第１架台１１０とは対称的にアーチ形に形成される。また、支持盤１２１のＹ方向の両端には、後述する支持部材３００と当接するためにＹ方向に突出する係合部１２３，１２４が形成される。本例では、係合部１２３，１２４は第２架台１２０と一体的に形成されているが、脱着可能な別部材としえ構成しても構わない。
そして、第２架台接続部１２２は、第１架台１１０の第１架台接続部１１２とボルト等を用いて締結される。なお、第２架台接続部と第１架台接続部とは、第１架台１１０に支持される投影光学系３０と第２架台１２０に支持されるレチクルステージ２０とが所定の位置関係となるように調整されて締結される。

そして、逆アーチ形に形成された第１架台１１０とアーチ形に形成された第２架台１２０とを連結して本体フレーム１００を構成することにより、従来に比べて本体フレーム１００を高剛性に構成させることができる。すなわち、従来の本体フレームは、２枚の平板の間に複数の支柱を配置してボルト等によって連結する構造であり、振動に伴う応力が集中する位置に剛性の低い連結部分が配置されるため、全体としては剛性が低くなる。一方、本体フレーム１００は、逆アーチ形に形成された第１架台１１０とアーチ形に形成された第２架台１２０とを連結して構成するため、振動に伴う応力が集中しやすい位置には連続した構造体が配置され、剛性の低い連結部分は応力が集中しづらい位置に配置される。
これにより、本体フレーム１００により体積及び重量が大きな投影光学系３０を戴置することができる。なお、本体フレーム１００は、基礎フレーム２００上に防振ユニット（防振装置）１５０（１５０Ａ〜１５０Ｃ、図３参照）を介して支持される。
防振ユニット１５０は、本体フレーム１００を支持するエアマウントと本体フレーム１００を非接触で駆動するアクチュエータとを備える。そして、防振ユニット１５０は、本体フレーム１００に取り付けられた加速度計と本体フレーム１００の位置を非接触で検出する位置センサ（いずれも不図示）と共に、床振動を遮断しつつ本体フレーム１００の位置を制御するアクティブ防振台を構成している。これにより、本体フレーム１００は基礎フレーム２００から振動的に分離され、能動的に防振支持される。

基礎フレーム（ベース構造体）２００は、図１等に示すように、ウエハステージシステム４０を戴置するとともに、クリーンルームの床面Ｆ上に足部２１３を介して略水平に設置される下部フレーム２１０と、本体フレーム１００を支持する上部フレーム２２０とから構成される。
下部フレーム２１０は、ウエハステージシステム４０を戴置する床部２１１と、床部２１１の上面から上方に所定の長さで伸びる３本の支柱２１２とを備える。床部２１１と３本の支柱２１２とは、締結手段等で連結される構造ではなく、一体に形成される。
上部フレーム２２０は、梁部２２１と３本の支柱２２２とを備え、梁部２２１が３本の支柱２２２同士をそれらの上端において連結するように構成される。なお、梁部２２１と３本の支柱２２２とは、締結手段等で連結される構造ではなく、一体に形成される。
そして、支柱２１２，２２２のそれぞれが、ボルト等により締結される。これにより、基礎フレーム２００は、いやゆるラーメン構造（図３参照）となり、従来に比べて、高剛性に構成される。

なお、基礎フレーム２００を下部フレーム２１０と上部フレーム２２０との上下二分割構造とするのは、基礎フレーム２００の加工上の制約からであり、上下二分割にすることにより、下部フレーム２１０、上部フレーム２２０の加工（特に内面側の加工）が容易となるからである。また、下部フレーム２１０と上部フレーム２２０とを一体として形成（鋳造等）した後に上下二分割に切断してもよく、また、それぞれを別々に形成してもよい。
また、支柱２１２，２２２とは、略同一長さに形成されて締結されるので、露光装置ＥＸの振動に伴う応力が集中しやすい部分（各支柱２１２，２２２の根元部分）には連続した構造体が配置され、剛性の低い連結部分は応力が集中しづらい位置に配置される。
これにより、より体積及び重量が大きなウエハステージシステム４０を戴置するとともに、より体積及び重量が大きな投影光学系３０を含む本体フレーム１００を支持することが可能となる。すなわち、開口数ＮＡの大型化による微細パターンの形成と、ウエハＷの大判化によるスループットの向上を実現することができる。

基礎フレーム２００の上面には、支持部材３００が戴置される。支持部材３００は、露光装置ＥＸのメンテナンス（分解作業）時に、第２架台１２０における係合部１２３，１２４と当接し、更に第２架台１２０を押し上げることにより、第２架台１２０を第１架台１１０から離間させて本体フレーム１００の分解作業を補助する部材である。
支持部材３００は、露光装置ＥＸの第２架台１２０を取り囲む略四角形の枠形部材（３２０，３３０）と、その枠形部材を支持する４本の脚部３１０とから構成される。具体的には、４本の脚部３１０が基礎フレーム２００の上面のＹ方向の両端にそれぞれ２本づつ配置され、その２本の脚部３１０がＸ方向に平行に並ぶように立設する。そして、Ｘ方向に並ぶ２つの脚部３１０の上面には、Ｘ方向に平行に配置される２つの梁状のスライダ３２０が設けられ、更に２つのスライダ３２０の上面両端部にはＹ方向に伸びる２つのケーブルトレー部３３０（図１には不図示、図２参照）が連結される。
また、２つのスライダ３２０は、それぞれ第２架台１２０の係合部１２３，１２４の下方（−Ｚ方向）に所定の隙間を開けて位置するように配置される。すなわち、通常時には、支持部材３００と本体フレーム１００とは離間しており、支持部材３００を介して基礎フレーム２００からの振動が本体フレーム１００に伝わることがない。

図４は、脚部３１０及びスライダ３２０を示す斜視図及び断面図である。
脚部３１０は、図４（ａ），（ｂ）に示すように、断面コの字状の部材からなり、その上端及び１つの側面に開口部３１１が形成される。そして、開口部３１１が露光装置ＥＸの外周側を向くように配置される。そして、開口部３１１から脚部３１０の内部にジャッキ４１０を挿入できるようになっている。このジャッキ（アクチュエータ）４１０は、手動式或いは電動式であってもよく、また機械式、油圧式等であってもよい。そして、例えば、油圧式の場合には、ジャッキ４１０を動作させると、油圧シリンダがＺ方向に上昇し、脚部３１０の上部の開口部３１１において、脚部３１０上に配置されたスライダ３２０と当接する。更に油圧シリンダを伸ばすと、スライダ３２０をＺ方向に押し上げて、脚部３１０から離間させることができる。

２つのスライダ（スライド機構）３２０は、それぞれ上下２つの部材からなり、かつ２つの部材がＸ方向に沿って相対移動可能に構成される。具体的には、図４（ｃ）に示すように、断面形状が逆凹形の上部材３２１と、断面形状が凹形でかつその幅寸法が上部材３２１よりも狭く、上部材３２１と略同一長さの下部材３２２とから構成される。そして、上部材３２１に下部材３２２を嵌め合わせることにより、下部材３２２を上部材３２１に沿って移動させることが可能となる。なお、スライダ３２０は、通常時には、図２に示すように、最も縮んだ状態で保持され、露光装置ＥＸのメンテナンス（分解作業）時にのみ上部材３２１を下部材３２２に沿って移動させる。
そして、上部材３２１を下部材３２２に沿って移動させる際には、上部材３２１と下部材３２２との接触部に圧縮空気を供給することにより空気軸受を構成し、上部材３２１に対する下部材３２２の移動が円滑になるようにしてもよい。或いは、スライダ３２０の両端に形成される開口３２３からスライダ３２０の内部に取り外し可能なエアボールリフタ４２２を挿入し、上部材３２１に対する下部材３２２の移動が円滑になるようにしてもよい。すなわち、必要時にのみ、上部材３２１と下部材３２２との間に空気を供給（空気軸受（補助装置）４２１を形成）したり、エアボールリフタ（補助装置）４２２を取り付けたりすることで、スライダ３２０の移動動作を補助する。
なお、エアボールリフタ４２２とは、高精度加工されたボールトランスファにエアシリンダを組み合わせ、搬送物を空気圧で持ち上げ、水平方向に移動させることができる装置であり、エアボールリフタ４２２をスライダ３２０の内部に配置した後に空気を供給供給することにより、下部材３２２上に上部材３２１を浮上支持するものである。
以下の説明では、エアボールリフタ４２２を用いた場合について述べる。

図２に戻り、２つのケーブルトレー部（収納部）３３０は、露光装置ＥＸの各ユニット（レチクルステージ２０等）に電力或いは圧縮空気等を供給する電気ケーブル、空圧配管、液体配管等の配線３６１を収容する。露光装置ＥＸの高性能化に伴い電気制御を行うユニットが増加し、また高出力化も進んでいる。これにより、電気ケーブル及び空圧配管の数、径が増大傾向にある。また、露光装置ＥＸに要求される精度が厳しくなっているため、各ユニットの厳密な温度管理が必要となってきており、温調用流体を供給する液体配管の数も増大傾向にある。これら電気ケーブル、空圧配管、液体配管等の配線３６１を露光装置ＥＸの外部から各ユニットに接続する場合に、一旦、ケーブルトレー部３３０を経由して這わせることにより、配線３６１を整然と整列させることが可能となる。また、配線３６１がケーブルトレー部３３０を経由するように這わされるので、外部からの振動が配線３６１を介して露光装置ＥＸ（正確には、本体フレーム１００）に伝わることが抑制できる。なお、支持部材３００及び支持部材３００を支持する基礎フレーム２００は、振動的には、床面Ｆと同等として扱われているため、外部からの振動が配線３６１を介して基礎フレーム２００に伝わることは問題とならない。

図５は、支持部材３００に取り付けられた筐体３５０を示す図である。
ケーブルトレー部３３０には、図５に示すように、電気基板３６２等を収容する筐体３５０が取り付けられる。この電気基板３６２は、露光装置ＥＸの各ユニットを駆動或いは制御等するものであり、ケーブルトレー部３３０に収容されて引き回される配線３６１のうちの電気ケーブルが主に接続される。
筐体３５０の下面には、内部に収容した電気基板３６２から発生する熱を排出する排出装置３５３が設けられ、筐体３５０内の熱を露光装置ＥＸを覆うチャンバ（不図示）の外に排出する。なお、筐体３５０の上面には、通気孔と空気導入ダクト（いずれも不図示）とが設けられており、チャンバ外の空気を取り入れ可能としている。
更に、筐体３５０における露光装置ＥＸと対向する対向領域３５１には、断熱部材３５２が設けられ、筐体３５０から露光装置ＥＸへの熱伝達を抑えている。断熱部材３５２としては、発泡材をアルミニウム等の金属で包囲した断熱板や内部に真空空間を形成した真空断熱板の他、内部に流路を形成し、その流路に温調液体を流動させる温調パネルを用いることができる。
なお、ケーブルトレー部３３０と筐体３５０とは、蝶番３５４を介して連結され、投影光学系３０のメンテナンス時等には、図５において破線で示すように、筐体３５０を露光装置ＥＸの側面から移動させることにより、露光装置ＥＸの側面から投影光学系３０にアクセスする作業領域を確保できるようにしている。

続いて、以上のような構成を備えた露光装置ＥＸ、特に支持部材３００の作用について説明する。
まず、通常時には、露光装置ＥＸは、照明光のもとでレチクルＲの照明領域内のパターンの像を投影光学系３０を介して投影倍率βで表面にレジストが塗布されたウエハＷ上のスリット状の露光領域（照明領域に共役な領域）に投影する。この状態でレチクルＲとウエハＷとを同期して所定の走査方向（Ｙ軸方向）に移動することで、ウエハＷ上の一つのショット領域にレチクルＲのパターンを転写する。
この際、上述したように、配線３６１がケーブルトレー部３３０を経由して這わされているので、配線３６１の振動が露光装置ＥＸに伝わりづらくなっている。これにより微細なパターンを安定して転写することが可能となる。
また、支持部材３００に取り付けた筐体３５０には、筐体３５０内の熱を排出する排出装置３５３が設けられているので、筐体３５０の温度上昇が抑えられ、露光装置ＥＸの温度変化を抑えることができるとともに、露光装置ＥＸが収容されるチャンバ内の温度変化を略一定に維持することが可能となる。これにより、微細なパターンを安定して転写することができ、また、過熱による電気基板３６２の性能低下を抑えることができる。
更に、筐体３５０における支持部材３００との対向面側の領域３５１には、断熱部材３５２が設けられるので、筐体３５０から露光装置ＥＸへの熱伝達が抑えられ、微細なパターンを安定して転写することができる。

次に、露光装置ＥＸのメンテナンス作業時において、第１架台１１０と第２架台１２０とを分離する分解作業を行う場合について、図５及び図６を参照して説明する。
まず、前準備として、露光装置ＥＸの分解作業に支障が出ないように、支持部材３００から電気ケーブル、空圧配管等の配線３６１を取り外す。また、第１架台１１０の第１架台接続部１１２と第２架台１２０の第２架台接続部１２２とを締結するボルト等を取り外し、第１架台１１０と第２架台１２０との接合を解除する。
そして、支持部材３００の４本の脚部３１０の内部に開口部３１１からジャッキ４１０を入れる。更に、２つのスライダ３２０の内部に開口３２３からエアボールリフタ４２２を挿入する。すなわち、４つのジャッキ４１０と２つのエアボールリフタ４２２を支持部材３００に取り付ける。

次いで、４本の脚部３１０にそれぞれ挿入したジャッキ４１０を略同時に動作させ、ジャッキ４１０のシリンダをＺ方向に伸ばし、脚部３１０上に配置されたスライダ３２０と当接させ、更に脚部３１０から離間させる。
そして、引き続きシリンダをＺ方向に伸ばしてスライダ３２０を押し上げ、スライダ３２０の上部材３２１を第２架台１２０の係合部１２３，１２４に当接させる。更にシリンダをＺ方向に伸ばして、図６に示すように、第２架台１２０を第１架台１１０からＺ方向に離間させる。
このようにして、４つのジャッキ４１０を支持部材３００に取り付けることにより、フォークリフトやクレーン等の重機を用いることなく容易に第２架台１２０を持ち上げて、第１架台１１０から分離させることができる。

次いで、２つのスライダ３２０にそれぞれ挿入したエアボールリフタ４２２に圧縮空気を供給して、略同時に動作させる。これにより、下部材３２２上に上部材３２１が水平移動可能に支持されるので、第２架台１２０を軽くＸ方向に押圧することにより、図７に示すように、第２架台１２０を容易に投影光学系３０の上方から、露光装置ＥＸの側部側に移動（退避）させることができ、投影光学系３０の周囲にメンテナンス用の作業空間を確保することができる。

次に、第１架台１１０と第２架台１２０との分離作業に引き続き、投影光学系３０を交換する場合について、図８及び図９を参照して説明する。図８（ａ）〜（ｃ）は第２架台１２０を基礎フレーム２００から分離する手順を示す模式図である。
投影光学系３０を交換する場合、第２架台１２０は、投影光学系３０の上方から完全に退避する必要があるので、図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、基礎フレーム２００に替わって第２架台１２０を支持する支持台としての第２架台支持工具（支持台）５００が露光装置ＥＸの側部に配置される。なお、第２架台支持工具は、キャスターを有しており、床面Ｆ上を移動可能である。

投影光学系３０の交換作業にあたり、まず、第２架台１２０はジャッキ４１０によって持ち上げられた支持部材３００と当接し、Ｘ方向に移動しても投影光学系３０と干渉しない高さで支持される（図８（ａ））。そして、支持部材３００が備えるスライダ３２０により第２架台１２０を露光装置ＥＸのＸ方向側部に移動する（図８（ｂ））。ここまでの手順は、上述した分解作業と同様である。
第２架台支持工具５００は、支持部材３００のスライダ３２０の上部材３２１と係合可能なローラー部５１０を有している。このローラー部５１０はをジャッキ４１０によって持ち上げられたスライダ３２０の下部材３２２と一直線になるように配置することにより第２架台１２０を上部材３２１と共に基礎フレーム２００から第２架台支持工具５００へと移動させることができる。そして、第２架台１２０は、基礎フレーム２００から第２架台支持工具５００へと受け渡され、第２架台支持工具５００上で支持される（図８（ｃ））。
これによれば、簡単な工具で第２架台１２０を露光装置ＥＸから容易に分離することができる。また、投影光学系３０の上方空間が開放されるので、投影光学系３０の交換に必要な作業空間を確保することができる。

図９は、投影光学系３０を第１架台１１０から分離する手順を模式的に示した図である。投影光学系３０の交換は、第２架台１２０が基礎フレーム２００から第２架台支持工具５００に受け渡された後に行われる。そして、投影光学系３０の分離作業には、図９（ａ）〜（ｃ）に示す投影光学系交換工具６００が用いられる。投影光学系交換工具６００は、キャスターを有し床面Ｆ場を移動可能な本体部６１０と、投影光学系３０を引き上げる起重装置６２０とを有しており、起重装置６２０は本体部６１０上に戴置される。
まず、投影光学系交換工具６００は第２架台支持工具５００とは反対側の露光装置ＥＸの側部に配置され、本体部６１０が第１架台１１０とガイドレール６３０を介して連結される（図９（ａ））。ガイドレール６３０は、投影光学系３０の前後に２本配置される。そして、起重装置６２０は、このガイドレール６３０に沿って移動して本体部６１０から第１架台１１０へと移載され、第１架台１１０上で固定される。起重装置６２０は、モータ６２１によって投影光学系３０を吊り上げて第１架台１１０から引き抜き（図９（ｂ））、投影光学系３０を保持したまま本体部６１０へ移動する（図９（ｃ））。
このようにして、比較的小さくて簡便な工具で投影光学系３０を第１架台１１０から容易に分離することができる。そして、その後、新たな投影光学系３０を上述とは逆の手順で第１架台１１０へ搭載し、投影光学系３０の交換作業が完了する。

以上説明したように、本発明によれば、露光装置ＥＸに支持部材３００を設けることにより、第２架台１２０を第１架台１１０から分離して支持部材３００で支持することができる。そして、ジャッキ４１０やエアボールリフタ４２２を用いることにより、フォークリフトやクレーン等の重機を用いることなく、容易に第２架台１２０を投影光学系３０の上方から退避させることができる。
また、ジャッキ４１０及びエアボールリフタ４２２が支持部材３００に脱着可能に取り付けられているので、ジャッキ４１０及びエアボールリフタ４２２を露光装置ＥＸ毎に用意する必要がなく、複数の露光装置ＥＸで使いまわすことができるので、メンテナンスのための設備費を最小限に抑えることができる。更に、露光装置ＥＸが設置されるクリーンルーム等のように、天井までの高さが十分に確保できない場所においても、第１架台１１０と第２架台１２０とを分離させて、露光装置ＥＸから投影光学系３０を取り外すことが可能となる。これにより、メンテナンス時間及び露光装置ＥＸのダウンタイムを短縮することができる。
なお、分解作業の完了後に露光装置の組立作業を行う場合には、上述した作業を逆戻りする手順とすることにより、容易かつ安定して組立作業を行うことができる。

なお、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。

上述した実施形態においては、本体フレーム１００を逆アーチ形の第１架台１１０とアーチ形の第２架台１２０で構成する場合について説明したが、これに限らない。従来の本体フレームのように、平板形の第１架台、第２架台と複数の支柱で構成される場合であってもよい。
また、基礎フレーム２００が上下分割構造の場合について説明したが、これに限らない。従来の基礎フレームのように、平板形の床部上に複数の支柱が配置される構成であってもよい。

レチクルステージとしては、本実施形態のように、１枚のレチクルを用いるシングルホルダ方式のレチクルステージに限らず、１つの可動ステージ上で２枚のレチクルを保持するダブルホルダ方式のレチクルステージや、２枚のレチクルを互いに独立の可動ステージ上に載置するダブル・レチクルステージとしても良い。

また、本発明が適用される露光装置として、マスクと基板とを静止した状態でマスクのパターンを露光し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置を用いてもよい。

また、本発明が適用される露光装置として、投影光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置を用いてもよい。

また、露光装置の用途としては半導体デバイス製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。

また、本発明が適用される露光装置の光源は、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（LaB6）、タンタル（Ta）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合、マスクを用いる構成としてもよいし、マスクを用いずに直接基板上にパターンを形成する構成としてもよい。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。

また、投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（このとき、レチクルも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。

また、ウエハステージやレチクルステージにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。さらに、ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。

ウエハステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。

レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。

また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行う工程、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する工程、シリコン材料からウエハを製造する工程、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理工程、デバイス組み立て工程（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査工程等を経て製造される。

露光装置ＥＸの構成を表した模式図 露光装置ＥＸの斜視図 露光装置ＥＸの分解斜視図 脚部３１０及びスライダ３２０を示す斜視図及び断面図 筐体３５０を示す図 本体フレーム１００の分解作業を示す図 図６に続く分解作業図 第２架台１２０を基礎フレーム２００から分離する手順を示す図 投影光学系３０を第１架台１１０から分離する手順を示す図

符号の説明

２０ レチクルステージ（マスクステージ）
３０ 投影光学系
１１０ 第１架台（第１支持構造体）
１２０ 第２架台（第２支持構造体）
１５０ 防振ユニット（防振装置）
２００ 基礎フレーム（ベース構造体）
３００ 支持部材
３２０ スライダ（スライド機構）
３３０ ケーブルトレー部（収納部）
３５０ 筐体
３５１ 領域
３５２ 断熱部材
３５３ 排出装置
３６１ 配線
３６２ 電気基板
４１０ ジャッキ（アクチュエータ）
４２１ 空気軸受（補助装置）
４２２ エアボールリフタ（補助装置）
５００ 第２架台支持工具（支持台）
６２０ 起重装置
Ｒ レチクル（マスク）
Ｗ ウエハ（基板）
ＥＬ 露光光
ＥＸ 露光装置

Claims (16)

1. マスクから射出された露光光を基板上に照射する投影光学系を支持する第１支持構造体と、前記第１支持構造体上に立設して前記第１支持構造体によって支持され、前記マスクを保持するマスクステージを支持する第２支持構造体と、を備える露光装置において、
   前記第１支持構造体による支持を解き、前記第２支持構造体を前記第１支持構造体から鉛直方向に離間させて支持するために前記第２支持構造体と当接する支持部材を備えることを特徴とする露光装置。
2. 前記支持部材は、前記第１支持構造体を防振装置を介して支持するベース構造体上に配置されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記支持部材を鉛直方向に移動させるアクチュエータが前記支持部材に着脱可能に連結されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
4. 前記支持部材は、前記第２支持構造体を前記第１支持構造体に対して水平移動させるスライド機構を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記スライド機構による前記第２支持構造体の水平移動を補助する補助装置が前記支持部材に着脱可能に連結されることを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の露光装置。
6. 前記支持部材は、前記第１支持構造体及び／又は前記第２支持構造体に向けて敷設される配線を収納して引き回す収納部を備えることを特徴とする請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記支持部材は、前記配線が連結される電気基板を収納する筐体を支持することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記筐体は、収納した前記電気基板から発生する熱を排出する排出装置を有することを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記筐体は、前記第１支持構造体及び／又は前記第２支持構造体と対向する領域に、断熱部材を備えることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の露光装置。
10. マスクから射出された露光光を基板上に照射する投影光学系を支持する第１支持構造体と、マスクステージを戴置し、前記第１支持構造体に支持される第２支持構造体と、前記第１支持構造体を防振装置を介して支持するベース構造体と、を備える露光装置において、
    前記ベース構造体と前記第２支持構造体との間に配置され、前記第２支持構造体と当接することにより前記第１支持構造体に替わって前記第２支持構造体を前記ベース構造体に対して支持可能である支持部材を備えることを特徴とする露光装置。
11. 前記支持部材は、前記第２支持構造体を前記ベース構造体に対して支持する支持力を発生するアクチュエータが脱着可能に取り付けられることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. 前記支持部材は、支持している前記第２支持構造体を水平方向にスライドさせるスライド機構を有することを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の露光装置。
13. リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
14. マスクに形成されたパターンを投影する投影光学系と、前記投影光学系を支持する第１支持構造体と、前記第１支持構造体上に立設して前記マスクを前記投影光学系に対して支持する第２支持構造体と、前記第１支持構造体を支持するベース構造体とを有する露光装置の保守方法であって、
    前記第１構造体と前記第２構造体とを離間させ、前記第２構造体を前記第１構造体とは異なる支持部材を介して前記ベース構造体上で支持する工程と、
    前記ベース構造体で支持している前記第２構造体を前記ベース構造体とは異なる支持台に受け渡す工程とを有することを特徴とする保守方法。
15. 前記投影光学系を前記第１構造体から分離する起重装置を前記第１構造体上に戴置する工程と、
    前記投影光学系を前記起重装置を用いて前記第１構造体から分離するとともに前記投影光学系を前記起重装置で保持する工程と、
    前記投影光学系を保持した前記起重装置を前記第１構造体から退避させる工程とを有することを特徴とする請求項１４に記載の保守方法。
16. マスクに形成されたパターンを投影する投影光学系と、前記投影光学系を支持する第１構造体とを有する露光装置の保守方法であって、
    前記投影光学系を前記第１構造体から分離する起重装置を前記第１構造体上に戴置する工程と、
    前記投影光学系を前記起重装置を用いて前記第１構造体から分離するとともに前記投影光学系を前記起重装置で保持する工程と、
    前記投影光学系を保持した前記起重装置を前記第１構造体から退避させる工程とを有することを特徴とする保守方法。
    
    
    

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